[发明专利]抑制易聚合化合物纯化系统的真空区中的聚合的方法有效

专利信息
申请号: 00109005.4 申请日: 2000-06-01
公开(公告)号: CN1276363A 公开(公告)日: 2000-12-13
发明(设计)人: 松本行弘;西村武 申请(专利权)人: 株式会社日本触媒
主分类号: C07B63/00 分类号: C07B63/00;B01D3/00
代理公司: 中科专利商标代理有限责任公司 代理人: 李悦
地址: 日本*** 国省代码: 暂无信息
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 抑制 聚合 化合物 纯化 系统 真空 中的 方法
【说明书】:

发明涉及一种抑制真空系统中的聚合作用的方法,该系统用于在减压条件下纯化易聚合化合物如(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸酯。本发明还涉及易聚合化合物的纯化系统。

在进行易聚合化合物如(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸酯的蒸馏时,蒸馏过程中必须避免易聚合化合物的聚合。为此目的,要尽可能地降低蒸馏塔内的压力和内部温度,以及使用聚合抑制剂如对苯二酚和吩噻嗪或含有分子氧的气体来抑制聚合。

图1是纯化易聚合化合物的常规方法的示意图。这种方法包括纯化区和真空区,纯化区包括蒸馏塔1和冷凝器2,真空区包括用于降低纯化区压力的蒸汽喷射泵E1、E2和E3、气压冷凝器3、表面冷凝器4和5以及喷射泵密封箱6。

蒸馏易聚合化合物通常在减压条件下在蒸馏塔1中进行。蒸馏塔1内的压力通常受空气调节阀8的控制,而空气调节阀8是根据压力计7的测量结果来控制的。得到的蒸馏化合物大多数通过冷凝器2冷凝。冷凝器2排出的废气通过蒸汽喷射泵E1流入真空区,以降低纯化区的压力。废气通常含有通过冷凝器2后未冷凝的易聚合化合物和其他不能冷凝的气体。通过蒸汽喷射泵E1的气体和蒸汽在气压冷凝器3中通过与冷却液直接接触而冷凝。得到的冷凝物被抽至喷射泵密封箱6中,剩余的气体被抽至第二蒸汽喷射泵E2。从蒸汽喷射泵E2中流出的气体和蒸汽通过表面冷凝器4被冷凝,得到的冷凝物被抽至喷射泵密封箱6中,剩余气体被抽至第三蒸汽喷射泵E3。在表面冷凝器中,被冷却的气体不直接与冷却水接触。从第三喷射泵E3中流出的气体通过连接在第三喷射泵E3出口侧的表面冷凝器5而冷凝。通常,得到的冷凝物和残余气体都被喷射泵密封箱6液封。在一些方法中,气体在最后阶段没有被液封。

图2是对另一种纯化易聚合化合物的常规方法的说明。这种方法包括纯化区和真空区,纯化区包括蒸馏塔11和冷凝器12,真空区包括作为真空处理装置的纳氏泵13,泵15和槽14以及冷却器17。易聚合化合物在蒸馏塔11中蒸馏,得到的蒸馏后的化合物通过冷凝器12冷凝。从冷凝器12中排出的废气借助于那氏泵13流入真空区以降低纯化区的压力。废气通常含有通过冷凝器12后未冷凝的易聚合化合物和不冷凝的气体。废气通常被通过那氏泵13和泵15从槽14循环出的液体密封。

根据常规方法,从与蒸馏塔相连的冷凝器中流出的废气含有易聚合化合物如(甲基)丙烯酸和(甲基)丙烯酸酯。易聚合化合物易聚合,得到的聚合物阻塞了冷凝器、液体喷射泵或那氏泵,真空区经常被迫停止运行。

本发明的一个目的是提供一种能抑制易聚合化合物的纯化系统的真空区中的聚合作用的方法。

本发明的另一目的是提供一种没有现有技术中存在的问题的系统。

根据本发明的一个方面,一种能抑制易聚合化合物的纯化系统的真空区中的聚合作用的方法包括使含有易聚合化合物的气体从纯化区流入气液接触室的步骤,所述气液接触室中已供应了含有聚合抑制剂的液体。

根据本发明的另一方面,一种纯化易聚合化合物的系统包括:

用于纯化易聚合化合物的塔;

用于真空处理从塔中流出的含有易聚合化合物的气体的真空区;和

用于向真空区提供含有聚合抑制剂的液体,从而使其与气体接触的液体供应设备。

图1是一种纯化易聚合化合物的常规系统的示意图;

图2是另一种纯化易聚合化合物的常规系统的示意图;

图3是根据本发明的一个实施方案,用于纯化易聚合化合物的系统的示意图;

图4是根据本发明的另一实施方案,用于纯化易聚合化合物的系统的示意图。

本发明的主题内容是易聚合化合物的纯化系统的真空区中的聚合作用可通过将含有聚合抑制剂的液体与含有易聚合化合物的气体在气液接触室中接触而得到抑制。在真空区,液体在化合物开始聚合前与其直接接触。本发明是根据这些发现而完成的。

图3是说明本发明的用于抑制易聚合化合物纯化系统的真空区中的聚合作用的方法和系统的示意图。

图3所示的系统包括纯化区和真空区,纯化区含有蒸馏塔1、冷凝器2、压力计7、空气调节阀8和将这些连接起来的管道,真空区包括作为真空处理装置的蒸汽喷射泵E1、E2和E3、气液接触室3、4、5、冷却器22、泵21、喷射泵密封箱6和连接它们的管道。在该系统中管道必须是相通的,这样含有易聚合化合物的气体的冷凝液不会积聚。例如气液接触室的真空喷嘴和排气喷嘴优选水平或水平向下(downward belowhorizontal)放置。真空区包括真空部分和液体供应设备。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日本触媒,未经株式会社日本触媒许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/00109005.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top