[发明专利]光盘装置和光盘装置中的聚焦控制方法

说明书

本发明涉及一种光盘装置和光盘装置中的聚焦控制方法。例如，本发明可以应用于一种通过近场(near-field)记录(NFR)对原始光盘进行曝光的曝光装置。本发明还可以根据盘形记录媒体反射的光与物镜出射面(exit surface)反射的光之间的干扰所产生的干扰光束的光通量检测结果，通过移动物镜，在近场记录中可靠地进行聚焦控制。

在传统技术中，采用通过近场记录，在盘形记录媒体的原始盘上，高密度地记录所要求的数据。对于这样的曝光装置，采用这样的聚焦控制方法，即，采用由物镜出射面通过全反射所反射的一部分记录激光束的光通量作为基准，进行聚焦控制。

在近场记录中，记录激光束是在物镜的出射面上会聚的，该物镜的数值孔径大于或等于1，从而物镜对记录激光束的会聚会形成很小的光束点。另外，在近场记录中，物镜的位置靠近原始盘，而原始盘暴露在一部分由于近场效应而从物镜的边缘端漏泄的记录激光束下。

当物镜和原始盘之间的距离较大并且没有发生近场效应时，会聚在物镜出射面上记录激光束分量以大于临界角的角度照射在出射面上，由出射面通过全反射而完全反射，并回到光源侧。回到光源侧的光通量随着距离的减小以及近场的相应增强而逐渐减小。在采用将全反射分量作为基准的聚焦控制中，物镜沿光轴移动，从而以大于临界角的角度投射到物镜出射面上并因此返回光源一侧的光通量变成一个规定值。

然而，由于各种问题，采用这样一种全反射分量作为基准的聚焦控制至今没有在实际中应用。

在曝光装置中，会出现这样的情况，即，根据曝光条件，改变记录激光束的光通量。在这样的情况下，在采用全反射分量作为基准进行聚焦控制时，回到聚焦控制主体的光源一侧的光通量也是变化的。所以，必须重新设置聚焦控制的基准，这需要进行烦琐的操作。

采用全反射分量作为基准的聚焦控制的另一个问题是，回到光源侧的光通量不能以充分大的SN比加以检测，这妨碍了聚焦控制的稳定进行。

在曝光装置中，凹点潜象是通过记录激光束的通/断控制形成的。采用全反射分量作为基准进行聚焦控制的另一个问题是，回到光源一侧的光通量的检测结果是被通/断控制所调制，这也妨碍了聚焦控制的稳定进行。采用滤色镜(filter)，通过消除与记录激光束调制相应的分量，可以解决这一问题。然而，在聚焦控制频带中，会出现这样的情况，这种分量是不可能完全被消除，这时，这种分量作为噪声分量而保留了下来。

解决上述问题的一种方法是，产生一条独立的激光束，这条激光束的波长不在原始盘的灵敏范围以内，并检测该激光束的全反射分量的光通量。然而，这一方法有这样一个问题，即，由于光学系统的色差而使精度降低。另外，会出现这样的情况，即，在物理上很难检测全反射返回光。

本发明就是考虑到现有技术中的这些情况。因此，本发明的目的是提供一种光盘装置和光盘装置中的控制方法，使得可以在近场记录中可靠地进行聚焦控制。

为了实现上述目的，本发明提供了一种光盘装置和光盘装置中的聚焦控制方法，其中，检测盘形记录媒体反射的光和物镜出射面反射的光之间的干扰所产生的干扰光束，根据干扰光束的光通量检测结果，使物镜沿其光轴移动。

在上述光盘装置和聚焦控制方法中，检测盘形记录媒体反射的光与物镜出射面反射的光之间的干扰所产生的干扰光束，并根据干扰光束的光通量检测结果，使物镜沿其光轴移动。所以，通过检测盘形记录媒体和物镜出射面之间的间隔变化，可以进行聚焦控制，并且检测精度稳定，它所具有的精度相应于产生干扰光束的聚焦激光束的波长。可以在这样高的精度下进行聚焦控制。

图1是按照本发明的曝光装置的示意图；

图2是图1所示曝光装置中所采用的屏蔽物的平面图；以及

图3是图1所示曝光装置中光通量检测结果的特性曲线图。

下面参照附图详细描述本发明的实施例。

1．本实施例的结构

图1是按照本发明实施例的曝光装置的示意图。该曝光装置1以螺纹形式在原始盘2上形成磁道，并且通过将记录激光束L1施加到原始盘2上，同时通过预定的驱动机构使原始盘2旋转，逐渐使光束施加位置向外移动，而在磁道上形成坑点列潜象。

在曝光装置1中，激光光源3是Kr激光，它发射出具有预定波长的记录激光束L1。透镜将记录激光束L1转换成会聚光束，并且该会聚光束被输入到AOM(声光调制器)5内。AOM5用从信号发生器6输出的调制信号S1对记录激光束L1进行通/断调制，并输出经调制的光束。信号发生器6产生与要形成的坑点列对应的调制信号S1。