[实用新型]自净式水箱无效

专利信息
申请号: 200720042446.6 申请日: 2007-10-29
公开(公告)号: CN201125410Y 公开(公告)日: 2008-10-01
发明(设计)人: 姜全德;戴文源 申请(专利权)人: 姜全德;戴文源
主分类号: E03B11/02 分类号: E03B11/02
代理公司: 昆山四方专利事务所 代理人: 盛建德
地址: 215300江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 自净 水箱
【说明书】:

技术领域

本实用新型涉及一种自来水水箱。

背景技术

目前高层建筑的生活供水有的需设水箱,然而目前所用的水箱需人工定时清洗,费时费力。也有人设计了一种半人工清洗式水箱,它是在水箱底部设类似清洁刷之类装置,通过清洁刷的人工转动实现清洗,然这种设计使用不方便,因长期使用清洁刷本身也有污染,且一旦清洁刷损坏就没有清洁效果,工作可靠性较差。

发明内容

为了克服上述缺陷,本实用新型提供一种自净式水箱,该自净式水箱设计合理、使用方便、清洁效果好、成本低且工作可靠。

本实用新型为了解决其技术问题所采用的技术方案是:一种自净式水箱,箱体呈纵向设置,箱体由贮水区和沉淀区组成,沉淀区在贮水区的下方,贮水区和沉淀区由锥体形隔板分开(这样贮水区、沉淀区互不干扰并利于水中沉淀物沿锥面下滑至沉淀区),沉淀区底部呈倒锥体形(整个沉淀区纵向中心截面呈菱形),锥形隔板的周边缘与箱体内壁间有一定间隙(是贮水区与沉淀区的第一通道),沉淀区底部中心(为倒锥顶)设有清污口,贮水区设有一进出水管,部分进出水管呈纵向设置且处于贮水区中心,进出水管上端开口连通自来水管,进出水管下端开口于贮水区下部的箱体立面(实现向外供水),呈纵向设置的部分进出水管上间隔设有若干个进出水孔,确保贮水区在进水、出水中水体相对平静,少扰动。

本实用新型的进一步技术方案是:

进出水管呈L型(即进出水管由纵向段和水平段组成),其纵向段上端开口位于箱体顶部,其水平段下端开口于贮水区下部且伸出箱体外。

锥形隔板顶部(为锥顶)设有一顶部孔,锥形隔板顶部内设有一平板,平板上设有若干平板孔,是贮水区与沉淀区的第二通道,顶部孔与若干平板孔都呈错位设置,这样可减少对沉淀区的扰动。

低于所述间隙(第一通道)的沉淀区内壁上间隔设有若干块导流板,若干块导流板呈同一斜向设置,这样在排污时,清水进入沉淀区后与污水混合并自动形成旋转涡流,利于沉淀物向其底部中心的清污口集中,再加上第二通道清水的进入,形成排污时清水的多向流入,提高清污效果。

沉淀区底部呈倒圆锥体形。

本实用新型的有益效果是:本例设计合理,贮水区和沉淀区互不干扰,贮水区水体平静,设置两个锥面使沉淀物分别自动向沉淀区和清污口集中;又由于在贮水区和沉淀区之间设置了两个通道,并在第一通道下部设置了若干导流板,使沉淀区在排污时自动产生旋转涡流,而且清水多向进入,提高清污速度,清洁效果好,使用方便、稳定可靠。

附图说明

图1为本实用新型的示意图。

具体实施方式

实施例:一种自净式水箱,箱体1呈纵向设置,箱体由贮水区2和沉淀区3组成,沉淀区在贮水区的下方,贮水区和沉淀区由锥体形隔板4分开(这样贮水区、沉淀区互不干扰并利于水中沉淀物沿锥面下滑至沉淀区),沉淀区底部5呈倒锥体形(整个沉淀区纵向中心截面呈菱形),锥形隔板的周边缘与箱体内壁间有一定间隙6(是贮水区与沉淀区的第一通道),沉淀区底部中心(为倒锥顶)设有清污口7,贮水区设有一进出水管8,部分进出水管9呈纵向设置且处于贮水区中心,进出水管上端10开口连通自来水管,进出水管下端11开口于贮水区下部的箱体立面(实现向外供水),呈纵向设置的部分进出水管上间隔设有若干个进出水孔12,确保贮水区在进水、出水中水体相对平静,少扰动。

进出水管呈L型(即进出水管由纵向段和水平段组成),其纵向段上端开口位于箱体顶部,其水平段下端开口于贮水区下部且伸出箱体外。本例中:进出水管上端也可开口于箱体立面,同样为本例要求保护范围。

锥形隔板顶部(为锥顶)设有一顶部孔13,锥形隔板顶部内设有一平板14,平板上设有若干平板孔15,是贮水区与沉淀区的第二通道,顶部孔与若干平板孔都呈错位设置,这样可减少对沉淀区的扰动。

低于所述间隙(第一通道)的沉淀区内壁上间隔设有若干块导流板16,若干块导流板呈同一斜向设置,这样在排污时,清水进入沉淀区后与污水混合并自动形成旋转涡流,利于沉淀物向其底部中心的清污口集中,再加上第二通道清水的进入,形成排污时清水的多向流入,提高清污效果。

沉淀区底部最好呈倒圆锥体形,利于沉淀物向其底部中心的清污口集中。

本例中,为了防止意外溢出,同样要装普通水箱中所用的液位控制和溢流等装置,此装置为现有技术本例不再重述。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于姜全德;戴文源,未经姜全德;戴文源许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200720042446.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top