[发明专利]瀑布式层流蚀刻切割方法无效
申请号: | 200710194619.0 | 申请日: | 2007-11-27 |
公开(公告)号: | CN101445328A | 公开(公告)日: | 2009-06-03 |
发明(设计)人: | 严立巍;范国胜 | 申请(专利权)人: | 光捷国际股份有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00;C03B33/00 |
代理公司: | 北京银龙知识产权代理有限公司 | 代理人: | 钟 晶 |
地址: | 台湾省*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 瀑布 层流 蚀刻 切割 方法 | ||
1.一种瀑布式层流蚀刻切割方法,是用以蚀刻切割光学玻璃成多个子玻璃,于每个子玻璃之间定义有切除区域,其特征在于,该蚀刻切割方法包含:
于该光学玻璃上覆盖有保护膜,并使该光学玻璃呈现倾斜状,未被该保护膜覆盖到的该光学玻璃的部分为该切除区域;以及
提供具有储存蚀刻溶液的长条状凹槽的蚀刻溶液释放器,并由该蚀刻溶液释放器的凹槽溢出的蚀刻溶液自然流下,而均匀地流经该光学玻璃,以便利用蚀刻溶液的蚀刻能力去除属于该切除区域的部分该光学玻璃。
2.如权利要求1所述的瀑布式层流蚀刻切割方法,其特征在于,还包括:左右移位该光学玻璃,使得流经该光学玻璃上的蚀刻溶液更均匀地流下。
3.如权利要求1所述的瀑布式层流蚀刻切割方法,其特征在于,基于倾斜状态的该光学玻璃,蚀刻该光学玻璃所产生的生成物,将随着剩余的蚀刻溶液一起顺着该光学玻璃的倾斜方向流下,使得该生成物不会残留在该光学玻璃上。
4.如权利要求3所述的瀑布式层流蚀刻切割方法,其特征在于,蚀刻该光学玻璃的蚀刻溶液为氟化氢溶液,而蚀刻该光学玻璃所产生的该生成物则为氟化硅。
5.如权利要求1所述的瀑布式层流蚀刻切割方法,其特征在于,该光学玻璃的倾斜角度影响蚀刻溶液停留在该光学玻璃上的时间长短,从而影响对该光学玻璃的蚀刻速率。
6.如权利要求1所述的瀑布式层流蚀刻切割方法,其特征在于,随着改变蚀刻溶液的温度,而影响对该光学玻璃的蚀刻速率。
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