[发明专利]基于运动检测指导的红外焦平面非均匀性校正方法有效

专利信息
申请号: 200710051920.6 申请日: 2007-04-19
公开(公告)号: CN101056353A 公开(公告)日: 2007-10-17
发明(设计)人: 张天序;桑红石;钟胜;李洁珺;袁雅婧;施长城;周泱;刘慧娜 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H04N5/14 分类号: H04N5/14;H04N7/26
代理公司: 华中科技大学专利中心 代理人: 方放
地址: 430074湖北*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 运动 检测 指导 红外 平面 均匀 校正 方法
【说明书】:

技术领域

发明属于红外焦平面探测器领域,具体涉及一种基于运动检测指导的红外焦平面非均匀性校正方法。

背景技术

红外焦平面阵列IRFPA(Infrared Focal Plane Array)成像系统是红外成像技术发展的方向,是现代红外成像系统的核心器件。在第一代红外成像系统中,采用线列探测器,通过一维光机扫描实现成像。与第一代红外成像系统相比,红外焦平面阵列以凝视方式工作,不需要运动的光学元件对景物进行一维或二维光机扫描。因此具有结构简单、工作稳定、空间分辨率高、探测能力强、帧频高等优点。目前凝视红外成像系统已开始广泛应用于夜视、海上营救搜索、天文、工业热探测和医学等民用领域,是红外成像系统的发展方向。然而由于制造材料、工艺以及工作环境等方面的原因,红外焦平面阵列普遍存在非均匀性问题。其非均匀性与无效象元严重影响了系统的成像质量,降低了系统的空间分辨率、温度分辨率、探测距离以及辐射量的正确度量,直接制约着系统的最终性能。尽管随着器件制作工艺的改进,焦平面的非均匀性和无效象元有了较大改善,但离完全解决问题还有很大距离,仍是当前红外焦平面阵列成像系统必须解决的首要问题。

目前已有的红外焦平面阵列的非均匀性校正方法,主要分为两大类:一类是基于定标的校正方法,该类方法原理简洁,易于硬件实现和集成;校正精度高,可用于场景温度的度量,对目标没有任何要求,是实际IRFPA组件产品中主要采用的方法。但这类方法受限于IRFPA响应漂移带来的校正误差;实际校正时需要参考源进行标定,使得设备装置相对复杂;同时在实际应用中需要进行周期性的定标,定标频率取决于系统的稳定性,对于实际探测器不易做到快速反应。另一类是基于场景类的自适应校正方法,如时域高通滤波校正法,神经网络校正法和恒定统计约束校正法等。这类方法可以在一定程度上克服IRFPA响应漂移带来的校正误差,不要求或只需要简单的定标,根据场景信息适应性的更新校正系数,成为目前算法研究和系统应用的重要研究方向。

但是基于场景类方法都存在伪像(ghosting artifact,也称为“鬼影”,即是在真实场景周围出现的与之相同景象的重影)问题,如传统的神经网络校正算法,其方法结合了空域处理(以四邻域空间均值为期望输出)和时域处理(以神经网络误差反馈实现校正系数的迭代更新)的特点,自适应地实现非均匀性校正,但其要求目标处于不断的运动状态,一旦目标趋于静止,则会出现目标退化(fade-out,表明目标图象变模糊,即是目标的信噪比降低、与背景的反差变小、融于背景,不易被识别);而当目标由于运动离开后,又会在原位置留下一个呈反像的伪像(鬼影)。

Narendra在“Shutterless fixed pattern noise correction for infraredimaging arrays”(Proc.SPIE,1981,282:44-51)中提出等统计量非均匀性校正方法时,曾原则性地提出一种简单的方法来克服“鬼影”,即在景物不变时停止校正系数的更新。

1997年Harris等人在“Minimizing the ghosting artifact in scene-basednonuniformity correction”(Proc.SPIE,1998,3377:106-113)一文中将上述Narendra提出的方法加以实现,在更新环节设置了一个阈值,当某个像素的变化超过该阈值时可以更新其校正系数,低于该阈值时则停止更新。

2003年刘会通等人分析了上述两篇文章处理上的缺陷,在《自适应非均匀性校正中“鬼影”问题的分析》(红外技术,2003,25(5):30-32)一文中提出了基于运动取阈值的方式的几点不足之处,主要有下面两个方面:(1)阈值不易确定;(2)空间噪声基本不变,不能校正——这里可以理解为固定图案噪声不好校正,因为固定图案噪声基本上是不变的“图形噪声”,它几乎不运动。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于华中科技大学,未经华中科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/200710051920.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top