[发明专利]等离子显示屏无效

专利信息
申请号: 01143102.4 申请日: 2001-12-07
公开(公告)号: CN1388556A 公开(公告)日: 2003-01-01
发明(设计)人: 金镛埈;姜太京 申请(专利权)人: 三星SDI株式会社
主分类号: H01J17/49 分类号: H01J17/49
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 罗朋,梁永
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 等离子 显示屏
【权利要求书】:

1.一种等离子显示屏,包括:

后基板;

与后基板分离排列以在它们之间形成放电空间的前基板;

安装在前后基板之间用来把放电空间分隔为分别涂有红、绿、蓝荧光衬底的红、绿、蓝放电单元的隔离壁障,从而分隔后的放电单元的面积依赖于涂在放电单元上的荧光衬底的发光效率的比例而彼此不同;

形成在后基板上的地址电极;和

形成在前基板上具有一对对第一和第二电极并在与地址电极交叉的方向上延伸的放电维持电极,和从第一和第二电极向由隔离壁障分隔的红、绿、蓝放电单元延伸的第一、第二和第三透明电极。

2.如权利要求1所述的等离子显示屏,其特征在于由隔离壁障分隔的放电空间的面积与每个放电单元的荧光衬底的发光效率成反比。

3.如权利要求1所述的等离子显示屏,其特征在于在由隔离壁障分隔的放电单元的面积中蓝放电单元的面积最大。

4.如权利要求1所述的等离子显示屏,其特征在于依赖于放置第一、第二和第三透明电极的红、绿、蓝放电单元的红、绿、蓝荧光衬底的发光效率的比,第一、第二和第三透明电极的面积被不同地形成。

5.如权利要求4所述的等离子显示屏,其特征在于第一、第二和第三透明电极的面积与每个放置有第一、第二和第三透明电极的红、绿、蓝放电单元的荧光衬底的发光效率成反比。

6.如权利要求4所述的等离子显示屏,其特征在于在第一、第二和第三透明电极的面积中,放置在蓝放电单元中的第三透明电极的面积最大。

7.如权利要求1所述的等离子显示屏,其特征在于由隔离壁障分隔的放电单元的面积由每个放电单元周围的隔离壁障的厚度不同来确定。

8.如权利要求7所述的等离子显示屏,其特征在于由隔离壁障分隔的放电单元的面积与每个放电单元的荧光衬底的发光效率成反比。

9.如权利要求7所述的等离子显示屏,其特征在于在由隔离壁障分隔的放电单元的面积中,蓝放电单元的面积最大。

10.一种等离子显示屏,包括:

后基板;

与后基板分离放置以在它们之间形成放电空间的前基板;

安装在前、后基板之间的隔离壁障并具有排列成条状彼此分开预定的距离的主隔离壁障和用来连接主隔离壁障和把放电空间分隔为分别涂有红、绿、蓝荧光衬底的红、绿、蓝放电单元的辅助隔离壁障,从而分隔的放电单元的面积依赖于涂在放电单元上的荧光衬底的发光效率的比值而彼此不同;

形成在后基板上的地址电极;和

形成在前基板上并在与地址电极交叉的方向上延伸的一对对第一和第二电极。

11.如权利要求10所述的等离子显示屏,其特征在于放电单元面积的不同由辅助隔离壁障的厚度确定。

12.如权利要求10所述的等离子显示屏,其特征在于放电单元的面积与放电单元的荧光衬底的发光效率成反比。

13.如权利要求10所述的等离子显示屏,其特征在于在红、绿、蓝放电单元中蓝放电单元的面积最大。

14.如权利要求10所述的等离子显示屏,其特征在于第一和第二电极平行于主隔离壁障形成并且不覆盖放电单元,第一、第二和第三透明电极通过从第一和第二电极分别向红、绿、蓝放电单元延伸形成。

15.如权利要求14所述的等离子显示屏,其特征在于依赖于每个放置有第一、第二和第三透明电极的红、绿、蓝放电单元的荧光衬底的发光效率,第一、第二和第三透明电极的面积彼此不同。

16.如权利要求15所述的等离子显示屏,其特征在于第一、第二和第三透明电极的面积与每个放置有第一、第二和第三透明电极的红、绿、蓝放电单元的荧光衬底的发光效率成反比。

17.如权利要求15所述的等离子显示屏,其特征在于在第一、第二和第三透明电极中放置在蓝放电单元的第三透明电极的面积最大。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三星SDI株式会社,未经三星SDI株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/01143102.4/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top