[实用新型]电浆抛光设备

说明书

技术领域：

本实用新型涉及抛光设备技术领域，特别涉及电浆抛光设备。

背景技术：

为了使金属表面更平滑、没有毛刺，需要对产品进行抛光处理，抛光设备有许多不同的类型，例如ZL99109433.6公开的《表面抛光机械》，其是一种机械抛光设备，对于较精细的物件进行抛光时效果较差；而ZL02263565.3公开的《电化学抛光机》，其是采用电解技术进行抛光处理，该专利公开的抛光机使用效果不佳，另外，由于采用了电化学技术进行抛光，应该尽量避免使用。

实用新型内容：

本实用新型的目的是针对现有技术的不足而提供电浆抛光设备。

为达到上述目的，本实用新型采用如下技术方案：

它包括有反应槽，反应槽上方固定有放置盖，放置盖顶部固定有汽缸，汽缸的伸缩杆朝下且固定连接物料挂，反应槽内设置有与外部电源连接的正、负电极。

所述的放置盖呈方形且无底，其底部与反应槽固定连接，放置盖的其中一块侧板为可活动开合的活动板。

所述的反应槽配有进料管及引流管。

本实用新型的有益效果在于，将待抛光物挂于物料挂上，然后将物料挂送入储有反应液的反应槽内，对反应槽内的电极通电，通过在高电压下产生离子束放电效应进行抛光和去处毛刺处理，抛光效果好，且具有高效、环保等独特优点。

附图说明：

下面结合附图对本实用新型作进一步的说明：

图1是本实用新型的结构示意图

具体实施方式：

以下所述仅为本实用新型的较佳实施方式，并不因此而限定本实用新型的保护范围。

见附图1，本实用新型包括有反应槽10，反应槽10内储有反应液，反应槽10上方固定有放置盖30，放置盖30顶部固定有汽缸40，汽缸40的伸缩杆朝下且固定连接物料挂20，待抛光处理的产品即挂于物料挂20上，通过启动汽缸40，可以将物料挂20送入反应槽10内进行抛光，反应槽10内设置有与外部电源连接的正、负电极，加工时，需要对反应槽10内的电极加200-400V的直流高电压进行抛光处理。

所述的放置盖30呈方形且无底，其底部与反应槽10固定连接，放置盖30的其中一块侧板为可活动开合的活动板50，放置盖30既用于汽缸40的固定，又用于加装待抛光产品，加工时，将活动板50合上，还可保护操作员的人身安全。

所述的反应槽10配有进料管60及引流管70，反应液由进料管60送入，废液由引流管70引出。

本抛光设备采用将待抛光物置入反应槽的反应液中，在高电压下产生离子束放电效应进行抛光和去处毛刺处理，所采用的方法区别于传统的电解抛光，具有高效、环保等独特优点，设备本身具有结构简单、使用方便等优点。