[实用新型]一种制造电子元器件金属外壳用金刚石膜拉深模具无效
申请号: | 00237551.6 | 申请日: | 2000-06-14 |
公开(公告)号: | CN2429278Y | 公开(公告)日: | 2001-05-09 |
发明(设计)人: | 周水军 | 申请(专利权)人: | 周水军 |
主分类号: | B21D37/12 | 分类号: | B21D37/12 |
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地址: | 338025 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 制造 电子元器件 金属外壳 金刚石 膜拉深 模具 | ||
本实用新型涉及制造电子元器件外壳用拉深模具,尤其涉及一种制造电子元器件金属外壳用金刚石膜拉深模具。
电子元器件是构成电子产品的一个基本器件,相当一部分电子元器件是由金属外壳构成。金属外壳通常采用厚0.25mm的锌白铜合金带或黄铜带材由送料装置自动送入连续冲床,按工艺要求经过一个以上拉深模具,逐步冲压而成。金属外壳尺寸精度要求高,特别是封焊面要求高精度和高光洁度,以保证封焊后的密封效果。而目前以Cr12为代表的冷作模具钢或硬质合金材料制造的拉深模具,在耐磨性方面还存在不足之处,影响了拉深模具的使用寿命。中国技术市场管理促进中心主办的《中国新技术新产品精选》(刊号:CN11-3375/7)P16~19页介绍了深圳市雷地科技实业有限公司研发的90年代人工合成尖端新材料-金刚石膜材料。金刚石膜生成的基本工艺过程是将含碳气体变为气态活性碳原子,定向沉积在被镀物体表面,生成一层致密、均匀、光滑、牢固的碳-碳原子键结构的固态晶体膜,该模层具有高硬度、耐磨损、耐腐蚀、导热性、电学性、透光性、生物亲和性、表面光洁度高等其它任何材料无法媲美的显著性能。采用原子晶体沉积法生成金刚石膜,为拉深模具提高使用寿命创造了条件。
本实用新型的目的是提供一种高硬度、耐磨损、冲压工作面光洁度高,使用寿命长的一种制造电子元器件金属外壳用金刚石膜拉深模具。
本实用新型由凸模及凹模构成拉深模具,其特征在于凸模、凹模配合冲压工作面上镀有金刚石膜。
本实用新型的优点是将具有高硬度、耐磨损、表面光洁度高的金刚石膜材料镀覆在拉深模具冲压工作面上,从而大大提高拉深模具的使用寿命。
下面结合附图及实施例对本实用新型作进一步的描述。
图1是本实用新型示意图。
图1给出了生产晶振49U金属外壳主要工序拉深成形拉深模具示意图。如图1所示,将凸模1、凹模2置于金刚石膜生产设备镀膜机中,气态活性碳原子,定向在凸模1冲压工作面A上及凹模2冲压工作面B上沉积,生成一层0.2~0.4μmm厚度的金刚石膜,取出净化即可使用。
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