[发明专利]还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀方法及装置

说明书

·技术领域

本发明涉及一种日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀方法及结构装置，为日用瓷窑炉技术领域。

·背景技术

日用瓷气烧还原焰隧道窑为满足陶瓷制品在烧结过程中的物理化学变化的需要，一般将窑炉划分为三个区：氧化排烟区，还原高火保温区和急冷缓冷区。在氧化排烟区设置有一定数量的烧咀，用于满足陶瓷制品氧化时所必需的氧化气氛和对应的温度。

但是，现有的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室结构通常就是烧咀砖的结构。这种结构的燃烧室的弊端在于：

1、易导致低温区的火焰“钢性”过强；

2、烧咀附近及喷火口之间的温差较大；

3、烧咀容易熄火。

因而陶瓷制品在其中的的受热不是均匀的，而是波浪式的。这样给制品的烧成带来很多的缺陷：开裂、阴黄、过火、冲泡、彩色不正等等；同时，也导致窑炉烧成的能耗增高，给安全生产带来了较大的隐患。

改革低温氧化区燃烧室结构，研发一种新型的结构，便于还原焰陶瓷制品的烧成，克服低温氧化控制不当带来的缺陷，具有重要的现实意义。

·发明内容

本发明所要解决的技术问题是：提供一种科学合理、简单易行的日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区温度均匀方法及其结构装置，以满足陶瓷制品氧化时所必需的氧化气氛和必要的温度，同时保证温度的均匀性，保证火焰的连续性。

本发明的目的是通过下述技术方案实现的，一种日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室温度均匀方法，采用在烧咀的出口设置温度均匀燃烧室的方式，使得燃气通过烧咀喷入进入燃烧室燃烧后，燃烧产物在经过均匀分流后再进入窑内通道。

本发明的装置结构包括窑炉和烧咀，且烧咀是通过窑炉的侧面进入窑炉内的，在窑炉的侧面的燃气入口处内面，烧咀的出口处扩散烧咀火焰，保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道。燃烧室的底面正对窑车台面，烧咀中心正对下火道的中下部，可充分利用烧咀喷出火焰的动能，对窑内燃烧产物进行搅拌，强化传热。燃烧室的烧咀选用燃气平焰烧咀，火焰长度0.3～0.9m。燃烧室的截面尺寸必需保证以烧咀为中心，直径为300mm的火焰有足够的燃烧空间。燃烧室的出口的张角取45°。燃烧室是直径为350mm～560mm的半圆拱，长度200mm～350mm；燃烧室的大小取决于所选取的燃烧室空间热强度。为保证火焰在燃烧室充分燃烧后合理的进入窑内通道，在燃烧室出口设置分流装置。分流装置是由耐火砖在燃烧室内烧咀的前面设置挡块形成。

这种日用瓷气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室结构的优点在于：

1、喷火口与产品间形成了300mm～450mm开扩空间，扩大了幅射面积，增加了幅射层的厚度，防止了局部温度超高；

2、当耐火砖分流装置中的耐火砖达到一定温度后，能较好地防止熄火现象，保证了火焰的连续性；

3、喷火口与产品间的开扩空间和耐火砖分流装置共同改良了火焰的“钢性”，更适合产品的低温氧化。

附图说明

图1为原气烧还原焰隧道窑低温氧化区燃烧室结构示意图；

图2为本发明的结构示意图；

图3为本发明的k向视图。

具体实施方式

下面结合实施例和附图对本实用新型作进一步说明。

实施例一