[发明专利]涂布胶的给胶搅拌涂布机构总成无效
申请号: | 200610111248.0 | 申请日: | 2006-08-17 |
公开(公告)号: | CN101125321A | 公开(公告)日: | 2008-02-20 |
发明(设计)人: | 许德宽;曾达元 | 申请(专利权)人: | 宣茂科技股份有限公司 |
主分类号: | B05C1/08 | 分类号: | B05C1/08;B05C11/04 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周春发 |
地址: | 台湾省桃园县芦*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 涂布胶 搅拌 机构 总成 | ||
技术领域
本发明涉及一种涂布均匀装置的技术领域,尤指使用于薄膜业、胶带业、印刷电路板业与LCD业等涂布滚压系统的创新结构装置。
背景技术
平面显示器(FPD;如液晶显示器LCD、电浆显示器PDP等)为了提高亮度、均匀性、色度、视角,必须使用多达5~6种以上各种高单价的光学膜片。随着平面显示器市场成长,高精度多膜层塑料材质的光学薄膜亦逐渐成为市场主流,并且有取代玻璃材质的光学膜片的趋势。举凡各种光学膜,如彩色光阻、广视角膜、增亮膜、偏光膜、补偿膜、扩散片、塑料基板及电池极板的制作,皆以「精密涂布技术」为关键技术核心。
习知的涂布技术,由供料卷筒连续送出涂布基材,在加工部位均匀地涂布液态成膜剂,一般所谓的成膜剂是由固态透明化学原料溶解于溶剂内所制成的。涂布后的素材通过干燥炉加热使溶剂完全挥发、干燥后就形成一定膜厚的光学膜片。
一习知的滚轮涂布机构,如第1图及第2图所示,已揭露于日本公开专利公开号2003-080139,该滚轮机构是于机台上设一储胶区16,该储胶区16与滚轮机构11互相接触,涂布基材由涂布轮11滚动传送,经储胶区16以附着化学膜剂于基材表面,再由刮刀机构12滚压涂布基材,刮除多于涂布胶液,使化学膜剂均匀涂布于其表面。
该滚轮涂布机构至少包含一具有运送涂布基材功能的涂布轮11,一刮除多余涂布胶的刮刀滚轮12,一由两侧侧边挡板14及胶盆主结构13a、13b组成,具有储胶、给胶功能的储胶区16。习知的涂布储胶槽,包含两侧的侧边挡板14,为配合不同的生产幅宽,两侧为活动可拆卸式的侧边挡板,欲生产不同幅宽的产品,须使储胶区16内涂布胶液泄空,将涂布胶经由回流孔15收集至另一储胶容器,再依产品所需涂布幅宽调整两侧侧边挡板14的距离。
习知的涂布储胶搅拌机构如图3及图4所示,为人工以手动式搅拌器18手动搅拌,操作人员以手动式搅拌器18于固定时间间隔进行手动搅拌动作,人工手动搅拌耗费人力工时,降低生产速度,且胶液17搅拌均匀度不佳,影响涂布品质,使生产成本提高,着实具有相当的改善空间。
发明内容
本发明涉及一种涂布均匀装置的技术领域,尤指使用于薄膜业、胶带业、印刷电路板业与LCD业等涂布滚压系统的创新结构装置。本发明为一种涂布胶的给胶搅拌涂布机构总成,具有储胶、给胶、自动搅拌、回流功能,具有不需拆卸即可调整间距的侧边挡板,不需泄空储胶槽内涂布胶液,即可控制涂布幅宽。可减少人力工时,加速生产速度,增加胶液搅拌的均匀度,提升涂布品质,进而降低生产成本。该机构可提供原料上胶于基材前的储放,可依不同生产需求,生产不同幅宽或厚度的产品,并使成分原料均匀分布在基材表面,可稳定原料组成,并可连续生产。
本发明的主要特征在于以机器自动化储胶搅拌方式取代习知的手动式搅拌器搅拌方式,机器搅拌机构至少包括一驱动装置,一搅拌涂布胶液用的搅拌叶片,搅拌叶片以固锁系统固定于储胶槽内,由驱动装置带动搅拌叶片旋转,进而使储胶槽内的涂布胶产生流动,达到搅拌涂布胶,使其均匀混和的功能。
本发明搅拌涂布储胶用的搅拌叶片以固锁系统固定于习知涂布储胶槽的侧边挡板位置,影响原活动式挡板可控制涂布幅宽的功能,由此,欲生产不同幅宽的产品,本发明更进一步以改良式的L型挡板,以取代习知的侧边挡板,欲生产不同幅宽的产品,仅需以螺丝调整L型挡板的间距,不须拆卸侧边挡板,泄空储胶槽内涂布胶液,即可调整涂布幅宽。
附图说明
图1涂布手动搅拌上胶机构立体图;
图2涂布储胶搅拌机构正视图;
图3涂布储胶搅拌机构俯视图;
图4手动搅拌器在涂布上胶胶盆中侧视图;
图5涂布胶给胶搅拌涂布机构俯视图;
图6涂布胶给胶搅拌涂布机构立体图;
图7涂布胶给胶搅拌涂布机构侧视图。
【图号说明】
11涂布轮 12涂布刮刀
13a胶盆主机构 13b胶盆主机构
14活动式挡胶板 15胶盆主机构回流孔
16储胶区 17胶液
18胶盆手动式搅拌器 19涂布基材
5涂布胶给胶搅拌涂布机构
51气动马达 52齿轮
53搅拌叶片 54侧边挡板
55L型挡板 56a、56bL型挡板调整螺丝
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