[发明专利]相对于衍射光学部件移动射束以便减少干涉图案

权利要求书

1.一种辐射系统，包含：

辐射源，产生至少部分相干的光束；

角分布改变元件；以及

旋转光学元件，其被配置成可(a)接收来自所述辐射源的所述至少部分相干的光束以及(b)引导所述接收的部分相干的光束自所述角分布改变元件反射以此形成非相干光束，

其中基于所述旋转光学元件的旋转速度，所述部分相干的光束以变动的角度或位置被引导到所述角分布改变元件，所述角度作为时间的函数来变化。

2.如权利要求1所述的辐射系统，其中所述角分布改变元件包含散射器或散射器和反射装置。

3.如权利要求2所述的辐射系统，其中所述散射器包含湿法蚀刻的散射器或全息散射器。

4.如权利要求1所述的辐射系统，其中所述角分布改变元件包含衍射光学元件或衍射光学元件和反射装置。

5.如权利要求1所述的辐射系统，其中所述角分布改变元件包含折射光学元件、折射光学元件和透镜、或折射光学元件和反射装置。

6.如权利要求1所述的辐射系统，其中所述角分布改变元件包含波带透镜或波带片。

7.如权利要求1所述的辐射系统，其中所述角分布改变元件包含菲涅耳波带透镜或菲涅耳波带片。

8.如权利要求1所述的辐射系统，其中所述角分布改变元件包含反射装置和波带透镜或者反射装置和波带片。

9.如权利要求1所述的辐射系统，其中所述角分布改变元件包含反射装置和菲涅耳透镜或者反射装置和菲涅耳波带片。

10.如权利要求1所述的辐射系统，其中所述旋转光学元件包含旋转反射镜。

11.如权利要求10所述的辐射系统，其中所述旋转反射镜包含旋转多边形反射镜。

12.如权利要求1所述的辐射系统，其中所述旋转光学元件包含压电工作台。

13.如权利要求1所述的辐射系统，其中所述旋转光学元件包含光电调制器。

14.如权利要求1所述的辐射系统，其中所述角分布改变元件被配置成可增加所述部分相干的光束的角分布。

15.如权利要求1所述的辐射系统，其中所述角分布改变元件包括具有光焦度的反射表面。

16.如权利要求1所述的辐射系统，其中所述旋转光学元件包括具有光焦度的反射表面。

17.如权利要求1所述的辐射系统，还包含：

照明器，其中所述旋转光学元件被配置成可将所述非相干光束引导到所述照明器上。

18.如权利要求1所述的辐射系统，其中所述旋转光学元件被配置成可自所述角分布改变元件将所述非相干光束反射到照明器、光学系统或图案形成装置上。

19.一种光刻系统，包含：

照明系统，用来生成照射辐射束，所述照明系统包含：

辐射源，所述辐射源产生至少部分相干的光束，

角分布改变元件，以及

旋转光学元件，所述旋转光学元件被配置成(a)接收来自所述辐射源的所述部分相干的光束以及(b)引导所述接收的部分相干的光束自所述角分布改变元件反射以此形成非相干光束；

图案形成装置，用来使所述照射辐射束图案化；以及

投影系统，用来将所述图案化的射束投射到衬底的目标部分，

其中基于所述旋转光学元件的旋转速度，所述部分相干的光束以变动的角度或位置被引导到所述角分布改变元件，所述角度作为时间的函数来变化。

20.如权利要求19所述的光刻系统，其中所述旋转光学元件还被配置成可接收来自所述角分布改变元件的所述非相干光。

21.如权利要求20所述的光刻系统，其中所述照明系统还包含：

照明器，其中所述旋转光学元件被配置成可将所述非相干光束引导到所述照明器上。

22.如权利要求19所述的光刻系统，其中所述角分布改变元件包含散射器、衍射光学元件、折射光学元件、波带透镜或波带片。

23.如权利要求19所述的光刻系统，其中所述角分布改变元件包含湿法蚀刻散射器、全息散射器、菲涅耳波带透镜或菲涅耳波带片。