[实用新型]直线运动装置

说明书

技术领域

本实用新型是关于一种直线运动装置，特别是有关一种直线运动装置的降阻力结构。

背景技术

传统的直线运动轨道结构(请参阅图1所示)提供两对象进行相对直线运动，并具有降低阻力以及导引的结构，在这类结构中，其轨道两侧具有一导引组件槽，设置有多个导引组件，导引组件系沿着该轨道两侧平行设置，其承载组件平行设置有多个呈对称配置的滑动组件，且滑动组件的设置对应于导引组件，并具有一导引槽设置于两侧以容纳导引组件。然而，虽然线接触的方式可承受较大的冲击力而不容易损坏，且在工作时具有较高的稳定性，但因其接触面积较大而具有较高的磨擦力，因此在承载组件移动时需消耗更多的能量来移动。

另外，传统的直线运动轨道结构的导引组件与导引组件槽及导引槽的接触面十分密合，在考虑降低摩擦力的情况下，此接触面须利用润滑剂来降低其摩擦力，但因接触面的密合度，使润滑剂无法有效降低其摩擦力。因此，实用新型人基于前述理由，因而进行改良习用直线运动轨道技术所具有的缺失。

实用新型内容

本实用新型的直线运动装置，主要提供一直线运动轨道及设置于轨道两侧平行之导引组件，并透过滑动组件与导引组件间的线接触作为承载组件与轨道之间的直线运动。

基于前述目的，本实用新型所述的直线运动装置具有一轨道，其两侧具有一导引组件槽，设置有多个导引组件，所述导引组件延着轨道两侧平行设置；一承载组件，平行设置有多个对称配置的滑动组件，且滑动组件的设置是对应于导引组件，并具有一导引槽设置于两侧以连接导引组件，及第一降阻力槽，平行设置于导引组件槽内。

本实用新型所述的降阻力槽可分别设置于导引组件槽或是导引槽内。

本实用新型所述的直线运动装置中，其中，所述第一降阻力槽为多个垂直所述轨道纵向的刀痕所排列而成的凹槽。

本实用新型所述的直线运动装置，其中，所述第一降阻力槽为珠击凹陷所组成的凹槽。

本实用新型所述的直线运动装置，其中，所述第一降阻力槽设置于所述导引组件槽的单侧。

本实用新型所述的直线运动装置，其中，所述第一降阻力槽设置于所述导引组件槽的两侧。

本实用新型所述的直线运动装置，其中，所述承载组件的导引槽内设有一第二降阻力槽。

本实用新型所述的直线运动装置，其中，所述第二降阻力槽为多个垂直所述轨道纵向之刀痕所排列而成之凹槽。

本实用新型所述的直线运动装置，其中，所述第二降阻力槽为珠击凹陷所组成的凹槽。

本实用新型所述的直线运动装置，其中，所述第二降阻力槽设置于所述导引槽的单侧。

本实用新型所述的直线运动装置，其中，所述第二降阻力槽设置于所述导引槽的两侧。

本实用新型具有较高之承载能力。此外，本实用新型的直线运动装置，在导引组件槽或导引槽内设有降阻力槽，以减少与导引组件的接触面积及容纳更多润滑剂，以达到降低摩擦力的目的。

附图说明

图1为显示传统直线运动轨道之立体分解图；

图2为显示本实用新型直线运动装置第一实施例的立体分解图；

图3为显示图2的剖视图；

图4为显示图3中虚线部份的放大图；

图5为显示本实用新型直线运动装置第二实施例的剖视图；

图6为显示图5中虚线部份的放大图；

图7A与图7B显示本实用新型直线运动装置中第一降阻力槽的侧视图。

其中，附图标记说明如下：

1轨道

2承载组件

3导引组件

4导引组件槽

5滑动组件

10轨道

11导引组件

12导引组件槽

13第一降阻力槽

20承载组件

21滑动组件

22导引槽

23第二降阻力槽

具体实施方式

图2显示本实用新型直线运动装置第一实施例之立体分解图；图3为本实用新型图2的剖视图。