[发明专利]定时释放显影抑制基黄成色剂及其制备无效
申请号: | 00123092.1 | 申请日: | 2000-10-18 |
公开(公告)号: | CN1349128A | 公开(公告)日: | 2002-05-15 |
发明(设计)人: | 修煜;欧阳贵平;李善柱;代秀全;陈学慧;范天奕 | 申请(专利权)人: | 中国乐凯胶片集团感光化工研究院 |
主分类号: | G03C1/005 | 分类号: | G03C1/005 |
代理公司: | 沈阳科苑专利代理有限责任公司 | 代理人: | 张晨 |
地址: | 110015 辽*** | 国省代码: | 辽宁;21 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 定时 释放 显影 抑制 成色 及其 制备 | ||
本发明涉及一种照相化学领域的功能性黄成色剂,特别是一种在负性卤化银照相乳剂中的定时释放显影抑制基黄成色剂。
当成色剂与显影剂的氧化产物反应时,可释放出显影抑制剂,并对感光性能具有改进作用。例如:USP 3,227,554;3,148,064;3,933,500;4,477,563阐明了在负性照相感光材料中,用于改善影像的清晰度以及彩色还原的DIR成色剂在与显影剂的氧化产物反应时,显影剂在偶合位置上与成色剂的母体结合生成染料,释放出的显影抑制剂可以改善感光材料的卤化银颗粒度,产生层内以及边际效应。另外,日本专利JPK 03-189645、JPK 03-215869、JPK 03-127057还阐述了带有定时释放基的释放显影抑制基黄成色剂,特别是该类成色剂有减小颗粒度、改良胶片的层内以及层间效应的作用。
虽然各国研究人员发表了众多专利,但是,其中许多定时释放显影抑制基黄成色剂在合成过程中存在着工艺路线复杂、不适合于实用化生产等不足。已发表的此类定时释放显影抑制基黄成色剂中,一般均采用顺接法,即先将成色剂母体与定时基接起来,然后再将其与抑制基连接。这种方法,存在着一些在生产中难以工业化和产品的杂质含量高、收率低、不易于产品的纯化、生产成本高等缺点。例如:JPK 56-114946所阐述的方法。
本发明的目的是提供一种带有定时释放显影抑制基黄成色剂及其制备方法,其合成工艺合理,产品纯度高、收率高、精制容易。
本发明提供了一种定时释放显影抑制基黄成色剂,其特征分子结构为:
其中n=0或1;
A是成色剂的残基,为带有卤素原子取代基的碳原子个数为1~20的烷基、芳烃基,或者由N、S、O、C组成的杂环化合物的残基;
B是成色剂的油溶性基团,为带有卤素原子、N、S、O以及1~30个碳原子组成的直链饱和烷基、支链饱和烷基,或者带有饱和烷烃取代基的芳环基团;
TIMING是定时基,该基团在一定的化学反应条件下,同显影抑制基团PUG一起从成色剂的分子上脱离,生成TIMING-PUG基团;
其特征在于所述显影抑制基团PUG为由二唑五元环类巯基化合物,以及由芳基、取代芳基、杂原子取代芳基等取代的二唑类巯基化合物,结构通式为:
其中R为下述基团之一种。
本发明中A可以为下述基团之一种:
(CH3)3C-* (CH3)2CH-* CH3CH2-* CH3(CH2)3CH2-*
本发明中B可以为下述基团之一种:
其中:n=1-6
其中:n=4-18
其中:n=1-5。
本发明中Timing可以为下述基团之一种:
基于上述定时释放显影抑制基黄成色剂化合物,本发明还提供了一种上述定时释放显影抑制基黄成色剂的制备方法,其特征在于合成路线如下:
具体可以用美国专利USP 4618571号;USP 4770982号;日本公开特许63-284159、60-203943以及63-23152所记载的合成方法来实现。本发明克服了现有技术的不足,采用倒接法工艺路线来合成,即先将定时基(Timing)与抑制基(PUG)连接起来,然后将该化合物同母体成色剂连接起来。应用此方法可以使得工艺过程顺利进行,具有产品纯度高、收率高、精制容易等优点。下面通过实施例详述本发明。
附图1 CP-T-ZB核磁谱图;
附图2 CP-ZB核磁谱图。
附图3 CP-T-ZC核磁谱图;
实施例1
N-[5-[[4-[2,4-双(1,1-二甲基丙基)苯氧基]-1-氧丁基]氨基]-2-氯苯基]-4,4-二甲基-3-氧代-2-[4-硝基-2-[5-[[[(4-甲基苯氧基)甲基]-1,3,4-二唑-2-基]巯基]甲基]苯氧基]-正戊酰胺(简称CP-T-ZB)的合成
中间体的合成:
2-[5-[(4-甲基苯氧基)甲基]-1,3,4-噁二唑-2-巯甲基]-4-硝基苯酚(简称T-Z13)的合成,反应式为:
操作方法:
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