[发明专利]制造薄膜图案层的方法无效
申请号: | 200610080401.8 | 申请日: | 2006-05-09 |
公开(公告)号: | CN101071273A | 公开(公告)日: | 2007-11-14 |
发明(设计)人: | 周景瑜 | 申请(专利权)人: | 虹创科技股份有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20;G03F7/16;G03F7/26;G02B5/23 |
代理公司: | 北京申翔知识产权代理有限公司 | 代理人: | 周春发 |
地址: | 台湾省新竹科学工业园*** | 国省代码: | 中国台湾;71 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 制造 薄膜 图案 方法 | ||
【技术领域】
本发明涉及一种制造薄膜图案层的方法。
【背景技术】
被动式显示装置,如液晶显示器,需通过彩色滤光片将通过的白光转化为红、绿、蓝三原色光束达成显示不同色彩影像的效果。彩色滤光片主要包括黑矩阵及薄膜图案层,该薄膜图案层是由交替排列的红、绿、蓝三色颜色层(Color Area)组成。
一种现有技术制造薄膜图案层的方法如图1所示,其是以喷墨技术制造薄膜图案层的方法,其主要包括下列步骤:在基板上形成黑矩阵;在该形成有黑矩阵的基板上涂布一光阻层;利用光罩对该光阻层进行曝光;对该光阻层进行显影制得若干挡墙;通过喷墨法将墨水注入该挡墙之间;固化该墨水。
以下结合图2至图7对制造薄膜图案层的方法进行说明。
如图2所示,提供一基板10,例如玻璃基板,在基板10的上表面上形成黑矩阵11。
如图3所示,利用干膜法或湿式旋转法在上述基板10上形成负型光阻层121。
如图4所示,利用一光罩141由该基板10的上表面进行曝光。
如图5所示,对该曝光后的负型光阻层121进行显影,显影后制得若干位于黑矩阵11上的挡墙12,每相邻的两挡墙12之间形成空间。
如图6所示,利用喷墨装置,例如热泡式喷墨装置或者压电式喷墨装置,将需要的颜色的墨水以微流体131注入挡墙12之间的空间内。
如图7所示,利用固化装置,例如加热装置或者发光装置,将该墨水烘干或交连或二者兼有的,以形成平坦的颜色层13,该颜色层13可以为红色,相应地,其它的蓝颜色层及绿颜色层依次形成在该红颜色层13的一侧。
在上述制造薄膜图案层的方法中,挡墙12的制程使用的是光微影法,然而,光微影法在光阻121显影时,由于显影完成点不好控制,挡墙12之间的空间内容易发生光阻121残留的现象,当利用喷墨装置将墨水以微流体131注入挡墙12之间的空间内时,墨水涂布在残留的光阻121上,而造成墨水在该处的附着较差,容易形成漏光。
【发明内容】
有鉴于此,提供一种制造薄膜图案层的方法实为必需。
一种制造薄膜图案层的方法,其包括以下步骤:提供一基板,并采用光阻材料以光阻涂布、曝光、显影方式在基板上形成若干挡墙,该若干挡墙间形成若干收容空间;利用等离子装置清洗该基板表面;利用喷墨装置将墨水注入该若干收容空间中;固化该墨水形成薄膜图案层。
与现有技术相比,所述制造薄膜图案层的方法的步骤中,增加利用等离子清洗基板这一过程,能够去除残留在相邻挡墙之间的光阻,使相邻挡墙之间的基板表面变得干净,通过喷墨法将墨水注入该挡墙之间,因为没有残留光阻的存在,故,墨水在该处附着较佳,不易形成漏光。
【附图说明】
图1是现有技术制造薄膜图案层的方法的流程图。
图2至图7是现有技术制造薄膜图案层的方法的示意图。
图8是本发明制造薄膜图案层的方法的流程图。
图9至图16是本发明第一实施例制造薄膜图案层的方法的示意图。
图17至图21是本发明第二实施例制造薄膜图案层的方法的示意图。
【具体实施方式】
下面将结合附图对本发明作进一步详细说明。
如图8所示,是本发明制造薄膜图案层的方法的流程图,其主要包括以下步骤:提供一基板,并采用光阻材料以光阻涂布、曝光、显影方式形成若干挡墙,该若干挡墙间形成若干收容空间;利用等离子装置清洗该基板表面;利用喷墨装置将墨水注入该若干收容空间中;固化该墨水形成薄膜图案层。
第一实施例结合图9至图16对制造薄膜图案层的方法进行说明。
如图9所示,提供一基板20,例如玻璃基板,在该基板20的上表面涂布一第一光阻材料层210,该第一光阻材料层210的材料为用来制造黑矩阵的感光材料。将涂布有第一光阻材料层210的基板20干燥,使第一光阻材料层210中的溶剂挥发掉。
如图10所示,将具有预定黑矩阵图案的第一光罩241设于该第一光阻材料层210与曝光机光源251之间,并曝光该第一光阻材料层210。
如图11所示,利用显影方式将非黑矩阵图案部分的第一光阻材料层210去除,形成黑矩阵21。将形成有黑矩阵21的基板20加热,进一步固化该黑矩阵21。
如图12所示,在形成有黑矩阵21的基板20的上表面涂布一第二光阻材料层221。将涂布有第二光阻材料层221的基板20干燥,使第二光阻材料层221中的溶剂挥发掉。
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