[发明专利]校正多透镜阵列的像场弯曲的系统和方法无效
| 申请号： | 200610142145.0 | 申请日： | 2006-10-08 |
| 公开（公告）号： | CN1945442A | 公开（公告）日： | 2007-04-11 |
| 发明（设计）人： | L·C·祖里茨马;J·J·M·巴塞曼斯 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;H01L21/027 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京;廖凌玲 |
| 地址： | 荷兰费*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 校正 透镜 阵列 弯曲 系统 方法 | ||
【说明书】：
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