[发明专利]组织模块无效

专利信息
申请号: 00805975.6 申请日: 2000-04-03
公开(公告)号: CN1346437A 公开(公告)日: 2002-04-24
发明(设计)人: R·L·凯施曼 申请(专利权)人: 分析科学公司
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 崔幼平,郑建晖
地址: 美国加利*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 组织 模块
【说明书】:

背景技术

利用可见光和电子显微技术进行透射显微的有机组织样品和其它材料的制备一般是这样进行的,让样品经受一系列化学处理,最终成为一个放置有样品的固体块状制品。

在常规的组织制备工艺中,首先用福尔马林、戊二酸醛或其它能够防治样品自变质(自降解(self-degradation))的物质对组织进行化学固定,让样品变硬,并提高其的渗透性,这样就增强了随后浸出溶液过程中的渗透作用。化学固定后的渗透步骤是用提高溶剂例如乙醇、二甲苯的浓度逐步替换掉水而将所有的水分从样品中去除的。渗透后用熔化的石蜡进行处理,然后将样品冷却至室温使其固化。另外,也可将组织用塑料聚合物进行渗透,然后通过加热、紫外线和其它方式使其硬化。硬化的渗透后的组织放置在模具中并用石蜡或塑料包围之,制成组织块。

现行的组织制备工艺已被开发出用在标准光和电子显微技术中,在这种技术中,从块体上切下一个样品的薄的断面并将其放在玻璃载片或其它支承物上。将组织染色以改善其成像效果,然后在显微镜下观察得出二维图像。有关组织三维结构的数据是通过测试组织的逐次切片而获得的。

美国专利4960330描述了一种块体切片和图像获取系统,其中,断面被从块体上逐次去除,使用显微镜或激光扫描仪将暴露出的块体表面成像。该方法能够快速地记录和储存结构数据而不会耗时,也不会有由于组织断面逐个处理而带来的错误。但至今很少对用这种设备和方法观察并记录暴露块表面的可视数据的组织块的最佳几何造型进行研究。

发明内容

本发明的一个方面是一种模块,它用来保持要被切片和检测的样品。模块包括一个整体上向样品仓逐渐变细的柄部,样品就放置在样品仓中。样品仓具有断面的几何形状,并且其尺寸和形状基本上与用来使块体表面成像的成像设备的成像区相对应。柄部的形状适于与将模块固定到切片设备上的固定装置相接合。

本发明的另一方面是一种模具,它用来制备要被切片和检测的样品。模具限定了一个长形空腔,它包括位于近端的一个开口,用来将选定的材料从模具外部引入。近端限定了适于与固定装置相接合的形状。模具向远端逐渐变细,远端限定了多面体,其尺寸和形状适合于切片。模具远端也接近于可用来观察由该模具制备的组织块的暴露表面的成像设备的成像区的尺寸和形状。

在本发明的又一个方面,提供一种制备用来切片和检测的组织样品的方法。该方法包括将样品放置在长形块体的样品仓中,该块体包括一个整体上向样品仓逐渐变细的柄部,样品仓具有多边形截面的几何形状和接近于用来观察样品的成像设备的成像区的尺寸和形状的暴露表面。然后将长形块体的柄部与固定装置的相对的表面接合以将长形块体固定到切片设备上,其中,样品仓布置成使其平直表面对着切片设备的切割装置,组织块的一个断面切片被去除以将用于检测的表面暴露出来。

“基本上对应于或接近成像设备的成像区”的意思是,横截于块体长度方向的样品仓的截面,或者样品仓的暴露表面接近于用来观察该表面的成像设备的成像区,或者其尺寸和形状与用来观察该表面的成像设备的成像区相类似。成像区就是成像装置能记录与该表面有关的数据的一个区域。希望的是,要被观察的块体的暴露表面既不比成像区大很多也不比成像区小很多。成像装置提供表面的显微图像,也就是说,被成像区域的实际规格并不由扫描阵列决定而是由放大光学系统决定。因此,成像区的大小由放大光学系统决定,而成像区的形状由该阵列设计决定。

本发明的模具和模块在对放置的组织样品进行切片和成像时提供了最佳的性能。样品仓的规格能使其图像质量最好。通过使样品仓的暴露表面基本上与可由成像设备摄取的区域相对应,使样品不会延伸到观察区的外部(导致不完整的图像),也不会使块表面不能填满成像区,从而导致空白区的无效成像。

另外,样品仓的几何形状与柄部的几何形状无关。因此,可以挑选柄部的几何形状以确定样品仓相对于刃具的位置,从而在块表面上产生高质量的暴露表面。

附图说明

下面参考附图对本发明进行描述,附图仅用于阐述而不对本发明构成限制。其中:

图1是本发明模具的透视图;

图2A-C是本发明三种模块的透视图;

图3A-C是模块柄部的截面图,该模块具有与切片设备的固定装置接合的多种断面几何形状;

图4是本发明模具的侧视图,该模具包括一个螺纹帽;以及

图5是本发明模具的(a)顶视图以及(b)底视图。

具体实施方式

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