[发明专利]图像承载体和成像设备有效
| 申请号: | 200710091736.4 | 申请日: | 2007-03-30 |
| 公开(公告)号: | CN101276161A | 公开(公告)日: | 2008-10-01 |
| 发明(设计)人: | 织田康弘;额田克己 | 申请(专利权)人: | 富士施乐株式会社 |
| 主分类号: | G03G5/04 | 分类号: | G03G5/04;G03G15/02;G03G15/04;G03G9/08;G03G15/16 |
| 代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人: | 丁香兰;谢栒 |
| 地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 图像 承载 成像 设备 | ||
1. 一种图像承载体,所述图像承载体包括以下所述的表面:所述表面在被施加了预定的放电应力后,在温度为22℃和相对湿度(RH)为55%的条件下与水的接触角为约70°~约110°,所述预定的放电应力是在所述图像承载体处于所述表面的移动速度为S(mm/s)的驱动状态下时将峰间偏压为1.5KV和频率为8×S(Hz)的正弦波交流偏压施加至所述图像承载体的表面的条件下的放电应力。
2. 如权利要求1所述的图像承载体,其中,所述表面包含具有交联结构的树脂。
3. 一种成像设备,所述成像设备包括:
图像承载体,所述图像承载体包括以下所述的表面:所述表面在被施加了预定的放电应力后,在温度为22℃和相对湿度(RH)为55%的条件下与水的接触角为约70°~约110°,所述预定的放电应力是在所述图像承载体处于所述表面的移动速度为S(mm/s)的驱动状态下时将峰间偏压为1.5KV和频率为8×S(Hz)的正弦波交流偏压施加至所述图像承载体的表面的条件下的放电应力,而且所述图像承载体按预定方向旋转;
充电装置,所述充电装置通过放电对所述图像承载体的表面进行充电;
潜像形成装置,所述潜像形成装置在由所述充电装置充电的所述图像承载体的表面上形成与图像数据对应的静电潜像;
显影装置,所述显影装置通过包含调色剂的显影剂使所述静电潜像显影以形成调色剂图像;和
转印装置,所述转印装置将所述图像承载体上的调色剂图像转印至被转印部件上,所述被转印部件在面对所述图像承载体的区域内以与所述图像承载体的表面的移动速度不同的移动速度移动。
4. 如权利要求3所述的成像设备,其中所述图像承载体的表面包含具有交联结构的树脂。
5. 如权利要求3所述的成像设备,其中所述显影剂包含研磨剂和润滑剂中的任意一者或同时包含二者。
6. 如权利要求3所述的成像设备,所述成像设备还包括用于除去所述图像承载体上的附着物的清洁装置,而且,相对于将形成在所述图像承载体上的调色剂图像转印至所述被转印部件上的位置,所述清洁装置设置在所述图像承载体的旋转方向的下游侧。
7. 如权利要求6所述的成像设备,其中,所述图像承载体的表面包含具有交联结构的树脂。
8. 如权利要求6所述的成像设备,其中,所述显影剂包含研磨剂和润滑剂中的任意一者或同时包含二者。
9. 如权利要求6所述的成像设备,其中,所述清洁装置与所述图像承载体的表面接触,并且所述清洁装置的至少与所述图像承载体接触的部分的材料满足下列不等式(1)~(3):
不等式(1):3.92≤M≤29.42;
不等式(2):0<α≤0.294;和
不等式(3):S≥250
其中,M表示100%模量,单位是MPa;α表示在应力-应变曲线上,在从100%应变量至200%应变量的范围内,应力的变化Δ应力相对于应变量的变化Δ应变量的比率:Δ应力/Δ应变量=(应变量为200%时的应力-应变量为100%时的应力)/(200-100),单位是MPa/%;S表示根据ISO 37:2005,使用哑铃型3号试验片测定的以百分数表示的断裂伸长率。
10. 如权利要求9所述的成像设备,其中,所述图像承载体的表面包含具有交联结构的树脂。
11. 如权利要求9所述的成像设备,其中,所述显影剂包含研磨剂和润滑剂中的任意一者或同时包含二者。
12. 如权利要求9所述的成像设备,其中,所述材料是包含硬链段和软链段的弹性体材料,并且
其中,相对于构成所述硬链段的材料与构成所述软链段的材料的总量,构成所述硬链段的材料的重量比约为46重量%~96重量%。
13. 如权利要求12所述的成像设备,其中,所述图像承载体的表面包含具有交联结构的树脂。
14. 如权利要求12所述的成像设备,其中,所述显影剂包含研磨剂和润滑剂中的任意一者或同时包含二者。
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