[发明专利]平版印刷印版的支持体和感光性树脂平版有效
申请号: | 01122114.3 | 申请日: | 2001-05-15 |
公开(公告)号: | CN1326861A | 公开(公告)日: | 2001-12-19 |
发明(设计)人: | 远藤正;增田义孝;西野温夫;上杉彰男;寺冈克行;堀田久 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | B41N3/04 | 分类号: | B41N3/04 |
代理公司: | 北京市专利事务所 | 代理人: | 鲁兵 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 平版印刷 支持 感光性 树脂 平版 | ||
1.一种感光性树脂平版,包括:
易溶于碱的中间层;和
通过加热能变为碱溶性的感光层,
通过使铝板经过磨砂目处理、碱蚀刻和阳极氧化处理,将所述层赋予在平版印刷印版的支持体上,
其中对于所述碱蚀刻处理,碱蚀刻量定为0.5-4g/m2,在该支持体表面的凸起部分上的10%的所述感光层的最薄处的平均厚度定为0.2-2μm。
2.一种平版印刷印版的支持体,是通过包括使铝板至少经过两步或更多步的磨砂目处理和在所述磨砂目处理步骤间的蚀刻或去污步骤的处理方法得到的,
其中,对于所述支持体的表面,按照JIS B0601—1994测量的算术平均粗糙度(Ra)定为0.3-0.5μm,
对于所述支持体的表面,按照JIS B0601—1994测量的10—点平均粗糙度(R2)定为3.0-6.0μm,和
对于所述支持体的表面,当设定值为0.3-3.0μm时,粗糙度曲线峰的Pc数为每毫米15或更多。
3.根据权利要求2所述的平版印刷印版的支持体,其中对于所述支持体的表面,由JIS Z8741—1997规定的85—度表面光泽度等于或低于30。
4.根据权利要求2或3的平版印刷印版的支持体,其中所述处理方法最后包括阳极氧化步骤。
5.根据权利要求2或3的平版印刷印版的支持体,其中所述处理方法最后包括阳极氧化步骤和其后的水湿润步骤。
6.一种包括权利要求2或3的平版印刷印版的支持体和其中的感光层的感光性树脂平版。
7.一种包括权利要求4的平版印刷印版的支持体和其中的感光层的感光性树脂平版。
8.一种包括权利要求5的平版印刷印版的支持体和其中的感光层的感光性树脂平版。
9.一种平版印刷印版的支持体,是通过包括使铝板经过至少两步或更多步的电化学磨砂目处理和在所述的电化学磨砂目处理步骤间的蚀刻或去污步骤的处理方法得到的,
其中,对于所述支持体的表面,在截止值为0.8mm和评价长度为6mm下按照JIS B0610—1987测量的滤波曲线中,深度为0.3μm或更深的波数为35—60,和深度为1.0μm或更深的波数5或更少,
对于所述支持体的表面,在截止值为0.8mm和评价长度为6mm下按照JISB0610—1987测得的算术平均粗糙度为0.35-0.5μm,和
在所述支持体的整个表面上形成直径为0.5-2μm的均匀的蜂窝凹痕。
10.根据权利要求9的平版印刷印版的支持体,其中对于所述支持体的表面,由JIS Z8741—1997规定的85—度表面光泽度等于或低于30。
11.根据权利要求9或10的平版印刷印版的支持体,其中所述的处理方法最后包括水湿润处理步骤。
12,一种制备平版印刷印版的支持体方法,是包括使铝板经过至少两步或更多步的电化学磨砂目处理和在所述电化学磨砂目处理步骤间的蚀刻或去污步骤的处理方法,包括以下步骤:
进行一次电化学磨砂目处理以形成在滤波曲线中深度为0.μ3m或更深的波数为35—60、深度为1.0μm或更深的波数为5或更少的表面,所述波数是在截止值为0.8mm和评价长度为6mm下按照JIS B0610—1987测得的;和进行另一次电化学磨砂目处理。
13.一种包括权利要求9或10的平版印刷印版的支持体和其中的感光层的感光性树脂平版。
14.一种包括权利要求11的平版印刷印版的支持体和其中的感光层的感光性树脂平版。
15.一种平版印刷印版的支持体,是通过将铝板经磨砂目处理得到的,其中对于所述支持体的表面,在1mm内的凹痕数为10个或更少,每个所述凹痕部分的宽为8μm或更宽,或者在垂直于宽度方向的最大深度为1.7μm或更深,和对于所述支持体的表面,由JIS Z8741—1997规定的85—度表面光泽度等于或低于30。
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