[发明专利]使用摆动信号的记录介质和伺服控制装置和控制方法无效

专利信息
申请号: 00104518.0 申请日: 2000-02-05
公开(公告)号: CN1264111A 公开(公告)日: 2000-08-23
发明(设计)人: 李坰根 申请(专利权)人: 三星电子株式会社
主分类号: G11B7/007 分类号: G11B7/007;G11B7/004
代理公司: 柳沈知识产权律师事务所 代理人: 马莹
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 使用 摆动 信号 记录 介质 伺服 控制 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种具有纹间表面轨迹和纹槽轨迹的记录介质,其中,所述的纹间表面轨迹和纹槽轨迹是摆动的,单个纹槽轨迹的摆动或单个纹间表面轨迹的摆动的相位不同,而其它单个轨迹摆动的相位相同。

2.如权利要求1的记录介质,其中,在径向上、形成在纹道轨迹上的每个纹槽轨迹摆动的相位差是π,在径向上、形成在纹间表面轨迹上的每个纹间表面轨迹摆动的相位差是π。

3.如权利要求1的记录介质,其中,单个纹槽轨迹摆动的相位不同,单个纹间表面轨迹摆动的相位相同。

4.如权利要求1的记录介质,其中,单个纹槽轨迹摆动的相位差是π。

5.如权利要求1的记录介质,其中,单个纹间表面轨迹摆动的相位不同,单个纹槽轨迹摆动的相位相同。

6.如权利要求5的记录介质,其中,单个纹间表面轨迹摆动的相位差是π。

7.如权利要求1的记录介质,其中,用于储存轨迹号和扇区号的物理识别标题预刻在所述轨迹中心。

8.如权利要求1的记录介质,其中,用于储存轨迹号和扇区号的物理识别标题从所述轨迹中心位移、而后被预刻。

9.一种具有纹间表面轨迹和纹槽轨迹的记录介质,其中,所述的纹间表面轨迹和纹槽轨迹是摆动的,单个纹槽轨迹和单个纹间表面轨迹的摆动的相位不同。

10.如权利要求9的记录介质,其中,单个纹间表面轨迹和单个纹槽轨迹形成的摆动的相位差分别是π。

11.如权利要求9的记录介质,其中,用于储存轨迹号和扇区号的物理识别标题预刻在所述的轨迹中心。

12.如权利要求9的记录介质,其中,用于储存轨迹号和扇区号的物理识别标题从所述轨迹中心位移、而后被预刻。

13.在具有跟踪光记录介质的拾波器的光记录和/再现设备中,一个伺服控制装置包括:

一个光电检测器,用于将从光记录介质反射的光信号输出为两个通道的信号,在所述的光记录介质中,不是单个纹槽轨迹就是单个纹间表面轨迹的摆动的相位不同、或者单个纹槽轨迹和纹间表面轨迹摆动的相位不同;

一个摆动信号检测器,用于从所述两个通道中的至少一个通道检测摆动信号;

一个摆动信号确定器,用于确定当前被跟踪的轨迹是纹槽轨迹还是纹间表面轨迹,并产生一个确定信号;

一个控制器,用于产生进行伺服控制的控制信号,以便利用所述的确定信号和检测的摆动信号移动所述的拾波器。

14.如权利要求13的伺服控制装置,其中,如果所述单个纹间表面轨迹和单个纹槽轨迹的摆动的相位不同,则所述的摆动检测器检测从与所述光电检测器输出的两个信号总和相对应的第一通道输出的纹槽摆动信号和纹间表面摆动信号,所述检测的纹槽摆动信号和纹间表面摆动信号的相位彼此不同。

15.如权利要求13的伺服控制装置,其中,如果所述单个纹槽轨迹摆动的相位差是π、所述单个纹间表面轨迹摆动的相位相同、所述形成在纹槽轨迹上的摆动与最接近的纹槽轨迹的摆动相比在径向上的相位差是π,并且如果所述形成在纹间表面轨迹上的摆动与最接近的纹间表面轨迹的摆动相比在径向上的相位差是π,则所述摆动信号检测器从与所述光电检测器输出的两个信号间的差值相对应的第一通道检测纹槽摆动信号,且所述摆动信号检测器从与所述光电检测器输出的两个信号的总和相对应的第二通道检测纹间表面摆动信号。

16.如权利要求13的伺服控制装置,其中,所述的控制器根据所述的确定信号和纹槽及纹间表面摆动信号,检测所述纹间表面轨迹和纹槽轨迹的位置、并检测所述的纹槽/纹间表面轨迹号是奇数号还是偶数号。

17.如权利要求13的伺服控制装置,其中,如果所述单个纹间表面轨迹摆动的相位差是π、所述单个纹槽轨迹摆动的相位相同、所述形成在纹槽轨迹上的摆动与最接近的纹槽轨迹的摆动相比在径向上的相位差是π,并且如果所述形成在纹间表面轨迹上的摆动与最接近的纹间表面轨迹的摆动相比在径向上的相位差是π,则所述摆动信号检测器从与所述光电检测器输出的两个信号间的差值相对应的第一通道检测纹间表面摆动信号,且所述摆动信号检测器从与所述光电检测器输出的两个信号的总和相对应的第二通道检测纹槽摆动信号。

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