专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]一种石墨烯/WSe2-CN201811255683.X有效
  • 徐小威;贾润萍;燕飞;刘珂;丁学渊 - 上海应用技术大学
  • 2018-10-26 - 2022-08-05 - C01B32/184
  • 本发明涉及一种石墨烯/WSe2/NiFe‑LDH气凝胶及其制备方法,所述方法包括:将氧化石墨烯片层分散液和WSe2纳米片分散液混合,加入还原剂、交联剂以及pH调节剂中的至少一种,混合均匀,反应制得石墨烯/WSe2水凝胶,冷冻干燥,得到石墨烯/WSe2气凝胶;将所述石墨烯/WSe2气凝胶浸泡在NiFe‑LDH纳米片分散液中,制得石墨烯/WSe2/NiFe‑LDH水凝胶,冷冻干燥得石墨烯/WSe2/NiFe‑LDH气凝胶。/WSe2/NiFe‑LDH具有大比电容、循环性能好、内阻小等优异的电化学性能。
  • 一种石墨wsebasesub
  • [发明专利]一种WSe2-CN202111675864.X有效
  • 李东;郑弼元;潘安练 - 湖南大学
  • 2021-12-31 - 2022-09-27 - C09K11/88
  • 本发明公开了一种WSe2‑VOCl垂直异质结纳米材料及其制备方法;属于二维层状半导体异质结制备技术领域。所述异质结为垂直堆垛结构,以单层的WSe2层为底层,在所述底层上生长得到单层的VCIO层;得到所述WSe2‑VOCl垂直异质结纳米材料;所述纳米材料中,底层的WSe2层呈规则三角形,堆叠在底层WSe2层上的VOCl层由呈四边形的小尺寸纳米片通过晶畴连接而成在488nm激光的照射下,顶层的VOCl单层薄膜能够显著的增强底层WSe2层的光致发光强度。本发明所公开的WSe2‑VOCl垂直异质结纳米材料展现出明显的WSe2光致发光增强,在二维材料发光器件领域具有潜在的应用价值
  • 一种wsebasesub
  • [发明专利]一种m-MoSe2-CN202111157837.3有效
  • 姚秉华;马薇;田克聪;昌征;何仰清 - 西安理工大学
  • 2021-09-29 - 2023-08-22 - B01J31/06
  • 本发明公开的一种m‑MoSe2/PVDF/h‑WSe2双异质结柔性压电触媒的制备方法,包括以下步骤:制备单层m‑MoSe2;制备中空微球h‑WSe2;制备PVDF前驱液;将单层m‑MoSe2和中空微球h‑WSe2与PVDF前驱液混合,得到静电纺丝液进行静电纺丝,得到沉积有m‑MoSe2和h‑WSe本发明一种m‑MoSe2/PVDF/h‑WSe2双异质结柔性压电触媒的制备方法,解决了现有压电触媒催化效率低的问题。
  • 一种mosebasesub
  • [发明专利]一种WSe2-CN202210012714.9有效
  • 李东;游文霞;郑弼元;潘安练 - 湖南大学
  • 2022-01-06 - 2022-09-27 - C23C16/30
  • 本发明公开了一种WSe2/WS2垂直异质结纳米材料及其制备方法;所述制备方法,包括如下步骤:以WSe2粉末和WO3粉末为原料,通过第一次化学气相沉积于衬底表面生长WSe2/WO3纳米片,然后将含WSe2/WO3纳米片的衬底,盖于装有NaCl粉末的容器中,并使得装有NaCl粉末的容器留有敞口,在含有S蒸汽的环境下,于含WSe2/WO3纳米片的衬底表面进行第二次化学气相沉积,控制第二次化学气相沉积的温度为530~570℃,即获得WSe2/WS2垂直异质结纳米材料。
  • 一种wsebasesub
  • [发明专利]一种可控生长的WSe2-CN202210295154.2有效
  • 罗中通;郑照强 - 广东工业大学
  • 2022-03-24 - 2023-08-22 - C30B23/00
  • 本发明属于过渡金属硫族化合物二维材料技术领域,公开了一种可控生长的WSe2薄片及其制备方法和应用。该方法是先将氩气气流从SiO2/Si衬底流向WSe2粉末方向并调节压力,将氩气流速降至30~50sccm,同时升温至1100~1130℃时,将氩气流速降至0sccm,并将氩气气流改为从WSe2粉末流向SiO2/Si衬底的方向,将氩气流速升至100~130sccm,在1100~1130℃下生长8~15min,在通气的条件下冷却至室温,得到可控生长的WSe2薄片。本发明通过控制反应时间和气流速率实现WSe2薄片的可控生长,使WSe2具有不同晶相和层数,为制备新型的光电探测器提供可能性
  • 一种可控生长wsebasesub

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