[发明专利]双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统

说明书

技术领域

本发明涉及一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统，尤指多组金属管电极分别用玻璃管或陶瓷管包覆的、在放电进行时电极自身转动的，在电极之间可以穿过薄膜材料的放电装置。

背景技术

等离子体技术是在近年才迅速发展起来的，并已得到广泛的应用，例如可用于：(1)微电子工业硅片清洗，替代目前的酸和去离子水清洗。(2)清洗所有的生化污染表面，包括被生化武器污染的表面和空间。(3)替代湿化学法，可用于制药和食品行业原位消毒。(4)用于医疗器件消毒和皮肤病的治疗。(5)食品保鲜杀菌。(6)薄膜材料的表面改性。(7)纺织企业衣料改性。(8)刻蚀金属、半导体和电介质材料等。

在空气中进行的介质阻挡放电一般是在两个电极之间放置一个绝缘介质，放电是直接击穿的空气，放电所产生的局部微电弧电流比较大，在用于处理高分子材料时，容易在材料表面产生局部烧蚀，对材料表面的局部破坏比较大，对材料表面的处理也不均匀，从而影响了材料表面的性质。

发明内容

本发明的目的在于提供一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统，尤指多组金属管电极分别用玻璃管或陶瓷管包覆的、在放电进行时电极自身转动的，在电极之间可以穿过薄膜材料的放电装置。

本发明提供一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统，包括一个高频电源，一个电机马达，放电电极和电极壳体等，其放电电极是多组平行的、被玻璃管或陶瓷管包覆的、之间有相同间隙的上下金属管电极构成，该包覆上下金属管电极的两个绝缘材料管在电极之间形成双介质，上下电极管的两端分别与轴承连接，上电极管通过电机马达带动自转，下电极管由穿过两个电极之间的薄膜带动自转，上下金属管分别与一个高频电源连接，上下电极管放置在一个壳体中，当薄膜材料通过上下金属管电极之间时，其表面得到等离子体的改性处理。

所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统，其特征在于：在壳体的上板面上设有多组平行的、具有相同间隙的、被玻璃管或陶瓷管包覆的金属管电极和在多组电极两侧的传导辊轴。

所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统，其特征在于：多组上下金属管电极的两端分别固定在绝缘支架上，多组上金属管电极用步进电机带动自转，多组下金属管电极被薄膜材料带动形成自转。

所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统，其特征在于：多组上下金属管电极的两端分别与电源的高压输出端连接，放电是在常压下进行。

所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统，其特征在于：在多组上下金属管电极的两侧安装有薄膜材料传动轴。

所述的一种双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统，其特征在于：在壳体的上面设有一个排气罩。

本发明双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统，其优点是：1、电极管被分别被玻璃管或陶瓷管包覆，电极之间所形成的是均匀准辉光放电间隙。2、在两个放电间隙之间存在双介质。3、在两个电极之间放电进行时，电极本身被马达或薄膜带动自转，这避免了电极局部受热不均匀。

本发明是在大气压下产生低温均匀等离子体放电缝隙，主要用途是：对穿过该缝隙的各种薄膜材料进行表面改性处理。

附图说明

图1为本发明实施例双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统侧面结构示意图；

图2为本发明实施例双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统正面结构示意图；

图3为本发明实施例双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统放电主体和电源连接示意图；

图4为本发明实施例双介质阻挡放电处理薄膜材料表面的系统放电主体侧面结构示意图。

具体实施方式

下面参照附图，结合具体的实施例对本发明进行详细的描述。参阅图1和图2，分别为本发明实施例的正面结构示意图和侧面结构示意图；如图1和图2所示，双介质阻挡放电处理薄膜材料表面装置，包括一个安装高频高压电源108的壳体107，在壳体的上面板106设有多组平行的、被玻璃管或陶瓷管包覆的、之间有相同间隙的上金属管电极101和下金属管电极102，其中上金属管电极101用马达109带动自转，下金属管电极102被薄膜材料105带动形成自转，当薄膜材料105通过上下金属管电极之间100时，其表面得到放电处理。在上下金属管电极101和102的两侧设有传导辊轴103和104。