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[发明专利]一种大喷墨量抛釉产品的防缩釉方法-CN202111552356.2在审
发明人：辛肖桃;梁文勇;关伟洪;关伟铿;关润淡;梁耀联;段锦霞;赵令逸;黄建忠 -专利权人：广东新润成陶瓷有限公司
申请日： 2021-12-17 - 公布日： 2023-06-20 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本申请提供了一种大喷墨量抛釉产品的防缩釉方法，用于对大喷墨量时防止“缩釉”、“排墨”等缺陷，保护釉按以下配比调制（重量百分比）下工序所淋抛釉，包括以下原料：釉浆60～70份；印膏40～30份；三聚磷酸钠0.2～0.5份，所述釉浆的原料为：黏土6～8份；水45～55份；亚硝酸钠0.2～0.5份；硼砂0.1～0.6份；碳酸钠0.1～0.7份；钼酸钡0.3～0.8份；二氧化钛0.2～0.4份。本发明通过将油性墨水烘干后再二次印刷保护釉进行隔离后序淋抛方法制得的深色抛釉砖，釉面平整、无针孔、无缩釉、无釉料成团滴的排墨现象，该方法使用后工序所淋抛釉釉浆制作保护釉，釉面质感、发色均不受影响，操作简便
一种喷墨量抛釉产品防缩方法

[发明专利]一种柔光耐磨防滑釉面砖及其制备方法-CN202210849753.4在审
发明人：曾权;曾立华;谢穗 -专利权人：佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;清远纳福娜陶瓷有限公司;佛山市东鹏陶瓷发展有限公司
申请日： 2022-07-20 - 公布日： 2022-08-19 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明涉及陶瓷砖技术领域，公开了一种柔光耐磨防滑釉面砖及其制备方法，包括由上至下依次分布的磨砂干粒釉层、抛釉层、图案层、底釉层和砖坯体；磨砂干粒釉层包括均匀分布于抛釉层表面的磨砂干粒，磨砂干粒的底部与抛釉层熔接为一体，磨砂干粒的顶部突出于抛釉层表面；柔光耐磨防滑釉面砖的光泽度跟随磨砂干粒釉的施釉量的增加而降低；磨砂干粒釉的化学成分包括SiO2、Al2釉和抛釉分两次喷施的工艺，使用较少的磨砂干粒就可将釉面的光泽度降低至5‑40°，可通过调整磨砂干粒釉的施釉量来调节制品的光泽度。
一种柔光耐磨防滑釉面砖及其制备方法

[发明专利]一种生料厚釉仿微晶质感抛釉砖及其制备方法-CN201510314781.6有效
发明人：蒙臻明;杨良钧;吴长发 -专利权人：佛山欧神诺陶瓷有限公司
申请日： 2015-06-10 - 公布日： 2018-03-20 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明公开了一种生料厚釉仿微晶质感抛釉砖及其制备方法，其是在坯体表面依次进行施面釉、喷墨印花、淋生料厚抛釉工序，之后在窑炉中烧成制得成品。本发明通过配方创新增强了坯体强度，解决了坯体变形以及快烧问题。另外，淋生料厚抛釉后加入了双层烘干窑，利用窑炉余热对砖坯进行烘干，降低了入窑前坯体水分，节约能源的同时，解决了裂砖问题。本发明实现了行业最大抛釉量生产大理石抛釉砖，解决了现有陶瓷砖不能同时具备微晶砖的立体感和抛釉砖发色好图案丰富易于控制特性的问题。
一种生料厚釉仿微晶质感新型抛釉砖及其制备方法

[发明专利]一种施底釉砖坯及釉面光滑的瓷砖生产方法-CN201810578734.6有效
发明人：祁国亮;徐由强;殷少泽;周燕 -专利权人：佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;淄博卡普尔陶瓷有限公司
申请日： 2018-06-07 - 公布日： 2020-07-17 - 主分类号： B24B21/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种施底釉砖坯生产方法，包括以下步骤：(1)采用干法制粉的粉料压制成为砖坯，该砖坯为生坯，砖坯强度为3～4Mpa，在砖坯的表面施底釉形成底釉层，底釉的施加量为750～900g/m2；(2)施底釉砖坯的底釉层干燥至含水率6～9％后，采用砂带对底釉层进行抛切，抛切量为0.05～0.2mm；(3)采用柔软材料对抛切后的砖坯进行打磨；(4)除去砖坯表面的打磨废料；(5)得到表面平整的施底釉砖坯。相应的，本发明还公开了一种使用上述的施底釉砖坯生产方法制得的砖坯生产釉面瓷砖的方法。底釉层经抛切和打磨具有光滑平整的表面，降低砖坯对釉面表现力的影响，进一步降低高要求瓷砖的成本。
一种施底釉砖坯釉面光滑瓷砖生产方法

