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- [发明专利]半导体器件及其制造方法-CN200580051740.7有效
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菊池秀明;永井孝一
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富士通株式会社
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2005-09-30
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2008-10-01
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H01L21/8246
- 半导体器件的制造方法包括:在硅衬底30上形成第一绝缘膜45的工序;在第一绝缘膜45上形成电容器Q的工序;形成覆盖电容器Q的第二绝缘膜55的工序;在第二绝缘膜55上形成金属布线65的工序;形成第一电容器保护绝缘膜66的工序,该第一电容器保护绝缘膜覆盖金属布线65和第二绝缘膜55;在金属布线65的旁边形成绝缘侧壁67a的工序;在绝缘侧壁67a上形成第三绝缘膜68的工序;以绝缘侧壁67a的蚀刻速度比第三绝缘膜68的蚀刻速度慢的条件蚀刻第三绝缘膜68,以此形成孔74a的工序;在孔74a内形成导电插塞77的工序。
- 半导体器件及其制造方法
- [发明专利]布线基板的制造方法-CN202080104584.0在审
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鸟羽正也;藏渕和彦;增子崇;满仓一行
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株式会社力森诺科
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2020-07-28
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2023-06-30
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H01L23/12
- 本发明所涉及的布线基板的制造方法包括:(A)在支撑基板上形成第1绝缘材料层的工序;(B)在第1绝缘材料层形成第1开口部的工序;(C)在第1绝缘材料层上形成种子层的工序;(D)在种子层的表面上设置抗蚀剂图案的工序;(E)形成包括焊盘和布线的布线部的工序;(F)去除抗蚀剂图案的工序;(G)去除种子层的工序;(H)对焊盘的表面实施第1表面处理的工序;(I)形成第2绝缘材料层的工序;(J)在第2绝缘材料层形成第2开口部的工序;(K)对焊盘的表面实施第2表面处理的工序;及(L)将第2绝缘材料层加热至第2绝缘材料层的玻璃化转变温度以上的温度的工序。
- 布线制造方法
- [发明专利]图像显示装置的制造方法以及图像显示装置-CN202180039053.2在审
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秋元肇
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日亚化学工业株式会社
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2021-06-08
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2023-03-31
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G09F9/00
- 实施方式的图像显示装置的制造方法具备:准备在第一基板上形成了半导体层的第二基板的工序;将所述半导体层贴合于所述第三基板的工序;除去所述第一基板的工序;对所述半导体层蚀刻,形成包括与所述第三基板上的底面相对的发光面的发光元件的工序;形成覆盖所述第三基板以及所述发光元件的第一绝缘膜的工序;在所述第一绝缘膜上形成电路元件的工序;形成覆盖所述电路元件以及所述第一绝缘膜的第二绝缘膜的工序;除去所述第一绝缘膜以及所述第二绝缘膜的一部分从而使包括所述发光面的面露出的工序;形成贯通所述第一以及第二绝缘膜的过孔;在所述第二绝缘膜上形成配线层的工序。
- 图像显示装置制造方法以及
- [发明专利]图像显示装置的制造方法及图像显示装置-CN202180059922.8在审
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秋元肇
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日亚化学工业株式会社
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2021-09-03
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2023-05-16
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H01L33/02
- 实施方式涉及的图像显示装置的制造方法具备:准备半导体层的工序;将所述半导体层经由第一金属层而向第一基板接合的工序;在透光性基板贴合所述半导体层的工序;除去所述第一基板且蚀刻所述半导体层而形成包括发光面和上表面的发光元件的工序;蚀刻所述第一金属层而形成覆盖所述上表面的遮光电极的工序;形成覆盖所述发光元件及所述遮光电极的第一绝缘膜的工序;在所述第一绝缘膜上形成电路元件的工序;形成覆盖所述第一绝缘膜及所述电路元件的第二绝缘膜的工序;形成贯通所述第一绝缘膜及所述第二绝缘膜的第一导孔的工序;在所述第二绝缘膜上形成第一配线层的工序。
- 图像显示装置制造方法
- [发明专利]图像显示装置的制造方法以及图像显示装置-CN202180036453.8在审
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秋元肇
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日亚化学工业株式会社
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2021-05-25
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2023-02-03
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G09F9/33
- 实施方式的图像显示装置的制造方法具有:准备在第一基板上形成有半导体层的第二基板的工序;使所述半导体层与第三基板的第一面贴合的工序;除去所述第一基板的工序;对所述半导体层进行蚀刻,形成包括与所述第一面上的底面对置的发光面的发光元件的工序;形成覆盖所述第一面及所述发光元件的第一绝缘膜的工序;在所述第一绝缘膜上形成电路元件的工序;形成覆盖所述电路元件及所述第一绝缘膜的第二绝缘膜的工序;除去所述第一绝缘膜及所述第二绝缘膜的一部分来使包括所述发光面的面露出的工序;形成贯通所述第一绝缘膜及所述第二绝缘膜的过孔的工序;在所述第二绝缘膜上形成配线层的工序。
- 图像显示装置制造方法以及
- [发明专利]半导体装置的制造方法-CN201680047624.6有效
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八田浩一
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东京毅力科创株式会社
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2016-06-27
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2021-07-20
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H01L21/336
- 该半导体装置的制造方法具有:第一绝缘膜形成工序,在该工序中,在具有由栅极覆盖呈鳍状隆起的源极和漏极的构造的晶体管上形成第一绝缘膜;牺牲膜形成工序,在该工序中,形成牺牲膜;硬掩模图案形成工序,在该工序中,形成具有所希望的图案的硬掩模膜;第一开口形成工序,在该工序中,形成第一开口;第二绝缘膜形成工序,在该工序中,在所述第一开口形成材料与所述第一绝缘膜不同的第二绝缘膜;第二开口形成工序,其在所述第二绝缘膜形成工序之后,通过去除所述牺牲膜,至少在将所述源极的局部与布线层电连接的位置或者将所述源极的局部所述漏极与布线层电连接的位置形成第二开口;以及接触插件形成工序,在该工序中,在所述第二开口形成接触插件。
- 半导体装置制造方法
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