[发明专利]用于光受控扩展的结构化屏

权利要求书

1.一种制作可提供入射光期望扩展的结构化屏的方法，所述结构化屏包括基片和多个分布于所述基片至少一个表面上的多个微结构，其特征在于，所述方法包括：

(a)为每个所述多个微结构选择一个在所述基片至少一个表面上的位置；

(b)对每个所述多个微结构选择一种配置；

(c)对步骤(a)与(b)选择的位置和配置计算入射光的扩展；

(d)将步骤(c)计算的扩展与期望的扩展进行比较，需要时重复步骤(a)、(b)和(c)中的至少一个步骤，直到计算扩展与期望扩展的比较结果满足规定的标准；

(e)制造多个精度优于10·λ_n的微结构，其位置与配置满足步骤(d)中规定的标准，其中λ_n是屏的标称工作波长。

2.如权利要求1的方法，其中步骤(a)选择的诸位置形成一规则阵列。

3.如权利要求2的方法，其中阵列为六边形阵列。

4.如权利要求1的方法，其中步骤(a)选择的位置以一组形成拼合图的单元网格为基础。

5.如权利要求4的方法，其中拼合图任选。

6.如权利要求4的方法，其中结构化屏具有内部微结构和边沿微结构，所述拼合在内部微结构之间产生至少某些接合部，在光扩展方面它们对应于两块结构化屏相互铺盖而造成的边沿微结构之间的至少某些接合部。

7.如权利要求1的方法，其中步骤(a)选择的至少某些位置按预定的概率密度函数作随机分布。

8.如权利要求1的方法，其中微结构位置以一组随机的多边形边界为基础。

9. 如权利要求1的方法，其中在步骤(b)中，将至少某些微结构的至少一部分选择成具有下式给出的配置： s ( x , y ) = c [ ( x - x c ) 2 + ( y - y c ) 2 ] 1 + 1 - ( k + 1 ) c 2 [ ( x - x c ) 2 + ( y - y c ) 2 ] + Σ p A p [ ( x - x c ) 2 + ( y - y c ) 2 ] p / 2 ]]>

其中s(x，y)是所述部分的垂度，c是其曲率，(x_c，y_c)是其中心点，κ为锥形常数，A_p为非球形系数。