[发明专利]图像承载体和成像设备有效

专利信息
申请号: 200710091736.4 申请日: 2007-03-30
公开(公告)号: CN101276161A 公开(公告)日: 2008-10-01
发明(设计)人: 织田康弘;额田克己 申请(专利权)人: 富士施乐株式会社
主分类号: G03G5/04 分类号: G03G5/04;G03G15/02;G03G15/04;G03G9/08;G03G15/16
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 代理人: 丁香兰;谢栒
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 图像 承载 成像 设备
【权利要求书】:

1. 一种图像承载体,所述图像承载体包括以下所述的表面:所述表面在被施加了预定的放电应力后,在温度为22℃和相对湿度(RH)为55%的条件下与水的接触角为约70°~约110°,所述预定的放电应力是在所述图像承载体处于所述表面的移动速度为S(mm/s)的驱动状态下时将峰间偏压为1.5KV和频率为8×S(Hz)的正弦波交流偏压施加至所述图像承载体的表面的条件下的放电应力。

2. 如权利要求1所述的图像承载体,其中,所述表面包含具有交联结构的树脂。

3. 一种成像设备,所述成像设备包括:

图像承载体,所述图像承载体包括以下所述的表面:所述表面在被施加了预定的放电应力后,在温度为22℃和相对湿度(RH)为55%的条件下与水的接触角为约70°~约110°,所述预定的放电应力是在所述图像承载体处于所述表面的移动速度为S(mm/s)的驱动状态下时将峰间偏压为1.5KV和频率为8×S(Hz)的正弦波交流偏压施加至所述图像承载体的表面的条件下的放电应力,而且所述图像承载体按预定方向旋转;

充电装置,所述充电装置通过放电对所述图像承载体的表面进行充电;

潜像形成装置,所述潜像形成装置在由所述充电装置充电的所述图像承载体的表面上形成与图像数据对应的静电潜像;

显影装置,所述显影装置通过包含调色剂的显影剂使所述静电潜像显影以形成调色剂图像;和

转印装置,所述转印装置将所述图像承载体上的调色剂图像转印至被转印部件上,所述被转印部件在面对所述图像承载体的区域内以与所述图像承载体的表面的移动速度不同的移动速度移动。

4. 如权利要求3所述的成像设备,其中所述图像承载体的表面包含具有交联结构的树脂。

5. 如权利要求3所述的成像设备,其中所述显影剂包含研磨剂和润滑剂中的任意一者或同时包含二者。

6. 如权利要求3所述的成像设备,所述成像设备还包括用于除去所述图像承载体上的附着物的清洁装置,而且,相对于将形成在所述图像承载体上的调色剂图像转印至所述被转印部件上的位置,所述清洁装置设置在所述图像承载体的旋转方向的下游侧。

7. 如权利要求6所述的成像设备,其中,所述图像承载体的表面包含具有交联结构的树脂。

8. 如权利要求6所述的成像设备,其中,所述显影剂包含研磨剂和润滑剂中的任意一者或同时包含二者。

9. 如权利要求6所述的成像设备,其中,所述清洁装置与所述图像承载体的表面接触,并且所述清洁装置的至少与所述图像承载体接触的部分的材料满足下列不等式(1)~(3):

不等式(1):3.92≤M≤29.42;

不等式(2):0<α≤0.294;和

不等式(3):S≥250

其中,M表示100%模量,单位是MPa;α表示在应力-应变曲线上,在从100%应变量至200%应变量的范围内,应力的变化Δ应力相对于应变量的变化Δ应变量的比率:Δ应力/Δ应变量=(应变量为200%时的应力-应变量为100%时的应力)/(200-100),单位是MPa/%;S表示根据ISO 37:2005,使用哑铃型3号试验片测定的以百分数表示的断裂伸长率。

10. 如权利要求9所述的成像设备,其中,所述图像承载体的表面包含具有交联结构的树脂。

11. 如权利要求9所述的成像设备,其中,所述显影剂包含研磨剂和润滑剂中的任意一者或同时包含二者。

12. 如权利要求9所述的成像设备,其中,所述材料是包含硬链段和软链段的弹性体材料,并且

其中,相对于构成所述硬链段的材料与构成所述软链段的材料的总量,构成所述硬链段的材料的重量比约为46重量%~96重量%。

13. 如权利要求12所述的成像设备,其中,所述图像承载体的表面包含具有交联结构的树脂。

14. 如权利要求12所述的成像设备,其中,所述显影剂包含研磨剂和润滑剂中的任意一者或同时包含二者。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于富士施乐株式会社,未经富士施乐株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710091736.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top