[发明专利]超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶

权利要求书

1.一种超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶，包括安装法兰(1)和贯穿安装法兰(1)的冷却水管(6)，以及与冷却水管(6)相连接的位于靶屏蔽罩(3)内的水冷腔部件(5)，所说水冷腔部件(5)内置有软铁和永磁铁，其特征在于：

(a)所说冷却水管(6)经冷却水管密封部件(2)与安装法兰(1)相连接，所说冷却水管密封部件(2)的法兰凸台(27)的内腔颈口处的两端面依次分别置有套装于冷却水管(6)外的O形密封圈(262，261)和绝缘套垫(221，222)，上紧固螺母(211)和下紧固螺母(212)经冷却水管(6)外螺纹分别与绝缘套垫(221，222)相抵压连接，所说O形密封圈(262，261)间的腔室(23)的法兰凸台(27)璧上置有与抽气管(25)相连接通的抽气通孔(24)；

(b)所说水冷腔部件(5)包含相连接的水冷腔上法兰(511)、水冷腔下法兰(512)和冷却水管(6)，其中，所说水冷腔上法兰(511)与所说水冷腔下法兰(512)经密封圈(52)和螺钉(53)密封连接，所说水冷腔上法兰(511)的上端经螺钉(50)连接有靶材(4)，所说水冷腔下法兰(512)的腔体内置有软铁(58)和其上设置的永磁铁(54)，所说软铁(58)经螺钉(55)与水冷腔下法兰(512)连接，所说冷却水管(6)贯穿所说水冷腔下法兰(512)的底部后与其焊接连通连接，螺母(57)经冷却水管(6)外螺纹与其外套装的绝缘套垫(56)相抵压连接，所说绝缘套垫(56)与水冷腔下法兰(512)、靶屏蔽罩(3)和冷却水管(6)相抵压绝缘连接；

(c)所说矩形平面溅射靶还包括一个以上的支撑螺杆(10)和与其配接的支撑螺杆密封部件(7)，其中，所说支撑螺杆(10)一端的端面与所说水冷腔部件(5)抵接，端部经其外套装的绝缘套垫(8)和固定螺母(9)与靶屏蔽罩(3)相抵压绝缘连接、另一端经支撑螺杆密封部件(7)与安装法兰(1)相连接，所说支撑螺杆密封部件(7)为上紧固螺母(71)和下紧固螺母(73)经支撑螺杆(10)的螺纹与位于其间的、套装于支撑螺杆(10)另一端外表面的绝缘套垫(74)相抵压连接，所说绝缘套垫(74)与支撑螺杆(10)、安装法兰(1)相抵压绝缘连接，连接处的安装法兰(1)下罩有经螺钉(76)和密封圈(77)与其相密封连接的支撑螺杆密封盒(75)，所说支撑螺杆密封盒(75)罩住的安装法兰(1)上置有抽气通孔(72)。

2.根据权利要求1所述的超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶，其特征是O形密封圈(261，262)为O型氟胶圈。

3.根据权利要求2所述的超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶，其特征是O型氟胶圈为维通型氟胶圈。

4.根据权利要求1所述的超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶，其特征是绝缘套垫(8，56，74)外表面的中部为颈状。

5.根据权利要求1所述的超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶，其特征是密封圈(52，77)为O型橡胶圈或O型氟胶圈或O型金属圈。

6.根据权利要求5所述的超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶，其特征是O型金属圈为O型无氧铜圈或O型铝丝圈或O型银丝圈。

7.根据权利要求1所述的超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶，其特征是螺钉(50)为两只以上，且其大小、材质相同或不同。

8.根据权利要求7所述的超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶，其特征是水冷腔上法兰(511)和靶材(4)上分别置有与螺钉(50)的只数和大小相同的螺孔和通孔。

9.根据权利要求1所述的超高真空磁控溅射矩形平面溅射靶，其特征是支撑螺杆(10)和与其配接的支撑螺杆密封部件(7)均为两只。