[发明专利]一种用于投影系统的光源装置及投影显示装置无效
| 申请号: | 200710193704.5 | 申请日: | 2007-11-23 |
| 公开(公告)号: | CN101430493A | 公开(公告)日: | 2009-05-13 |
| 发明(设计)人: | 毕勇;成华;冯美岩;贾中达 | 申请(专利权)人: | 北京中视中科光电技术有限公司;中国科学院光电研究院 |
| 主分类号: | G03B21/20 | 分类号: | G03B21/20;G03B21/28;G02B5/08;G02B1/10;G02B27/09 |
| 代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 | 代理人: | 王 勇 |
| 地址: | 100086北*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 投影 系统 光源 装置 显示装置 | ||
1.一种用于投影显示的光源装置,包括被补充光源和激光光源,还包括用于将所述被补充光源发射的光与所述激光光源发射的激光合成一束的反射镜,所述反射镜包括用于反射所述被补充光源输出光的反射部分和使所述激光光源发出的激光直接通过的激光孔。
2.根据权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述反射镜的反射部分表面镀有增加被补充光源输出光束反射效率的高反膜。
3.根据权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述反射部分形状为平面、抛物面、双曲面或球面。
4.根据权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述激光光源与所述反射镜之间设有光束调整系统。
5.根据权利要求4所述的光源装置,其特征在于,所述光束调整系统包括光纤以及用于将所述激光耦合进所述光纤的耦合镜。
6.根据权利要求4所述的光源装置,其特征在于,所述光束调整系统还包括聚焦透镜。
7.根据权利要求6所述的光源装置,其特征在于,所述光束调整系统还包括扩束透镜。
8.根据权利要求1所述的光源装置,其特征在于,所述被补充光源为LED灯、超高压汞灯、金属卤素灯、氙灯、卤素灯。
9.一种投影仪,其特征在于,所述投影仪使用上述权利要求1-8任一项所述的光源装置作为投影仪的光源。
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