[发明专利]一种新型微晶抛釉砖的制作方法-CN201711208675.5在审
发明人：韩璐 -专利权人：韩璐
申请日： 2017-11-27 - 公布日： 2019-06-04 - 主分类号： C04B33/13 文献下载
摘要：本发明公开了一种新型微晶抛釉砖的制作方法，其是在坯体表面依次进行施面釉、喷墨印花、淋生料厚抛釉工序，之后在窑炉中烧成制得成品。本发明通过配方创新增强了坯体强度，解决了坯体变形以及快烧问题。另外，淋生料厚抛釉后加入了双层烘干窑，利用窑炉余热对砖坯进行烘干，降低了入窑前坯体水分，节约能源的同时，解决了裂砖问题。本发明实现了行业最大抛釉量生产大理石抛釉砖，解决了现有陶瓷砖不能同时具备微晶砖的立体感和抛釉砖发色好图案丰富易于控制特性的问题。
抛釉砖微晶生料砖坯立体感控制特性喷墨印花坯体变形坯体表面坯体强度窑炉余热烘干窑前坯体陶瓷砖烘干大理石发色面釉入窑烧成窑炉釉量制作配方图案节约能源生产

[发明专利]一种立体感温润新型抛釉砖及其制备方法-CN201711109212.3在审
发明人：佘玲英 -专利权人：佘玲英
申请日： 2017-11-11 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： C04B33/16 文献下载
摘要：本发明公开了一种立体感温润新型抛釉砖及其制备方法，其是在坯体表面依次进行施面釉、喷墨印花、淋生料厚抛釉工序，之后在窑炉中烧成制得成品。本发明通过配方创新增强了坯体强度，解决了坯体变形以及快烧问题。另外，淋生料厚抛釉后加入了双层烘干窑，利用窑炉余热对砖坯进行烘干，降低了入窑前坯体水分，节约能源的同时，解决了裂砖问题。本发明实现了行业最大抛釉量生产大理石抛釉砖，解决了现有陶瓷砖不能同时具备微晶砖的立体感和抛釉砖发色好图案丰富易于控制特性的问题。
抛釉砖立体感生料制备砖坯控制特性喷墨印花坯体变形坯体表面坯体强度窑炉余热烘干窑前坯体陶瓷砖烘干大理石发色面釉入窑烧成微晶窑炉釉量配方图案节约能源生产

[实用新型]一种具天然石材裂纹质感的大理石瓷砖-CN201920125940.1有效
发明人：王丽;王见欣;于香云;易仕伟;管蒙蒙;杨奎彬 -专利权人：信益陶瓷(中国)有限公司;冠军建材(安徽)有限公司;信益陶瓷(蓬莱)有限公司
申请日： 2019-01-25 - 公布日： 2020-01-21 - 主分类号： E04F13/077 文献下载
摘要：本实用新型公开了一种具天然石材裂纹质感的大理石瓷砖，坯体层、底釉层、装饰层、下陷釉层和抛釉层，通过装饰层与抛釉层之间设有下陷釉层，下陷釉层的底端与装饰层固定连接，下陷釉层的顶端与抛釉层固定连接，下陷釉层的图案为装饰层图案的纹理部分，下陷釉层图案的位置与装饰层纹理完全一致，裂纹纹理是由抛釉层在高温条件下与下陷釉层相互作用，而形成的裂纹纹理，裂纹纹理的宽度和深度可通过设计图案的像素和下墨量调整，下陷釉层内的下陷墨水是一种利用墨水中的特定组成在高温下表面张力与其他釉药之间的差异化形成应力的原理来实现产品釉面的凹陷效果
下陷釉层纹理抛釉层装饰层墨水图案本实用新型大理石瓷砖装饰层图案高温条件设计图案天然石材应用效果底釉层坯体层下墨量凹陷底端像素釉药质感

