[发明专利]打火机无效
申请号: | 01135059.8 | 申请日: | 2001-11-19 |
公开(公告)号: | CN1393657A | 公开(公告)日: | 2003-01-29 |
发明(设计)人: | 杨锦忠 | 申请(专利权)人: | 杨锦忠 |
主分类号: | F23Q2/48 | 分类号: | F23Q2/48;F23Q2/46 |
代理公司: | 北京慧泉专利事务所 | 代理人: | 王顺荣 |
地址: | 中国*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 打火机 | ||
(一)技术领域:
本发明是关于电石型打火机,更具体地说是关于具有改良型点燃系统的打火机,用以防止儿童使用,并且,点燃打火机后没有电石剩余物粘在使用人的拇指上,属于日常生活用品。
(二)背景技术:
当今的丁烷打火机使用非常普遍,尤其是电石型打火机,因为它们经济,便宜,好操作,易点火。然而,传统的电石型打火机在使用时有缺点,在点燃打火机时,必须旋转火花轮,在按下按钮放出燃烧气体的同时打出火花。当电石的质量不好时,产生的火花不够强,难以点燃气体。如果旋转火花轮的动作和按下按钮不是连续的动作,根据使用者不同会造成不同的操作效果。另外,当火花轮与电石摩擦产生火花时,电石的残余物会留在打火机的火花轮上,因此,当旋转火花轮时,电石的残余物会留在使用人的拇指上。在较坏的情况下,当不能点燃时则需反复旋转火花轮,致使用者的拇指会疼痛和弄脏,而且其外观形状一般,所以传统电石型打火机虽然便宜,但仍需改进。
当今,压电型打火机变得更加普遍,其中压电打火花包括一个压电组件以产生压电。使用者只需按下按钮就可以点燃打火机。然而,压电组件在高级打火机中广泛使用,但由于压电组件尤其是高质量的压电组件的费用高,不能广泛使用于可丢弃的打火机上,所以压电打火机的使用仍只限于特定的情况,推广应用受限制。
一种改进的电石型可丢弃的打火机包含一撞击刀片替代传统的火花轮以撞击电石产生火花。当点燃这种打火机时,使用者必须在按钮上施加径向拉力,以便将撞击刀片向外拉而通过使撞击刀片与电石之间的相互摩擦而产生火花,以点燃打火机。因此,在点火过程中,使用者的拇指不会与撞击刀片直接接触,避免了电石的残余物粘在使用者的拇指上。然而,当火花不足以点燃气体造成打火机点火失效时,使用者就需要重复进行点燃打火机的动作,使用不方便。
本发明的目的不仅提供一防止打火机被意外点燃的装置,还提供了对上述缺点予以解决的方法。其主要是提供一种与改进的点燃系统相结合的打火机,其中在点燃打火机后不会有电石残余物粘在使用人的拇指上,点燃打火机只需要一简单的下滑动作就可以旋转火花轮,以代替传统的径向运动。也就是说,使用人的拇指只需要在按钮上施加一压力以旋转火花轮而点燃打火机,以防止儿童使用打火机而发生意外事故。其中燃气杠杆是由按钮摩擦带动,不是通过啮合而释放燃气,以避免燃气杠杆的弯曲。这种点燃系统可安装在各种电石型打火机上,而不需要改变电石型打火机的原本结构设计,以便减少将这种点燃系统结合在传统的按钮电石型打火机上的制造费用。
(三)、发明内容:
一种打火机,包含有:
一支撑构架,包含一外罩,具有一液态气体室和一按钮空腔,一对由该外罩顶部相对两侧延伸的支撑壁,一轴枢支撑在该两支撑壁之间的燃气杠杆,一出现于该外罩顶部与该液态气体室相连结且由燃气杠杆操纵释入气体的气体入喷口;和
一点燃系统,包含:
一由电石弹簧支撑的电石,其中该电石和电石弹簧位于该外罩顶部两支撑壁之间的电石套内;
一火花轮,具有周边粗糙的打火表面,位于电石的正上方,可旋转地支撑在两支撑壁之间;
至少一驱动轮,同轴联接于该火花轮的一侧,其中该驱动轮有一组齿轮齿分布在外周边表面并且其直径大于火花轮的直径;
一按钮可滑动地位于按钮空腔;
至少一突出触发器从按钮的前壁向外延伸,其中该突出触发器在前端至少有一啮合齿并且可滑动地与该驱动轮的齿轮齿啮合以驱动该火花轮旋转;
一弹性组件,保持该按钮在正常向上的位置,其中该弹性组件具有两端相对于该按钮和外罩的顶部偏心。
该打火机进一步包括一导引装置,以保证火花轮打击电石而产生火花,其中该导引装置包含一弹性拦阻臂,自按钮的后壁整体向下延伸偏离该外罩外壁的顶部边缘,其中当按钮被向下按下时,该拦阻臂可滑动地远离该外罩外臂的顶部边缘,以产生火花轮的瞬间运动。
其中该拦阻臂具有一圆形底端偏离该外罩该外壁的顶部倾斜边缘,当按钮被向下按时,该拦阻臂的底端沿外罩顶部边缘滑动至按钮空腔,当该按钮被向上推至正常向上位置,该拦阻臂的底端可滑动地偏离该外罩的顶部边缘。
其中该导引装置进一步包含一对拦阻锁,自该按钮的两侧壁向外延伸,分别偏离按钮空腔的两侧壁的两“L”型顶部边缘,以保持该按钮位于正常向上的位置并防止该按钮滑出按钮空腔。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于杨锦忠,未经杨锦忠许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/01135059.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:X射线检查装置
- 下一篇:晶片形状评价法、装置及器件制造法,晶片及晶片挑选法