[发明专利]镀膜修正板

说明书

技术领域

本发明涉及镀膜装置，尤其涉及一种镀膜修正板。

背景技术

由于利用薄膜制程技术所生产的半导体产品和精密机械产品具有较高 的品质及较好的性能，因此，薄膜制程技术被广泛应用于半导体工业及精密 机械，并获得了迅速的发展。

一般地，镀膜方法主要包括离子镀膜法、射频磁控溅镀、真空蒸发法、 化学气相沉积法等。Ichiki,M.等人在2003年5月发表于2003 Symposium on  Design,Test,Integration and Packaging of MEMS/MOEMS的论文Thin film  formation-a fabrication on non-planar surface by spray coating method中介绍了 通过喷涂在非平面形成薄膜的方法。

对待镀膜产品的镀膜过程可通过镀膜机实现。镀膜仓是镀膜机中对待镀 膜产品进行镀膜的最重要机构。镀膜仓包括支撑架、电子枪及修正板。所述 支撑架用于承载多个待镀膜产品。所述电子枪用于发射电子束。所述修正板 安装于支撑架，用于调整待镀膜产品的镀膜厚度以及镀膜区域，其对于不同 的待镀膜产品和镀膜条件具有不同的形状和结构。现有技术中，由于修正板 具有固定的形状和结构，因此，一旦改变了镀膜仓中的待镀膜产品，就需要 另行制造、安装修正板，如此不但提高了生产成本，而且降低了生产效率， 不利于工业生产的进行。

因此，有必要提供一种可根据待镀膜产品及镀膜条件调整形状的镀膜修 正板。

发明内容

以下将以实施例说明一种可调整形状的镀膜修正板。

一种镀膜修正板，包括多个修正片及一个固定件，所述多个修正片对称 地固定于所述固定件的两侧，每一所述修正片均至少包括第一挡片及第二挡 片，所述第一挡片和第二挡片的形状、尺寸相配合，所述第一挡片为中空片 体，其具有一内部空腔以作为滑槽，用于使第二挡片设于所述滑槽中相对于 第一挡片滑动，从而改变镀膜修正板的形状。

本技术方案的镀膜修正板包括可以相互滑动的第一挡片和第二挡片，可 以根据待镀物品的镀膜要求使得第一挡片和第二挡片相互滑动从而调整、改 变镀膜修正板的形状和对待镀物品的遮挡面积，因此，本技术方案的镀膜修 正板可在不同待镀物品的不同镀膜要求下使用。

附图说明

图1是本技术方案第一实施例提供的镀膜修正板的分解图。

图2是本技术方案第一实施例提供的镀膜修正板具有较小遮蔽面积时的 示意图。

图3是本技术方案第一实施例提供的镀膜修正板具有较大遮蔽面积时的 示意图。

图4是本技术方案第一实施例提供的镀膜修正板设置了止滑件的示意 图。

图5是本技术方案第二实施例提供的镀膜修正板的分解图。

图6是本技术方案第二实施例提供的镀膜修正板具有较小遮蔽面积时的 示意图。

图7是本技术方案第二实施例提供的镀膜修正板具有较大遮蔽面积时的 示意图。

图8是本技术方案第二实施例提供的修正片与固定件之间具有一定安装 角度的示意图。

具体实施方式

下面将结合附图及实施例，对本技术方案提供的镀膜修正板作进一步的 详细说明。

请参阅图1，本技术方案第一实施例提供的镀膜修正板10包括一个修正 片100，所述修正片100包括第一挡片110及第二挡片120。所述第一挡片 110和第二挡片120可相互滑动，从而改变镀膜修正板10的形状。