[发明专利]磁头清洗剂

说明书

技术领域

本发明涉及清洗剂，尤其涉及一种计算机磁头抛光后使用的水溶性清洗剂。

背景技术

随着计算机技术飞速发展，对计算机硬盘和磁头的表面质量要求越来越高。目前，磁盘/磁头间隙已趋近于15nm以下，所以磁头和磁盘的表面粗糙度、划痕、杂质颗粒等都会对计算机磁盘造成致命危害，为此，要尽量降低磁头和磁盘表面缺陷和污染。其中，对于计算机磁头来说，抛光后的清洗是减少其表面杂质污染的有效手段。

目前，计算机磁头在抛光过程中大都使用颗粒尺寸在微米量级的固体粉作为磨料，将它们分散于石油蒸馏物中形成磁头抛光液。国际上使用的磁头抛光液产品主要由美国Engis公司和日本Cosmos公司等厂家供应。这种抛光液主要以有机物为溶剂，抛光后不易清洗，而且经这种抛光液抛光的计算机磁头表面在高倍显微镜下存在明显的沾污颗粒，这样在使用中极容易对计算机磁盘造成损伤。为了解决这些问题，专利00133674.6提出在磁头抛光液中加入净洗剂，使得在抛光同时实现抑制磨料颗粒吸附的功能。然而，这种方法对颗粒的去除并不彻底，且容易产生有机溶剂残留。至今，市场上还没有一种磁头抛光后专用的水溶性清洗剂。

发明内容

本发明的主要目的在于克服现有产品存在的上述缺点，提供一种磁头清洗剂，其配方设计合理，制备工艺简单，成本较低，可用于计算机磁头抛光加工后的清洗工艺中，能有效去除磁头抛光后表面残留的有机溶剂以及固体颗粒物，该清洗剂为水溶性液体，腐蚀性小，使用安全，且便于废弃清洗剂的处理排放，符合环境保护的要求。

本发明的目的是由以下技术方案实现的。

本发明磁头清洗剂，其特征在于：包括增溶剂、非离子型表面活性剂、阴离子型表面活性剂、消泡剂和去离子水；其中，增溶剂的重量百分比为3％至8％，非离子型表面活性剂的重量百分比为3％至10％，阴离子型表面活性剂的重量百分比为3％至10％，消泡剂的重量百分比为1％至5％，去离子水为余量。

前述的磁头清洗剂，其特征在于：所述增溶剂是癸烷、己烷、丁烷或硅烷。

前述的磁头清洗剂，其特征在于：所述非离子型表面活性剂是烷基酚聚氧乙烯醚、脂肪醇聚氧乙烯醚、脂肪胺聚氧乙烯醚、脂肪酸聚乙二醇酯和聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯中的一种或其组合。

前述的磁头清洗剂，其特征在于：所述阴离子表面活性剂是直链烷基苯磺酸钠(LAS)、脂肪醇硫酸钠(AS)、脂肪醇聚氧乙烯醚硫酸钠(AES)、α-烯烃磺酸酯(AOS)、直链烷基磺酸酯(SAS)和链烷磺酸盐(PS)中的一种或其组合。

前述的磁头清洗剂，其特征在于：所述消泡剂是脂肪酸酰胺类消泡剂，聚醚类消泡剂和有机硅消泡剂中的一种或其组合。

前述的磁头清洗剂，其特征在于：所述烷基酚聚氧乙烯醚是壬基酚聚氧乙烯(4)醚、壬基酚聚氧乙烯(6)醚、壬基酚聚氧乙烯(7)醚、壬基酚聚氧乙烯(9)醚、壬基酚聚氧乙烯(10)醚、壬基酚聚氧乙烯(13)醚、辛基酚聚氧乙烯(100)醚或十二烷基酚聚氧乙烯(10)醚；所述脂肪醇聚氧乙烯醚是脂肪醇聚氧乙烯(3)醚、脂肪醇聚氧乙烯(5)醚、脂肪醇聚氧乙烯(7)醚、脂肪醇聚氧乙烯(9)醚、脂肪醇聚氧乙烯(20)醚或脂肪醇聚氧乙烯(25)醚；所述脂肪胺聚氧乙烯醚是十二叔胺聚氧乙烯(2)醚、十二叔胺聚氧乙烯(5)醚、十二叔胺聚氧乙烯(10)醚、十二叔胺聚氧乙烯(15)醚、十二叔胺聚氧乙烯(20)醚、十八叔胺聚氧乙烯(2)醚、十八叔胺聚氧乙烯(5)醚、十八叔胺聚氧乙烯(10)醚、十八叔胺聚氧乙烯(15)醚、十八叔胺聚氧乙烯(20)醚或十八叔胺聚氧乙烯(25)醚；所述脂肪酸聚乙二醇酯是月桂酸聚乙二醇(200)酯、月桂酸聚乙二醇(400)酯、月桂酸聚乙二醇(600)酯、月桂酸聚乙二醇(800)酯、月桂酸聚乙二醇(1000)酯、油酸聚乙二醇(200)酯、油酸聚乙二醇(400)酯、油酸聚乙二醇(600)酯、油酸聚乙二醇(800)酯、油酸聚乙二醇(1000)酯、硬脂酸聚乙二醇(200)酯、硬脂酸聚乙二醇(400)酯、硬脂酸聚乙二醇(600)酯、硬脂酸聚乙二醇(800)酯或硬脂酸聚乙二醇(1000)酯；所述聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯是聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯-20、聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯-40、聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯-60、聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯-80或聚氧乙烯失水山梨醇脂肪酸酯-85。