[发明专利]光刻装置有效
| 申请号： | 200410047824.0 | 申请日： | 2004-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN1573566A | 公开（公告）日： | 2005-02-02 |
| 发明（设计）人： | D·F·库伊佩;J·C·康普特;J·范埃克;J·F·莫莱纳亚;D·C·奥克维尔;J·W·M·C·蒂尤森;M·P·范德尔森;G·P·J·范德霍文;M·J·维沃德多克;M·G·帕尔多;G·J·维多斯;G·J·P·尼塞;P·F·格里维;J·范沃斯特;M·M·P·A·维梅伦;A·H·弗维 | 申请（专利权）人： | ASML荷兰有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/20 | 分类号： | G03F7/20 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 肖春京 |
| 地址： | 荷兰维*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 光刻 装置 | ||
【说明书】：
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