[发明专利]成像设备无效

专利信息
申请号: 01145061.4 申请日: 2001-11-27
公开(公告)号: CN1356574A 公开(公告)日: 2002-07-03
发明(设计)人: 马蒂亚斯·里彭霍夫 申请(专利权)人: WIF机械制造公司
主分类号: G02B26/10 分类号: G02B26/10;G02B13/18;B41J2/455
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 代理人: 王景林
地址: 瑞士*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 成像 设备
【权利要求书】:

1.一种用于图形显示印刷版面的激光透镜系统,所述系统包括:

至少一个球面透镜,其位于激光器和所述印刷版面之间,以对所述激光器发射出的激光执行集束;以及

至少一个非球面透镜,其位于所述球面透镜和所述印刷版面之间,以将所述激光聚焦或会聚到一个所需点上。

2.如权利要求1所述的透镜系统,其中,至少有一个透镜是柱面透镜。

3.如权利要求1所述的透镜系统,其中,所述不对称透镜包括被集成为一个光学器件的两个或多个所述透镜。

4.如权利要求1所述的透镜系统,其中,所述不对称透镜包括集成为一个光学器件的两个或多个所述透镜。

5.如权利要求1所述的透镜系统,其中,所述对称透镜和所述不对称透镜中的至少一种具有:在第一方向上,有一个与用于在第二方向上对激光进行聚焦的所述对称透镜和所述不对称透镜中的至少另外一个一致的焦点。

6.如权利要求1所述的透镜系统,其中所述对称透镜和所述不对称透镜中的至少一个具有:在第一方向上,有一个与另一个不对称透镜一致的焦点,所述另一个不对称透镜用于在第二方向上对激光进行聚焦。

7.如权利要求1所述的透镜系统,它与激光器组合在一起。

8.与依据权利要求1组合的透镜系统,其中,所述激光器是一种边沿发射器或一种区域发射的半导体激光二极管。

9.与权利要求7组合的透镜系统,其中,所述球面透镜位于激光器发射区域之前,这样,球面透镜的聚焦点离球面透镜较离光发射区域更远。

10.与权利要求5组合的透镜系统,它具有需要曝光的印刷版面。

11.与权利要求9组合的透镜系统,它具有需要曝光的印刷版面。

12.一种用于图形显示印刷版面的方法,该方法包括:

使激光器连续工作,用于对预定宽度和高度的一个区域单元进行曝光;

利用激光器产生激光,利用具有位于所述激光器和所述印刷版面之间的至少一个球面透镜,以及具有位于所述球面透镜和所述印刷版面之间的至少一个非球面透镜的透镜系统对激光进行聚焦,其中球面透镜用于对激光器所产生的激光进行集束,而非球面透镜用于将所述激光聚焦或会聚到一个所需点上,这样,就产生了具有与需要曝光的区域单元的宽度大致相应的一个宽度的条带,其中所述条带具有小于需要曝光的区域单元的高度的一个高度;以及

将所产生的激光条带引导到需要曝光的区域单元上,这样,就可由所述条带对需要曝光的区域单元的整体高度进行扫描。

13.如权利要求12所述的方法,其中,当所述条带对需要曝光的区域单元的整体高度进行扫描时,所述激光器关闭。

14.如权利要求12所述的方法,其中,至少有一个透镜是柱面透镜。

15.如权利要求12所述的方法,其中,所述不对称透镜包括集成为一个光学器件的两个或多个所述透镜。

16.如权利要求12所述的方法,其中,所述不对称透镜包括集成为一个光学器件的两个或多个所述透镜。

17.如权利要求12所述的方法,其中,所述对称透镜和所述不对称透镜中的至少一个具有:在第一方向上,有与用于在第二方向上对激光进行聚焦的所述对称透镜和所述不对称透镜中的至少另一个一致的一个聚焦点。

18.如权利要求12所述的方法,其中,所述对称透镜和所述不对称透镜具有:在第一方向上,有与另一个不对称透镜一致的一个聚焦点,所述另一个不对称透镜用于在第二方向上对激光进行聚焦。

19.与权利要求12组合的方法,其中,所述激光器是一种边沿发射或区域发射的半导体激光二极管。

20.与权利要求19组合的方法,其中,所述球面透镜位于所述激光器的发射区域之前,以便球面透镜的焦点与所述球面透镜间的距离较与所述光发射区域之间的距离更大。

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