[发明专利]对NA－σ曝光设置和散射条OPC同时优化的方法和装置无效
| 申请号： | 200410055272.8 | 申请日： | 2004-06-30 |
| 公开（公告）号： | CN1577099A | 公开（公告）日： | 2005-02-09 |
| 发明（设计）人： | D·F·S·苏;A·利布岑 | 申请（专利权）人： | ASML蒙片工具有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20;G06F17/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张雪梅;张志醒 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | na 曝光 设置 散射 opc 同时 优化 方法 装置 | ||
【说明书】：
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