[实用新型]浆纱机上蜡装置无效
申请号: | 200620010793.6 | 申请日: | 2006-10-14 |
公开(公告)号: | CN200985400Y | 公开(公告)日: | 2007-12-05 |
发明(设计)人: | 李国栋 | 申请(专利权)人: | 丁宏利 |
主分类号: | D02J3/18 | 分类号: | D02J3/18;D06B23/00;D02H11/00 |
代理公司: | 潍坊正信专利事务所 | 代理人: | 赵玉峰 |
地址: | 262300山东省日照市五*** | 国省代码: | 山东;37 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 浆纱机 上蜡 装置 | ||
技术领域
本实用新型涉及一种浆纱机上的辅助装置,尤其是涉及一种可提高纱的上蜡质量的浆纱机上蜡装置。
背景技术
目前人们在生产中所用的浆纱机的上蜡装置多为在浆纱机的机体上设有一蜡槽,在蜡槽的上部设一上蜡辊,纱片由浆纱机烘房内出来后,通过张力提示辊后经上蜡辊,再经分绞棒的分纱后到达浆纱机的车头后落轴得到织轴,如当前人们使用比较广泛的G142C-200型浆纱机,其中,纱片在经过上蜡辊时,与转动的上蜡辊接触,通过转动的上蜡辊表面携带的蜡液实现纱片的上蜡。但是,由于上蜡装置位于浆纱机上张力指示辊和第一根干分绞棒之间,在浆纱机正常工作时,由于纱片的张力随时发生变化,所以张力指示辊会随着纱线张力的变化而反复上下运动,使得纱片与上蜡辊的接触面也在不断变化,导致整个纱片上蜡不匀,影响了纱的上蜡质量。
发明内容
本实用新型所要解决的技术问题是提供了一种浆纱机上蜡装置,它能够使纱片与上蜡辊保持一个稳定接触面,保证了纱片上蜡均匀,提高了纱片的上蜡质量。
为解决上述技术问题,本实用新型的技术方案是:浆纱机上蜡装置,包括设置在浆纱机机体上的蜡槽和设置在蜡槽上部的上蜡辊,所述浆纱机机体上位于沿纱片行进方向上上蜡辊的前方设有一压纱辊,所述压纱辊上纱片握持点低于上蜡辊上纱片握持点。
作为一种改进,所述浆纱机机体上位于沿纱片行进方向上上蜡辊的后方也设有压纱辊。
采用了上述技术方案的浆纱机上蜡装置,由于是在所述浆纱机机体上位于沿纱片行进方向上上蜡辊的前方设有一压纱辊,并且压纱辊上纱片握持点低于上蜡辊上纱片握持点,这样的结构,避免了因纱片的张力发生变化而导致张力指示辊反复上下运动、从而使得纱片与上蜡辊接触面发生变化的现象,使得纱片上蜡均匀,提高了纱片的上蜡质量。而在浆纱机机体上位于沿纱片行进方向上上蜡辊的后方也设有压纱辊,通过在上蜡辊的前后两侧均设有压纱辊的方式,使得纱片与上蜡辊的接触面积完全不受张力变化的影响,大大提高了纱片的上蜡质量。
附图说明
下面结合附图对本实用新型的具体实施方式作进一步的说明。
附图是本实用新型浆纱机上蜡装置的示意图。
具体实施方式
如附图所示,本浆纱机上蜡装置包括设置在浆纱机机体上的蜡槽4和设置在蜡槽4上部的上蜡辊3,在浆纱机机体上沿纱片行进方向依次设有烘房1、张力指示辊2、上蜡辊3和分绞棒5,纱片由烘房1内出来后经张力指示辊2、上蜡辊3和分绞棒5后到达浆纱机车头6落轴得到织轴。其中,纱片在经过上蜡辊3时,与转动的上蜡辊3接触,通过转动的上蜡辊3表面携带的蜡液实现纱片的上蜡。为了能够保证纱片与上蜡辊3保持一个稳定的接触面,以保证纱片上蜡的均匀,如附图所示,在浆纱机机体上位于沿纱片行进方向上上蜡辊3的前方设有一压纱辊7,并且压纱辊7上与纱片接触时的纱片握持点低于上蜡辊3上与纱片接触时的纱片握持点,这样,通过压纱辊7对纱片的握持,避免了因纱片的张力发生变化而导致张力指示辊2反复上下运动、从而使得纱片与上蜡辊3的接触面发生变化的现象,使得纱片上蜡均匀,提高了纱片的上蜡质量。并且,为了进一步提高纱片的上蜡质量,在浆纱机机体上位于沿纱片行进方向上上蜡辊3的后方也设有压纱辊7。这样,纱片自烘房1内出来经张力指示辊2后,在上蜡辊3前和后两侧的压纱辊7的压纱握持下,与上蜡辊3稳定接触,实现纱片的均匀上蜡,然后经过分绞棒5的分纱后到达浆纱机车头6落轴得到织轴。
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