[发明专利]一种湿法干粒抛晶砖的制备方法及抛晶砖-CN201911322935.0有效
发明人：张良;刘俊荣 -专利权人：佛山欧神诺陶瓷有限公司
申请日： 2019-12-20 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： C03C8/02 文献下载
摘要：本发明公开了一种湿法干粒抛晶砖的制备方法及抛晶砖，所述制备方法包括：制备砖坯；第一次干燥；布施面釉；喷墨印花；布施干粒保护釉；第二次干燥；烧制成型；所述湿法干粒抛晶砖从下至上依次为：砖坯层、面釉层、印花层、干粒保护釉层；通过控制生产过程参数以及合适的成分及配比的干粒及干粒保护釉，制备性能优良的抛晶砖；本发明能够适用于现有生产设备，无需改造生产线；采用的淋釉工艺，釉层更加均匀，采用钟罩淋釉，调节釉量更加方便，易于回收；所需釉层更薄，仅为干法干粒用量的五分之一，用量更低，烧成周期更短，不仅降低了生产成本低，而且提高了生产效率；同时相较于干法釉层气泡、针孔等缺陷较少，发色更为细腻丰富。
一种湿法干粒抛晶砖制备方法抛晶砖

[发明专利]一种高耐磨远红外陶瓷抛釉砖及其制备方法-CN202010422883.0有效
发明人：刘一军;杨元东;张克林;王贤超;郑贵友 -专利权人：蒙娜丽莎集团股份有限公司
申请日： 2020-05-19 - 公布日： 2020-09-18 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明提供一种高耐磨远红外陶瓷抛釉砖及其制备方法，该制备方法包括：在坯体上依次施远红外面釉、喷墨打印、施透明远红外抛釉、施耐磨远红外抛釉，然后烧成、抛光。通过结合使用远红外面釉、透明远红外抛釉和耐磨远红外抛釉，可使抛釉砖兼具远红外功能、高透感、高耐磨性。
一种耐磨红外陶瓷抛釉砖及其制备方法

[发明专利]一种施泥浆釉砖坯及釉面光滑的瓷砖生产方法-CN201810578735.0有效
发明人：祁国亮;徐由强;殷少泽;周燕 -专利权人：佛山市东鹏陶瓷有限公司;广东东鹏控股股份有限公司;淄博卡普尔陶瓷有限公司
申请日： 2018-06-07 - 公布日： 2020-11-13 - 主分类号： C04B33/24 文献下载
摘要：本发明公开了一种施泥浆釉的砖坯生产方法，包括以下步骤：(1)采用干法制粉的粉料压制成砖坯，该砖坯为生坯，生坯强度为3～4Mpa，在生坯的表面施泥浆釉形成泥浆釉面层，泥浆釉的施加量为750～900g/m2；(2)带有泥浆釉层的砖坯干燥至含水率5～9％后，采用砂带对泥浆釉层进行抛切，抛切厚度为0.05～0.15mm；(3)采用柔软材料对抛切后的砖坯进行打磨；(4)除去砖坯表面的打磨废料；(5)得到表面平整的泥浆釉砖坯。相应的，本发明还公开了一种使用上述施泥浆釉砖坯生产方法制得的砖坯生产釉面瓷砖的方法。带有泥浆釉层的砖坯经抛切和打磨具有光滑平整的表面，提高了泥浆釉砖坯对泥浆釉砖坯上层装饰釉面的表现力，进一步降低了高要求瓷砖的成本。
一种泥浆砖坯釉面光滑瓷砖生产方法

