[发明专利]因子微雕面部凹坑修复技术无效
| 申请号： | 200610106903.3 | 申请日： | 2006-08-15 |
| 公开（公告）号： | CN101125094A | 公开（公告）日： | 2008-02-20 |
| 发明（设计）人： | 陈迎红;刘龙国 | 申请（专利权）人： | 陈迎红 |
| 主分类号： | A61B17/00 | 分类号： | A61B17/00;A45D44/22 |
| 代理公司： | 中国商标专利事务所有限公司 | 代理人： | 李玉平 |
| 地址： | 476000河南省*** | 国省代码： | 河南;41 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 因子 微雕 面部 修复 技术 | ||
【权利要求书】：
1.一种因子微雕面部凹坑修复技术，其特征在于：使用钻石微雕仪和耦合剂营养液修复填平面部疤痕凹坑。
2.如权利要求1所述的因子微雕面部凹坑修复技术，其特征在于：操作步骤如下：
第一步、用一种凹坑皮肤清洁剂处理所操作部位的皮肤；
第二步、常规消毒所操作部位的皮肤；
第三步、在处理部位附一层木棉纸质的覆盖物，在覆盖物上涂抹可以使凹坑皮肤松软及毛囊扩张的制剂；
第四步、用钻石微雕仪进行基础处理，钻石微雕仪接触皮肤的直径大于凹坑直径的2～3mm；
第五步、重复第1步的清洁处理；
第六步、在面部涂抹一层耦合剂；
第七步、钻石微雕仪再次作用于面部凹坑。
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