[发明专利]数据存储介质

说明书

发明领域

本发明涉及数据存储介质，特别涉及制造数据存储介质的方法和涉及部分或全部聚合的数据存储介质。

背景技术

光、磁和磁光介质是高性能存储技术的主要源，它能使高存储容量与每兆存储字节的合理价格相联系。通常用每平方英寸磁盘表面面积的数十亿位(每平方英寸千兆位(千兆位/英寸²)(Gbit/in²))表示的面密度等价于线密度(每英寸磁轨的信息位)乘以每英寸的磁轨密度。改善的面密度一直是削减每兆字节价格的关键因素之一，而进一步增加面密度继续是工业界的要求。

在光存储领域中，进步集中于访问时间、系统体积和竞争成本。正在通过集中于光学的衍射限制(使用近场光学)、调查三维存储、调查可能的全息记录方法和其它技术来增加面密度。

常规聚合的数据存储介质已经在下述领域使用，诸如紧致盘(CD-ROM)和可记录或可重写紧致盘(例如CD-RW)，和相似的较低面密度的设备，例如小于1千兆位/英寸²，它们通常是需要使用具有低双折线的良好光学质量衬底的通读(read-through)设备。

参考图1，图中表示出一个低面密度系统，它有一个读取设备3和一个可记录或可重写存储介质5。存储介质5由常规层组成，包括数据层7，电介质层9和9’，反射层11和保护层13。在系统1运行期间，由读取设备3产生的激光15入射到光学清洁的衬底17上。激光穿过衬底17，并通过电介质层9、数据层7和第二电介质层9’。然后激光15从反射层11反射回来，通过电介质层9’、数据层7、电介质层9和衬底17，并由读取设备3读取。

不像CD和以上的DVD，具有高面密度容量的存储介质，通常大于5千兆位/英寸²，使用第一表面或近场读/写技术，以便增加面密度。对于这种存储介质，虽然衬底的光学质量不相关，但是衬底的物理和机械特性变得日益重要。对于高面密度应用，包括第一表面应用，存储介质的表面质量可以影响读取设备的精确度、存储数据的能力和衬底的复制质量。此外，存储介质使用时的物理特性也可以影响存储和检索数据的能力；亦即介质的轴向移动如果太大可以阻止精确检索数据和/或损坏读/写设备。

常规上，与使用第一表面关联的上述事项，包括近场，通过使用金属例如铝和玻璃衬底，已经说明一些技术。这些衬底形成一个盘片，并在该衬底上使用各种技术诸如溅射布置希望的层。可能的层包括反射层、电介质层、数据层和保护层。一旦增加了希望的磁性层，则可以通过磁读/写技术把磁盘分成径向和切线方向的扇区。也可以通过物理或化学技术例如腐蚀增加扇区结构，然而，这必须在放置磁性层之前发生。

如从迅速发展的工业中显见，对更大存储容量而更低价格的需求、具有可重写盘的希望、和若干技术已经进行过调查，并且一直在希望和寻找技术中的进一步进展。在技术中需要的是能使存储介质用在第一表面，包括近场，应用中的存储介质衬底中的进展。

发明概述

本发明涉及数据存储介质及其制造方法和使用处理。在一些优选的实施例中，存储介质包括：由至少一个塑料树脂部分组成的衬底，和在该衬底上的至少一个数据层，其中，数据层可以通过至少一个能量场至少部分从其中读、向其上写或读和写的组合操作，其中，当能量场接触存储介质时，所述能量场在它能够入射到衬底前入射到数据层。

在另一个实施例中，数据存储介质包括：一个刚性衬底、一个包括表面特征的塑料层和在塑料层上的至少一个附加层。塑料层优选用能够抵抗各种技术诸如溅射的树脂制造，为增加另外希望的层，例如包括反射层、电介质层、数据存储层和保护层。在塑料层中出现的表面特征优选是压印的表面特征，而塑料层优选使用旋转涂敷和/或溅射涂敷技术施加在衬底上。在另一个实施例中，所述方法包括：形成塑料衬底后接着在衬底上形成数据存储层。该方法可以包括引入浇铸聚合物来模铸塑料衬底；冷却所述塑料衬底；和在所述塑料衬底上形成数据存储层。该方法可以可选地包括在所述塑料衬底的至少一侧的原来位置形成地理定位器。该方法还可选地包括在该地理定位器上形成数据存储层。

在另一个实施例中，存储数据的方法包括：转动包括衬底的存储介质，衬底具有至少一个塑料部分和在所述衬底的至少一个表面上布置的至少一个数据层；引导任何能量场到所述存储介质，使得所述能量场在它能够入射到衬底前入射到数据层；和从数据存储层检索信息。可以使用各种能量场，例如磁光存储，其中，使用磁场和/或激光写，而使用利用反射光学的光束读。

附图说明