[实用新型]间隙检测及修正装置无效
申请号: | 200620158320.0 | 申请日: | 2006-11-13 |
公开(公告)号: | CN201017173Y | 公开(公告)日: | 2008-02-06 |
发明(设计)人: | 周进德 | 申请(专利权)人: | 顶瑞机械股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;H01L21/027 |
代理公司: | 北京汇智英财专利代理事务所 | 代理人: | 刘祖芬 |
地址: | 中国台湾高雄县*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 间隙 检测 修正 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种间隙检测及修正装置,特别涉及利用数个检测元件检测板材的数个部位的高度,以分别修正该板材与光罩的间的高度误差,进而获得较佳的曝光精度及品质的间隙检测及修正装置。
背景技术
常用板材曝光装置,如图1及图2所示,其包含支撑座91,其承载板材92。该板材92通常包含塑胶层921、至少黏结层922、至少一层铜层923及至少一层感光层924。当该板材92的感光层924进行曝光的前,其将光罩93直接贴附于该板材92的感光层924表面,以便利用照射光源〔未绘示〕照射该光罩93,进而对该感光层924进行曝光作业。
虽然上述板材曝光装置确实可相对减少该光罩93及板材92的感光层924的间的间隙误差,进而相对提升曝光效果。然而,在实际使用上,由于该板材92的塑胶层921、黏结层922、铜层923及感光层924系分别具有厚度误差,因此当上述各层压合形成该板材92的后必然具有厚度误差,其造成该板材92的上表面各部位的实际高度值不完全相同。此外,由于该板材92的各层的间可能具有结合间隙,因而相对增加该板材92的总厚度误差,进而造成该光罩93与照射光源的间产生距离误差,或者该光罩93相对水平面产生倾斜角〔未绘示〕,以致相对降低该板材92的曝光效果。再者,由于该光罩93系直接贴附于该板材92表面,因而容易沾附该板材92表面的微尘而造成污染,进而相对降低后续再次使用时的曝光效果。另外,该光罩93反复在板材92表面进行贴附及撕除动作,因而在长期使用下容易造成该光罩93图案受损,进而相对降低该板材92的曝光精度及品质。因此,其确实有必要进一步改良上述板材曝光装置。
实用新型内容
本实用新型的目的是:解决上述问题,提供一种间隙检测及修正装置,利用数个检测元件分别检测板材的数个部位和光罩及支撑座相应位置的相对高度,消除板材和光罩的摩擦,提升曝光精度及品质的功效。
为了实现上述目的,本实用新型提供的技术方案是:一种间隙检测及修正装置,包含支撑座、检测单元、升降单元、光罩座及调距单元;支撑座用以承载板材;检测单元检测板材的中心部位及数个角的高度;升降单元根据检测单元的检测结果调整该支撑座的高度;光罩座用以承载光罩;调距单元根据检测单元的检测结果调整该光罩座的数个角的相对高度。
本实用新型确保光罩及板材的间具有相等及固定的距离,消除板材和光罩的摩擦,提升曝光精度及品质。
附图说明
图1为间隙检测及修正装置的立体图;
图2为间隙检测及修正装置的局部剖视图;
图3为间隙检测及修正装置的立体示意图;
图4为间隙检测及修正装置的投料阶段的侧视示意图;
图5为隙检测及修正装置的板材修正阶段的侧视示意图;
图6为间隙检测及修正装置的光罩对位阶段的侧视示意图。
具体实施方式
为让本实用新型的上述目的、特征、优点能更明显易懂,以以下实施例,并配合附图,作详细说明如下:
如图3、4所示,本实用新型的间隙检测及修正装置,其包含支撑座1、检测单元3、光罩座4及数个调距单元6,用以调整板材2与光罩座4之间的相对位置;本间隙检测及修正方法包含三个过程阶段:〔1〕、投料阶段:支撑座1承载、定位至少一块板材2,以便带动该板材2在各个过程阶段的间移动。〔2〕、板材修正阶段:检测单元3检测板材2上表面的数个部位的高度,进而垂直调整该支撑座1,如此可将板材2调整至特定高度。〔3〕、光罩对位阶段:光罩座4用以固定光罩5,且调距单元6用以调整光罩座4的数个部位的相对高度,以确保光罩5与板材2之间的每个部位具有相等及固定的距离,进而相对提升后续曝光精度及品质。
如图3、4所示,本实用新型的间隙检测及修正装置的支撑座1具有升降单元11,以便带动该支撑座1进行垂直升降动作,该升降单元11可应用常用的升降构造。此外,支撑座1设置吸附装置;该吸附装置设有真空吸盘座〔未绘示〕;该真空吸盘座的表面开设数个吸附孔〔未绘示〕。该真空吸盘座连接吸风装置〔未绘示〕,以便经由该吸附孔吸附定位该板材2及进行操作。
如图3、4图所示,本实用新型的间隙检测及修正装置的板材2为软性电路板;该板材2为由第一铜层、塑胶层、黏结层、第二铜层及感光层〔未绘示,请参照图2所示〕共同组成。该感光层位于该板材2的上表面〔即远离该支撑座1的一侧〕,且该感光层为正型光阻感光层或负型光阻感光层,以便进行后续曝光作业。
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