[发明专利]一种光刻胶清洗剂

权利要求书

1.一种光刻胶清洗剂，包含二甲基亚砜、季铵氢氧化物，其特征在于还含有表面活性剂：含羟基聚醚。

2.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的含羟基聚醚的含量为0.001～15wt％。

3.根据权利要求2所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的含羟基聚醚的含量为0.05～5.0wt％。

4.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的二甲基亚砜的含量为70～99wt％。

5.根据权利要求4所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的二甲基亚砜的含量为80～99wt％。

6.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的季铵氢氧化物的含量为0.01～15wt％。

7.根据权利要求6所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的季铵氢氧化物的含量为0.5～10.0wt％。

8.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的季铵氢氧化物为四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵或苄基三甲基氢氧化铵。

9.根据权利要求1所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的光刻胶清洗剂还包含极性有机共溶剂、缓蚀剂和/或水。

10.根据权利要求9所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的极性有机共溶剂的含量为0～29.5wt％。

11.根据权利要求10所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的极性有机共溶剂的含量为5.0～25wt％。

12.根据权利要求9所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的缓蚀剂的含量为0～10wt％。

13.根据权利要求12所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的缓蚀剂的含量为0.05～5.0wt％。

14.根据权利要求9所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的水的含量为0～29.5wt％。

15.根据权利要求14所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的水的含量为0.5～25wt％。

16.根据权利要求9所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的极性有机共溶剂为亚砜、砜、咪唑烷酮、烷基二醇单烷基醚和/或烷基二醇芳基醚。

17.根据权利要求16所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的亚砜为二乙基亚砜或甲乙基亚砜。

18.根据权利要求16所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的砜为甲基砜、乙基砜或环丁砜。

19.根据权利要求16所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的咪唑烷酮为2-咪唑烷酮、1，3-二甲基-2-咪唑烷酮或1，3-二乙基-2-咪唑烷酮。

20.根据权利要求16所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的烷基二醇单烷基醚为乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇单丁醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二乙二醇单丁醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、丙二醇单丁醚、二丙二醇单甲醚、二丙二醇单乙醚或二丙二醇单丁醚。

21.根据权利要求16所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的烷基二醇芳基醚包括乙二醇单苯基醚、丙二醇单苯基醚、异丙二醇单苯基醚、二乙二醇单苯基醚、二丙二醇单苯基醚、二异丙二醇单苯基醚、乙二醇单苄基醚、丙二醇单苄基醚或异丙二醇单苄基醚。

22.根据权利要求9所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的缓蚀剂选自酚类、羧酸(酯)类、酸酐类或膦酸(酯)类缓蚀剂。

23.根据权利要求22所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的酚类为1，2-二羟基苯酚、对羟基苯酚或连苯三酚。

24.根据权利要求22所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的羧酸(酯)类为苯甲酸、对氨基苯甲酸、邻苯二甲酸、没食子酸或没食子酸丙酯。

25.根据权利要求22所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的酸酐类为乙酸酐、丙酸酐、己酸酐或(聚)马来酸酐。

26.根据权利要求22所述的光刻胶清洗剂，其特征在于：所述的膦酸(酯)类为1，3-(羟乙基)-2，4，6-三膦酸、氨基三亚甲基膦酸或2-膦酸丁烷-1，2，4-三羧酸。