[发明专利]磁路结构、使用磁路结构的发电装置和电子机器无效

专利信息
申请号: 00800127.8 申请日: 2000-02-04
公开(公告)号: CN1294771A 公开(公告)日: 2001-05-09
发明(设计)人: 饭岛好隆;松泽欣也 申请(专利权)人: 精工爱普生株式会社
主分类号: H02K1/14 分类号: H02K1/14;G04C10/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 代理人: 刘宗杰,叶恺东
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 磁路 结构 使用 发电 装置 电子 机器
【权利要求书】:

1.一种具有分别由多个磁性体集层而成的第1集层部件和第2集层部件以及将上述第1集层部件的端部与上述第2集层部件的端部保持为相互接合的状态的接合单元,而由相互接合的上述第1集层部件和上述第2集层部件构成至少磁路的一部分的磁路结构,其特征在于:在上述第1集层部件和上述第2集层部件的各端部形成在指定方向看构成为凹凸状的凹凸形状,以成为相互对应的形状关系,在两凹凸形状相互不同地组合的状态利用上述接合单元而接合,处于相互对应的集层方向的位置的上述第1集层部件的磁性体的端面与上述第2集层部件的磁性体的端面相互接触。

2.一种具有分别由多个磁性体集层而成的第1集层部件和第2集层部件以及将上述第1集层部件的端部与上述第2集层部件的端部保持为相互接合的状态的接合单元,而由相互接合的上述第1集层部件和上述第2集层部件构成至少磁路的一部分的磁路结构,其特征在于:在上述第1集层部件和上述第2集层部件的各端部形成在指定方向看构成为凹凸状的凹凸形状,以成为相互对应的形状关系,在两凹凸形状相互不同地组合的状态利用上述接合单元而接合,上述凹凸形状分别形成不论在上述第1集层部件和上述第2集层部件的上述磁性体的集层方向和平面方向的哪个方向看都成为凹凸状,不论在上述集层方向和上述平面方向的哪个方向两凹凸形状都相互不同地组合。

3.按权利要求1或权利要求2所述的磁路结构,其特征在于:上述第1集层部件的端部和上述第2集层部件的端部向其组合方向延伸同时具有相互接触的接触面部分。

4.按权利要求1~3任一项所述的磁路结构,其特征在于:上述凹凸形状在上述第1集层部件和上述第2集层部件中分别利用集层的上述磁性体间的端面位置的不同来形成。

5.按权利要求1~3任一项所述的磁路结构,其特征在于:上述接合单元利用都贯穿各自形成的上述凹凸形状相互组合的上述第1集层部件和上述第2集层部件的上述端部而连结的连结部件将上述第1集层部件与上述第2集层部件接合。

6.按权利要求5所述的磁路结构,其特征在于:在上述连结部件中至少贯穿上述第1集层部件和上述第2集层部件的上述端部的部分由软磁性材料构成。

7.按权利要求6所述的磁路结构,其特征在于:上述连结部件,由插入到上述第1集层部件和上述第2集层部件的上述端部内的支撑座和拧入到该支撑座中的接合螺钉构成,上述支撑座和上述接合螺钉的至少一方由软磁性材料构成。

8.按权利要求1~7的任一权项所述的磁路结构,其特征在于:上述接合单元具有将分别在上述第1集层部件和上述第2集层部件上形成的上述凹凸形状向使上述第1集层部件与上述第2集层部件相互组合的上述端部相互接近的方向挤压的挤压部件。

9.按权利要求8所述的磁路结构,其特征在于:上述挤压部件配置在上述第1集层部件与上述第2集层部件的接合区域的外侧。

10.按权利要求9所述的磁路结构,其特征在于:上述挤压部件配置为与上述第1集层部件和上述第2集层部件中的至少一方的上述端部相反侧的侧面部接触同时可以向指定方向移动,在上述侧面部和上述挤压部件中的至少一方上设置与另一方接触同时向上述指定方向倾斜的倾斜面,通过使上述挤压部件向上述指定方向移动而沿上述倾斜面向使上述第1集层部件与上述第2集层部件的上述端部相互接近的方向挤压。

11.按权利要求8所述的磁路结构,其特征在于:上述挤压部件配置在上述第1集层部件与上述第2集层部件的接合区域内,是将上述第1集层部件与上述第2集层部件连结的连结部件,通过连结该连结部件而向使上述第1集层部件与上述第2集层部件相互接近的方向挤压。

12.一种发电装置,其特征在于:具有权利要求1~权利要求11的任一权项所述的磁路结构,设置有具有转子磁极并且可以转动的转子、具有与上述转子磁极相对的定子磁极的定子架和具有与该定子架磁耦合的磁心和卷绕在该磁心周围的电磁线圈的定子,并具有将上述磁路结构应用于上述定子的发电部。

13.按权利要求12所述的发电装置,其特征在于:上述定子架和上述磁心是上述第1集层部件和上述第2集层部件。

14.具有权利要求12或权利要求13所述的发电装置的电子机器。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于精工爱普生株式会社,未经精工爱普生株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/00800127.8/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top