[发明专利]改进的γ射线成像装置

权利要求书

1.γ射线成像装置，包括具有第一观测场(5)的γ照相机(1)，其特征在于，所述γ射线成像装置还包括：

用γ光谱准直管(6)校准的γ光谱探测器(7)，其中所述γ光谱准直管具有第二观测场(8)，而所述第二观测场(8)围绕轴x2扩展并在离所述γ照相机给定距离(d)以外包括在所述γ照相机(1)的所述第一观测场(5)中，

具有视线(x3)的激光指示器(9)，所述激光指示器(9)的位置靠近所述γ光谱准直管(6)，使得所述视线(x3)与所述γ光谱准直管(6)的所述第二观测场(8)的所述轴x2平行并贯穿所述γ光谱准直管(6)的所述第二观测场(8)，

用于探测由所述激光指示器(9)指向的区域(12)的装置(1、10)，

并且其中所述γ照相机(1)是针孔照相机或编码掩模照相机。

2.根据权利要求1所述的γ射线成像装置，其中，所述激光指示器(9)固定于所述γ光谱准直管(6)。

3.根据权利要求1所述的γ射线成像装置，其中，所述激光指示器(9)包括在所述γ光谱准直管(6)中。

4.根据权利要求1所述的γ射线成像装置，其中，所述激光指示器(9)在可见区或近可见区进行发射。

5.根据权利要求1至4中任一项所述的γ射线成像装置，其中，用于探测由所述激光指示器(9)指向的所述区域(12)的装置由所述γ照相机(1)本身构成。

6.根据权利要求1至4中任一项所述的γ射线成像装置，其中，用于探测由所述激光指示器(9)指向的所述区域(12)的装置由附加照相机(10)构成，所述激光指示器(9)发射所述附加照相机(10)敏感的辐射。

7.根据权利要求1至4中任一项所述的γ射线成像装置，其中，所述γ光谱准直管的所述第二观测场(8)是所述γ照相机(1)的所述第一观测场(5)的十分之一至四分之一。

8.根据权利要求1至4中任一项所述的γ射线成像装置，其中，所述γ照相机(1)的所述第一观测场(5)围绕轴x1扩展，其中所述轴x1与所述γ光谱准直管(6)的所述第二观测场(8)的所述轴x2平行并且与所述激光指示器(9)的所述视线(x3)平行。

9.根据权利要求6所述的γ射线成像装置，其中，所述附加照相机(10)的第三观测场(11)围绕轴x4扩展，其中所述轴x4与所述γ光谱准直管(6)的所述第二观测场(8)的所述轴x2平行并且与所述激光指示器(9)的所述视线(x3)平行。

10.根据权利要求1至4中任一项所述的γ射线成像装置，其中，所述γ光谱准直管(6)用密度大于钢密度的材料来制作。

11.根据权利要求1至4中任一项所述的γ射线成像装置，其中，所述距离(d)为1米。

12.根据权利要求2或3所述的γ射线成像装置，其中，所述激光指示器(9)在可见区或近可见区进行发射。

13.使用根据权利要求1至4中任一项所述的γ射线成像装置的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

用γ照相机(1)对γ辐射源(2)进行定位，其中所述γ辐射源发射具有能谱的γ辐射；

对所述成像装置定向，使得其具有使激光指示器(9)指向一区域(12)的取向，所述区域(12)对应于所述γ辐射源(2)或对应于所述γ辐射源的一部分；

通过探测装置(1、10)检查所述取向是正确的，其中采用由所述激光指示器(9)指向的所述区域(12)的光；

利用γ光谱探测器(7)，获得由如此定位的所述γ辐射源(2)所发射的所述γ辐射的所述能谱。

14.使用根据权利要求6所述的γ射线成像装置的方法，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

用γ照相机(1)对γ辐射源(2)进行定位，其中所述γ辐射源发射具有能谱的γ辐射；

对所述成像装置定向，使得其具有使激光指示器(9)指向一区域(12)的取向，所述区域(12)对应于所述γ辐射源(2)或对应于所述γ辐射源的一部分；

通过探测装置(1、10)检查所述取向是正确的，其中采用由所述激光指示器(9)指向的所述区域(12)的光；

利用γ光谱探测器(7)，获得由如此定位的所述γ辐射源(2)所发射的所述γ辐射的所述能谱。