[发明专利]一种使薄膜形成图案的方法

权利要求书

1.一种使薄膜形成图案的方法，其包括：

在基底上沉积中间辐射敏感层；

将所述薄膜沉积在所述中间层上；

在沉积所述薄膜之前或之后：

使所述中间层曝光于图案化辐射，以引发其中的化学反应；

和

去除所述中间层的图案化辐射限定的部分和相应的薄膜，留下所 述基底上的图案化薄膜和图案化中间层。

2.根据权利要求1所述的方法，其中所述中间层包括负性抗蚀材 料；并且所述去除步骤包括去除未曝光部分。

3.根据权利要求1所述的方法，其中所述中间层包括正性抗蚀材 料；并且所述去除步骤包括去除曝光部分。

4.根据权利要求1至3中任一项所述的方法，其中所述辐射是在 光波长；在紫外波长；在300至400nm之间；在X射线波长；或者包 括电子束。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述辐射是通 过使用光掩模图案化的。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述辐射是通 过扫描辐射束图案化的。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述图案化辐 射包括干涉或衍射图案。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的方法，其中所述辐射用空 间光调制器或微镜器件；或者通过选择性地处理微阵列发射源图案化 的。

9.根据权利要求5所述的方法，其中所述基底包括预图案化层； 并且所述光掩模包括预图案化层。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述预图案化层邻近所述中 间层。

11.根据权利要求9所述的方法，其中所述预图案化层在基底的与 所述中间层沉积的那一面相背的面上形成。

12.根据权利要求10所述的方法，其中所述图案化薄膜、图案化 中间层和基底构成了最终器件，并且其中所述预图案化层形成了所述 最终器件的活性部分。

13.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述中间层从基 底或者如果沉积的话从薄膜侧中对辐射最透明的任何一个被照射。

14.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述化学反应优 选地是交联、聚合、断链或氧化。

15.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述薄膜包括导 体、半导体或绝缘体。

16.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述薄膜包括聚 合物、发光聚合物、树枝状聚合物、发光树枝状聚合物、有机小分子、 发光有机小分子、金属、无机半导体或无机电介质。

17.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述薄膜包括单 一材料类型、两种或多种材料类型的混合物、和/或两种或多种材料连 续沉积层的组合。

18.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述基底包括玻 璃、金属、塑料、纸、导体、半导体或绝缘体；其是刚性的、柔性的、 透明的或不透明的。

19.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述基底包括聚 对苯二甲酸乙二酯(PET)膜，所述中间层包括环氧化双酚A/甲醛线型酚 醛共聚物(SU8)；并且所述薄膜包括聚(3，4-乙撑二氧噻吩):聚(苯乙 烯磺酸酯)(PEDOT:PSS)。

20.根据前述权利要求中任一项所述的方法，其中所述去除步骤使 得所述中间层和薄膜同时形成图案。

21.一种薄膜结构，其包括基底以及根据前述权利要求中任一项所 述方法图案化的中间层和薄膜。

22.一种薄膜结构，其包括基底、根据权利要求1-21中任一项所 述方法要被图案化的薄膜、和辐射敏感中间层。