[发明专利]一种可变凹凸面纹理装饰瓷质砖及其制备方法

权利要求书

1、一种可变凹凸面纹理装饰瓷质砖，包括面层和底坯层，瓷质砖的面层表面设置有沟壑或凹坑，其特征在于，所述沟壑或凹坑是由引入的凹陷料产生，且跟随花纹纹理自然变化。

2、根据权利要求1所述的可变凹凸面纹理装饰瓷质砖，其特征在于，所述沟壑或凹坑的深度为0.11～1.5mm。

3、根据权利要求1中所述的可变凹凸面纹理装饰瓷质砖，其特征在于，所述凹陷料的干坯耐磨度低于其他花纹面料，烧成收缩率高于其他花纹面料。

4、根据权利要求1或2所述的可变凹凸面纹理装饰瓷质砖，其特征在于，所述凹陷料的组成为(重量份)：泥0～10％，钾长石10～40％，钠长砂10～50％，滑石0～10％，石灰石0～20％，硅灰石0～30％，石英砂0～30％；其化学组成为(重量份)：氧化铝5～30％，氧化硅40～80％，氧化镁0～8％，氧化钠1～10％，氧化钾0～10％，氧化钙0～15％，氧化锌0～5％，氧化硼0～5％，氧化锆0～10％。

5、一种权利要求1至4所述的可变凹凸面纹理装饰瓷质砖的制备方法，包括以下步骤：(1)粉料制备，包括制备面料和底料；(2)将粉料在布料设备中进行布料；(3)将布料后的粉料用自动陶瓷压砖机干压成型，制成坯体；并进行坯体干燥后抛磨处理；(4)采用1100～1300℃烧成温度烧制坯体成瓷质半成品；表面加工处理、磨边后制成成品；其特征在于，所述第(1)步骤粉料制备过程中，所述面料中包括有花纹面料，其中至少提供一种花纹面料为凹陷料；在所述第(2)步骤中凹陷料与其他花纹面料进行随机或定位布料；所述第(3)步骤中干压成型面模采用平面模具，干压成型底模采用底纹模具，其干燥坯抛磨是采用先硬抛磨再柔抛磨的二级抛磨方式。

6、根据权利要求5所述的可变凹凸面纹理装饰瓷质砖的制备方法，其特征在于，所述第(3)步骤中，干燥坯硬抛磨采用硬磨片进行机械抛磨加工；干燥坯软抛磨的抛磨介质为柔性海绵、毛刷或绒布。

7、根据权利要求5所述的可变凹凸面纹理装饰瓷质砖的制备方法，其特征在于，所述干燥坯硬抛磨程序去除坯体表面深度为0.2～1.5mm；干燥坯软抛磨产生沟壑凹陷深度为0.1～1mm。

8、根据权利要求5所述的可变凹凸面纹理装饰瓷质砖的制备方法，其特征在于，所述表面加工处理工序包括局部硬抛光、软抛光或不抛光。

9、根据权利要求5所述的可变凹凸面纹理装饰瓷质砖的制备方法，其特征在于，所述凹陷料烧成后，其比普通面料下陷的落差深度为0.01～0.5mm。