[实用新型]真空含浸机无效

专利信息
申请号: 01228689.3 申请日: 2001-06-29
公开(公告)号: CN2485317Y 公开(公告)日: 2002-04-10
发明(设计)人: 张清票 申请(专利权)人: 清億机械有限公司
主分类号: C25D21/06 分类号: C25D21/06
代理公司: 上海专利商标事务所 代理人: 任永武
地址: 台湾省高雄*** 国省代码: 台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 真空 含浸机
【说明书】:

实用新型涉及一种真空含浸机。

如图1所示,以往的真空含浸机4主要是于含浸槽51中设有一侧壁面开设有数个孔的脱水筒52,脱水筒52可供置料筒53置放,同时,脱水筒52底部固设有一转盘521,所述转盘521中央固设有一传动杆522,所述传动杆522通过一传动轮523联结传动,而所述传动轮523与所述动力源43连接,以使所述传动轮523可通过动力源43旋转而带动所述脱水筒52旋转,通过由所述动力源43传动旋转的脱水筒52使所述真空含浸机4同时具有含浸与脱水的功能,以使真空含浸机4可在短时间内完成整个含浸作业与脱水作业,进而减少电解液的消耗量,以及提高工作效率的功效。

但以往真空含浸机4在实用上仍存在以下的缺点:

1.含浸品质不够稳定:

当真空含浸机4在进行含浸作业的同时,电子元件上所附着的杂质,也会混入电解液中,这样,当此真空含浸机4于使用前一次含浸作业所使用的电解液时,混杂于电解液中的杂质极有可能附着于电子元件上,导致电子元件于使用时会产生短路的现象,进而影响含浸作业的品质。

2.成本较高:

承上所述,由于混合有杂质的电解液会影响含浸作业的品质,因此,通常所述真空含浸机4于进行含浸作业后发现电解液中有杂质存在时,即会将电解液倒掉,再添加入新的电解液,这样含浸作业的成本即会提高,并同时更会造成不符环保要求的缺点。

本实用新型的目的在于提供一种可实现将电解液回收使用,以使成本降低,同时具有含浸品质较佳等功效的真空含浸机。

依据上述的目的,本实用新型真空含浸机,包括一架体、至少一设置于架体上的含浸装置,以及真空泵;所述含浸装置具有一含浸槽,所述含浸槽中设有一置料筒和一脱水筒以及于所述含浸槽上设有一盖体,含浸槽中可充填电解液,所述脱水筒的侧壁面形成数个孔,所述脱水筒可供置料筒置放,所述脱水筒底部固设有一转盘,所述转盘中央固设有一传动杆,所述传动杆受一传动轮联结传动;所述含浸槽还设有:一排气管、一抽气孔、一进气孔以及一连通管,所述进气孔连接一空压机,所述连通管连通有一储液槽,使所述储液槽中可存放电解液;所述真空泵包括一与抽气孔连通的抽气管,以及一出气管,所述出气管连通有一出气室;所述架体上另设有一动力源,所述传动轮并与所述动力源连接,而使所述传动轮可通过动力源旋转而带动所述脱水筒旋转,其特点是:所述电解液由含浸槽行经至储液槽的路径上设置有一过滤装置。

通过所述过滤装置的设置,以使电解液流经此过滤装置后,混合于其中的杂质可停滞于过滤装置中,并使电解液可呈现出较为洁净的状态,这样,所述电解液即可重复进行含浸作业,而达到可将电解液回收使用及成本降低的功效,另外,又由于前述经此过滤装置的电解液可呈现出洁净的状态,进而使电解液于重复进行含浸作业后,仍可维持较佳的含浸品质。

下面通过最佳实施例及附图对本实用新型的真空含浸机进行详细说明,附图中:

图1是以往真空含浸机示意图;

图2是本实用新型一较佳实施例的示意图;及

图3是本实用新型一较佳实施例的过滤装置的剖视示意图。

如图2、3所示,本实施例所显示的真空含浸机1包括一架体11、至少一设置于架体11上的含浸装置2,以及真空泵(未图示),特别是在所述架体11上设置有一过滤装置3,所述过滤装置3包含有一具有容置空间311的壳体31、一设置于容置空间311中的过滤器32,以及一盖设于壳体31上的盖体33,所述壳体33的侧面设有入液管34,且所述壳体31底端设有出液管35,所述入液管34与含浸槽21相连通,而出液管35与储液槽24相连通,同时,所述壳体31底端的出液管35及盖体33的底面向容置空间311中延伸有定位突缘壁312、331;另外,所述过滤器32设有一外网管321、一容设于外网管321中且与所述出液管35相连通的内网管322、设置于内、外网管322、321间的过滤材质质323,所述内、外网管322、321的两端分别盖合有一具有通孔301的封盖30,且所述封盖30上的通孔301处设置有软质防漏衬垫302,同时所述通孔301与内网管322相连通,当过滤器32装设于壳体31中时,所述定位突缘壁312、331恰可穿置入通孔301中,并将过滤器32定位于壳体31中。

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