[发明专利]粘合剂及包括该粘合剂的感光组成物无效
申请号: | 200710122927.2 | 申请日: | 2007-07-04 |
公开(公告)号: | CN101230243A | 公开(公告)日: | 2008-07-30 |
发明(设计)人: | 俞美京 | 申请(专利权)人: | ICF科技有限公司 |
主分类号: | C09J133/10 | 分类号: | C09J133/10;G03F7/028;G03F7/027;G03F7/004 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周春发 |
地址: | 美国加州95054圣*** | 国省代码: | 美国;US |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 粘合剂 包括 感光 组成 | ||
技术领域
本发明涉及一种粘合剂及包括该粘合剂的感光组成物,尤其涉及一种用于制备黑矩阵的粘合剂及包括该粘合剂的感光组成物。
背景技术
彩色滤光片被广泛用在彩色电视机、液晶显示器、数码相机等电子设备中,用于从白光中滤出不同颜色的光,例如:红光、绿光、蓝光。典型的滤光片包括三个或更多形成在透明基材上的像素点图形以及黑矩阵。通常情况下,每个像素点图形分别对应红色、绿色及蓝色,像素点图形的精密度在几个微米之间。黑矩阵设置在各个像素点图形之间用于将每个像素点图形隔开,从而增加彩色滤光片的对比度。
黑矩阵通常用薄的金属薄膜,例如铬、镍及铝等形成。由这些金属形成黑矩阵具有优异的遮光性质,然而加工这些金属的工艺复杂,成本高昂且具有危险性。
因此用黑色颜料以及可固化树脂形成的黑矩阵被开发出来用于取代金属黑矩阵。可固化树脂用紫外光照射固化,然后用碱性蚀刻液蚀刻出图形。在蚀刻过程中的显影步骤中,多余的颜料以及树脂必须及时的溶解在碱性显影液中。然而在显影后不必要的颜料以及树脂组件在显影后仍然残留下来,或者在显影的过程中溶解的太快。
有鉴于此,有必要提供一种粘合剂,其在制备黑矩阵时的显影过程中可以在需求的时间内完成蚀刻,以及一种用于制备黑矩阵的感光组成物。
发明内容
以下将以实施例说明一种制备黑矩阵时的显影过程中可以在需求的时间内完成蚀刻的粘合剂,及一种包括该粘合剂的感光组成物。
所述粘合剂为单体M1、M2、M3及M4的共聚物,所述单体M1结构式为
单体M2、M3及M4结构式为且单体M2、M3及M4互不相同,其中R1、R2及R3选自氢原子或具有1-4个碳原子的烷基,R4为芳基、取代芳基、或从芳基衍生的官能团,R5选自氢、具有1至4个碳原子的烷基、芳基、取代芳基或芳基衍生的官能团,取代烷基或醚基,单体M1、M2、M3及M4聚合时单体M1的摩尔百分比大于0且小于等于80%,单体M2的摩尔百分比为10%到90%,单体M3的摩尔百分比为10%到90%,单体M4的摩尔百分比大于0且小于等于50%。
所述感光组成物包括粘合剂、光聚合引发剂,可交联单体、有机溶剂及黑色颜料,所述粘合剂为单体M1、M2、M3及M4的共聚物,所述单体M1结构式为
单体M2、M3及M4结构式为且单体M2、M3及M4互不相同,其中R1、R2及R3选自氢原子或具有1-4个碳原子的烷基,R4为芳基、取代芳基、或从芳基衍生的官能团,R5选自氢、具有1至4个碳原子的烷基、芳基、取代芳基或芳基衍生的官能团,取代烷基或醚基,单体M1、M2、M3及M4聚合时单体M1的摩尔百分比大于0且小于等于80%,单体M2的摩尔百分比为10%到90%,单体M3的摩尔百分比为10%到90%,单体M4的摩尔百分比大于0且小于等于50%。
所述粘合剂在制备黑矩阵时可以在预定的时间内蚀刻完成,因此可以提高产品的良率。而且所述粘合剂与基材之间具有良好的粘合力。
具体实施方式
第一实施例的用于制备彩色滤光片感光组成物包括粘合剂、光聚合引发剂、可交联单体、有机溶剂及黑色颜料。
第一实施例的粘合剂包括单体M1、M2、M3、M4的共聚物,其中单体M1可由以下通式表示:
其中,R1,R2以及R3可选自氢原子或具有1-4个碳原子的烷基,R4可为芳基、取代芳基、或从芳基衍生的官能团。
单体M1的具体实例包括芳基乙烯基化合物例如苯乙烯、α-甲基苯乙烯、邻甲基苯乙烯、间甲基苯乙烯、对甲基苯乙烯、对氯基苯乙烯、邻甲氧基苯乙烯,间甲氧基苯乙烯,对甲氧基苯乙烯,邻乙烯苯氯甲醚,间乙烯苯氯甲醚,对乙烯苯氯甲醚,间乙烯苯氯缩水甘油醚,对乙烯苯氯缩水甘油醚。
单体M2、M3及M4可由以下通式表示,但是单体M2、M3及M4互不相同:
其中R1、R2及R3可选自氢或具有1至4个碳原子的烷基。R5可选自氢、具有1至4个碳原子的烷基、芳基、取代芳基或芳基衍生的官能团,取代烷基或醚基。
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