[实用新型]一种用于三相浆态床反应器的气相介质分布器

说明书

技术领域

本实用新型涉及一种流体分布器，尤其涉及一种用于三相浆态床反应器的气相介质分布器。

背景技术

在化学工业领域中，流体分布器是一种最为常见的用于流体分布的构件，如以合成气制取气体或液体燃料，通常在三相浆态床反应器中，在催化剂的存在下进行，而进入反应器的合成气的分布的状态，将直接影响反应的效率。

目前，常规的分布器，分布的效果不理想，很难用于以合成气制取气体或液体燃料的三相浆态床中，因此，设计一种新的气相介质分布器，以适应采用三相浆态床、以合成气制取气体或液体燃料的需要，是有关部门所十分期望的。

发明内容

本实用新型需要解决的技术问题是公开一种用于三相浆态床反应器的气相介质分布器，以克服现有技术存在的上述缺陷。

本实用新型所说的用于三相浆态床反应器的气相介质分布器，包括：

气体入口管、气体导入管、导气管、多孔气体分配构件和撞击底板；

所说的气体入口管固定在反应器的内壁，所说的气体导入管设置在气体入口管的下侧，并与气体入口管相连通；

所说的导气管的一端与多孔气体分配构件相连通，所说的多孔气体分配构件上开有多个开口朝下的锐孔，撞击底板设置在多孔气体分配构件的下方，以密封方式与反应器的内壁相固定，撞击底板与多孔气体分配构件之间的空腔为撞击室，撞击底板与气体入口管之间的空腔为气体缓冲室，导气管的另一端穿过撞击底板，与气体缓冲室相连通；

入口气体由气体入口管进入气体导入管，然后进入气体缓冲室，再由导气管进入多孔气体分配构件，用于对气体的初步分配，通过开口朝下的锐孔，在撞击室内完成气体的撞击，以强化传质，然后向上进入反应器上部；

与现有的技术相比，本实用新型的显著优点在于：通过分布器的阻力降来控制气速，气体在反应器内部形成内循环，可以有效地防止催化剂沉降、促进催化剂在反应器轴向分布均匀和改善塔内温度分布，能耗低，易于实现大型化。

附图说明

图1为星形多孔气体分配构件示意图。

图2为图2的A-A向视图。

图3为网格形多孔气体分配构件示意图。

具体实施方式

参见图1和图2，本实用新型所说的用于三相浆态床反应器的气相介质分布器，包括：气体入口管1、气体导入管2、导气管4、多孔气体分配构件5和撞击底板3；

所说的气体入口管1固定在反应器10的内壁，所说的气体导入管2设置在气体入口管1的下侧，并与气体入口管1相连通；

所说的导气管4的一端与多孔气体分配构件5相连通，所说的多孔气体分配构件5上开有多个开口朝下的锐孔7，撞击底板3设置在多孔气体分配构件5的下方，以密封方式与反应器10的内壁相固定，撞击底板3与多孔气体分配构件(5)之间的空腔为撞击室8，撞击底板3与气体入口管1之间的空腔为气体缓冲室9，导气管4的另一端穿过撞击底板3，与气体缓冲室3相连通；

所说的多孔气体分配构件5可以采用多种形式，如底部设有锐孔7的环管、如图1和图2所示3～30根底部设有锐孔7的直管构成的星形或如图3所示的底部设有锐孔7的直管构成的网格形；

锐孔7的直径为0.4～10mm，开孔率为0.01～2.0％；

优选的，撞击底板3形状为弧形或圆弧形，弧度为120°～150°；

优选的，导气管4的直径与气体入口管1的直径之比为0.5～5。