[发明专利]一种微弧氧化过程电参数的控制方法

权利要求书

1、一种微弧氧化过程电参数的控制方法，其特征在于：将经过表面整理的预处理件和对电极分别与电源的输出端口连接后浸入微弧氧化电解液中，先以电流密度起始值i_ini启动电流施加，随后以阶梯降流方式进行控流处理，当电流密度降至终止值i_end后维持该电流密度，直到控流处理过程的总时间t_T结束，最后进行控压处理，直到处理时间或电压满足预设条件。

2、根据权利要求1所述的微弧氧化过程电参数的控制方法，其特征在于：所述的阶梯降流的电流密度的起始值i_ini为10-200mA/cm²。

3、根据权利要求1所述的微弧氧化过程电参数的控制方法，其特征在于：所述的阶梯降流的平均速度值为0.1-50mA/cm².min。

4、根据权利要求3所述的微弧氧化过程电参数的控制方法，其特征在于：所述的阶梯降流的平均速度值在同一微弧氧化过程的不同时段相同或不同。

5、根据权利要求1所述的微弧氧化电参数的控制方法，其特征在于：所述的阶梯降流的周期ΔT值为0.1sec-10min。

6、根据权利要求5所述的微弧氧化过程电参数的控制方法，其特征在于：所述的阶梯降流的周期ΔT值在同一微弧氧化过程的不同时段相同或不同。

7、根据权利要求1所述的微弧氧化过程电参数的控制方法，其特征在于：所述的阶梯降流的电流密度的终止值i_end为2-100mA/cm²。

8、根据权利要求1所述的微弧氧化过程电参数的控制方法，其特征在于：所述的控流处理的总时间t_T的值为2.5min-1h。