[发明专利]涂层硬质合金端铣刀无效

专利信息
申请号: 200710199340.1 申请日: 2007-12-17
公开(公告)号: CN101204865A 公开(公告)日: 2008-06-25
发明(设计)人: 托尔比约恩·塞林德;苏珊·诺格伦;马茨·阿尔格伦;拉格纳·舍斯特伦;安德斯·强森 申请(专利权)人: 山特维克知识产权股份有限公司
主分类号: B32B33/00 分类号: B32B33/00;B32B9/00;C23C14/06;C23C14/54;B23C5/06
代理公司: 中原信达知识产权代理有限责任公司 代理人: 田军锋;郑立
地址: 瑞典桑*** 国省代码: 瑞典;SE
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摘要:
搜索关键词: 涂层 硬质合金 铣刀
【权利要求书】:

1.一种用于对硬度为HRC46以上的硬化钢进行半精加工和精加工的硬质合金端铣刀具,包括基底和耐磨涂层,其特征在于:

所述基底(a)包括:在Co粘结相中重量百分比为90-94%、优选91-93%的WC,还包括如下数量的Cr,即Cr/Co的重量比为0.05-0.18,优选0.06-0.16,更优选0.07-0.14,最优选0.075-0.13,并且

所述耐磨涂层(b)的厚度为1.8-9.5μm,优选2.5-6.0μm,其包括:

第一层(c),是硬质耐磨耐熔PVD AlMe氮化物或碳氮化物,其中Me是Zr、V、Nb、Cr或Ti,优选Ti,厚度为1.0-4.5μm,优选2.0-3.0μm,并且Al和Me的原子比为1.20-1.50,优选1.30-1.40,

第二层(d),是硬质耐磨耐熔PVD AlMe氮化物或碳氮化物,其中Me是Zr、V、Nb、Cr或Ti,优选Ti,厚度为0.5-4.5μm,优选1.0-2.0μm,并且Al和Me的原子比为1.30-1.70,优选1.50-1.60,并且

在所述第一层和所述第二层之间,是厚度在0.05-1.0μm,优选0.1-0.7μm的低Al层(e),层(e)的厚度小于所述第一层(c)和所述第二层(d)的最小厚度的0.95倍,优选小于0.8倍,更优选小于0.5倍,层(e)是AlMe氮化物或碳氮化物,其中Me是Zr、V、Nb、Cr或Ti,优选Ti,并且Al和Me的原子比为0-0.3,优选0-0.05,最优选MeN。

2.如前述权利要求所述的硬质合金端铣刀具,其特征在于,所述粘结相的Cr/Co比为0.07-0.14。

3.如前述权利要求所述的硬质合金端铣刀具,其特征在于,所述第一层和所述第二层都具有晶粒尺寸小于50nm,优选小于40nm的立方晶体岩盐结构的微晶。

4.如前述权利要求所述的硬质合金端铣刀具,其特征在于,所述低Al层(e)的微晶尺寸在垂直于晶粒成长方向上大于40nm,优选大于50nm,在平行于所述晶粒成长方向上大于100nm。

5.如前述权利要求所述的硬质合金端铣刀具,其特征在于,所述第一层(c)的残余压应力大于1000MPa,优选在1800至3500MPa之间,并且所述第二层(d)的残余压应力大于1000MPa,优选在1800至3500MPa之间。

6.如前述权利要求所述的硬质合金端铣刀具,其特征在于,所述低Al层(e)残余应力的绝对值小于600Mpa,为压应力或拉应力,优选小于300MPa,更优选小于80MPa。

7.一种制造用于对HRC46以上的硬化钢进行半精加工和精加工的硬质合金端铣刀具的方法,其特征在于以下步骤:

提供硬质合金端铣坯料,其成分包括Co粘结相中的重量百分比为90-94%,优选91-93%的WC,还包括以下数量的Cr,即所述Cr/Co的重量比为0.05-0.18,优选0.06-0.16,更优选0.07-0.14,最优选0.075-0.13,

湿磨碳化钨-钴亚微粉末,Cr3C2、Cr23C6和Cr7C3中的至少一种以获得浆料,

干燥所述浆料获得粉末,

将所述粉末压制成为棒,

在真空或氮气中烧结所述棒,以及

在烧结温度或在烧结的最后步骤中选择性的执行均衡气压步骤,

将所述棒料研磨为公差h6的圆柱形,

钻石砂轮配合使用乳胶切削液研磨凹槽,

在保持容器中的部分氮气压力的同时进行沉积,并适当选择活性蒸发源和比例,

耐磨涂层(b)的厚度为1.8-9.5μm,优选2.5-6.0μm,其包括

第一层(c),为硬质耐磨耐熔PVD AlMe氮化物或碳氮化物,其中Me是Zr、V、Nb、Cr或Ti,优选Ti,厚度为1.0-4.5μm,优选2.0-3.0μm,并且Al和Me的原子比为1.20-1.50,优选1.30-1.40,其工艺参数如下:所用设备中的电弧电流50-200A,优选120-160A,N2压力为5-50μbar,优选7-20μbar,并且沉积温度为400-700℃,优选550-650℃,以及基底偏压为-150到-300V,优选-170到-230V,

第二层(d),是硬质耐磨耐熔PVD AlMe氮化物或碳氮化物,其中Me是Zr、V、Nb、Cr或Ti,优选Ti,厚度为0.5-4.5μm,优选1.0-2.0μm,并且Al和Me的原子比为1.30-1.70,优选1.50-1.60,其工艺参数如下:设备中的电弧电流50-200A,优选120-160A,N2压力为5-50μbar,优选7-20μbar,并且沉积温度为400-700℃,优选550-650℃,以及基底偏压为-50到-140V,优选-80到-120V,以及

在所述第一层(c)和所述第二层(d)之间,是厚度在0.05-1.0μm,优选0.1-0.7μm的低Al层(e),其温度为400-700℃,优选550-650℃,所述基底偏压为-30到150V,优选-70到120V,所述电弧电流80-210A,优选140-190A。

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