[发明专利]一种黑色岩板及其制备方法-CN202111013755.1有效
发明人：匡木庆;刘俊荣 -专利权人：佛山欧神诺陶瓷有限公司
申请日： 2021-08-31 - 公布日： 2023-07-07 - 主分类号： C03C8/00 文献下载
摘要：本申请提供一种黑色岩板及其制备方法，该黑色岩板包括抛釉层，抛釉层的抛釉釉浆包括：配方重量份的闪光抛釉，黄金属颗粒和悬浮剂；其中闪光抛釉包括：配方重量份的钾长石、石英、方解石、红长石、透光石、铁矿石、草木灰该黑色岩板的制备方法包括：将闪光抛釉、黄金属颗粒和悬浮剂混合，得到抛釉釉浆；在岩板生坯上布施所述抛釉釉浆，形成抛釉层，得到黑色岩板。本申请提供的黑色岩板，通过选用特定的釉料配方，直接在抛釉层上获得黑色釉面效果，且釉面发色自然，有较高光泽度，釉层中的釉料与黄金属颗粒由于在熔融温度上存在差异，烧制冷却后可得到类似真石的结晶肌理，且其制备工艺简单
一种黑色及其制备方法

[发明专利]一种具有金属纹理的抛釉砖及其制备方法-CN202111141211.3在审
发明人：谢志军;赵存河;刘忠良;卢洋华 -专利权人：蒙娜丽莎集团股份有限公司
申请日： 2021-09-28 - 公布日： 2022-01-28 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明公开一种具有金属纹理的抛釉砖及其制备方法。所述制备方法包括以下步骤：在砖坯表面施底釉；在施底釉后的砖坯表面喷墨打印设计图案；在喷墨打印设计图案后的砖坯表面施全抛釉；在施全抛釉后的砖坯表面丝网印刷金属干粒釉；将丝网印刷金属干粒釉后的砖坯经过烧成并抛光，得到所述具有金属纹理的抛釉砖。所述制备方法在烧成后金属干粒牢固地嵌入全抛釉中，尤其是金属干粒的底部下陷到全抛釉中且顶部浮出全抛釉层的表面，浮凸在全抛釉层的金属干粒经过抛光形成金属颜色和金属光泽，获得的抛釉砖中金属干粒和釉面结合紧密，
一种具有金属纹理抛釉砖及其制备方法

[实用新型]一种全抛结晶釉仿古砖-CN201721158173.1有效
发明人：萧礼标;马会川;袁富祥;谢志军 -专利权人：蒙娜丽莎集团股份有限公司
申请日： 2017-09-11 - 公布日： 2018-06-12 - 主分类号： C04B33/13 文献下载
摘要：本实用新型涉及一种全抛结晶釉仿古砖。全抛结晶釉仿古砖包括：坯体；覆于坯体上的具有第一道图案的面釉层；形成于砖坯表面具有第一道图案的全抛釉层；具有与所述第一道图案配合的第二道图案的结晶釉层，所述结晶釉层由下而上包括结晶釉底釉层和结晶釉保护釉层；以及图案层，所述图案层形成于所述面釉层和全抛釉层之间；或所述图案层形成于所述面釉层和全抛釉层之间、以及结晶釉底釉层和结晶釉保护釉层之间。本实用新型的全抛结晶釉仿古砖具有层次丰富、逼真、立体感强的3D晶花效果。
结晶釉仿古砖全抛釉层面釉层图案层图案本实用新型保护釉层底釉层坯体立体感强砖坯表面配合

[发明专利]一种高耐磨性的全抛釉料-CN202010814573.3在审
发明人：程家麒 -专利权人：程家麒
申请日： 2020-08-13 - 公布日： 2022-02-22 - 主分类号： C03C8/02 文献下载
摘要：本发明公开一种高耐磨性的全抛釉料，由于采用了高氧化钡含量的熔块，有效提高了釉料配方中氧化硅单质和氧化铝单质的添加量，从而提高了釉层的硬度，较好的解决了全抛釉地砖耐磨性差的缺陷。
一种耐磨性釉料

[发明专利]一种柔光抛釉砖的生产方法-CN201611020931.3在审
发明人：龚静 -专利权人：广西大学
申请日： 2016-11-21 - 公布日： 2017-08-11 - 主分类号： C04B41/89 文献下载
摘要：本发明公开了一种柔光抛釉砖的生产方法，由以下步骤组成(1)按常规方法制备柔光抛釉砖坯体；(2)配制柔光抛釉砖底釉和面釉；(3)施底釉；(4)干燥；(5)施面釉；(6)干燥和烧成；(7)抛光处理；(8)拣选本发明的有益效果是解决了现有抛釉砖进行柔光处理中易出现的划痕严重、容易吸污的问题，提供了一种更好的柔光抛釉砖的生产方法。
一种柔光抛釉砖生产方法

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