[发明专利]电子照相感光构件、处理盒和电子照相设备有效
申请号: | 200780004064.7 | 申请日: | 2007-01-30 |
公开(公告)号: | CN101379438A | 公开(公告)日: | 2009-03-04 |
发明(设计)人: | 大垣晴信;植松弘规;川原正隆;大地敦;寺本杏一;岛田明;丸山晶夫;菊地宪裕;小金井昭雄;角田隆行 | 申请(专利权)人: | 佳能株式会社 |
主分类号: | G03G5/147 | 分类号: | G03G5/147;G03G5/00;G03G5/04 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所 | 代理人: | 刘新宇;李茂家 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 电子 照相 感光 构件 处理 设备 | ||
1.一种电子照相感光构件,其包括支承体和在其上设置的 感光层;其中所述电子照相感光构件具有存在多个相互独立的 凹陷部的表面;其中各凹陷部的长轴径由Rpc表示,显示各凹 陷部最深处与其开口间距离的深度由Rdv表示,所述凹陷部各 自具有深度与长轴径比Rdv/Rpc为大于1.0至7.0以下;和
其中,所述凹陷部的平均深度Rdv-A为大于3.0μm至10.0μm 以下。
2.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,其在所述电 子照相感光构件表面的100μm见方的正方形中具有50以上至 70,000以下个凹陷部。
3.根据权利要求1所述的电子照相感光构件,其中所述电 子照相感光构件表面的凹陷部的平均深度Rdv-A与平均长轴径 Rpc-A之比Rdv-A/Rpc-A为大于1.0至7.0以下。
4.根据权利要求3所述的电子照相感光构件,其中所述凹 陷部的平均深度Rdv-A与平均长轴径Rpc-A之比Rdv-A/Rpc-A为 1.3以上至5.0以下。
5.一种处理盒,其包括根据权利要求1所述的电子照相感 光构件,和选自由充电装置、显影装置和清洁装置组成的组中 的至少一种装置;所述处理盒可拆卸地安装在电子照相设备的 主体上。
6.一种电子照相设备,其包括根据权利要求1所述的电子 照相感光构件、充电装置、曝光装置、显影装置和转印装置。
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