专利名称
主分类
A 农业
B 作业;运输
C 化学;冶金
D 纺织;造纸
E 固定建筑物
F 机械工程、照明、加热
G 物理
H 电学
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公布日期
2023-10-24 公布专利
2023-10-20 公布专利
2023-10-17 公布专利
2023-10-13 公布专利
2023-10-10 公布专利
2023-10-03 公布专利
2023-09-29 公布专利
2023-09-26 公布专利
2023-09-22 公布专利
2023-09-19 公布专利
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专利权人
国家电网公司
华为技术有限公司
浙江大学
中兴通讯股份有限公司
三星电子株式会社
中国石油化工股份有限公司
清华大学
鸿海精密工业股份有限公司
松下电器产业株式会社
上海交通大学
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  • [发明专利]金属隔离栅的形成方法-CN201710653163.3有效
  • 刘长林;刘志攀;丁振宇 - 武汉新芯集成电路制造有限公司
  • 2017-08-02 - 2020-02-21 - H01L23/552
  • 本发明提供了一种形成金属隔离栅的方法,包括在基底上依次形成金属层和阻挡层,先刻蚀所述阻挡层和部分所述金属层,能够快速的形成一开口,再刻蚀所述开口内剩余金属层,会一边对所述开口内的金属层进行刻蚀,形成沟槽,一边在所述沟槽的侧壁上形成聚合,所述聚合覆盖所述沟槽的侧壁,以保护所述沟槽的侧壁不被进一步刻蚀,刻蚀完成后,所述沟槽的侧壁具有垂直的轮廓,便于填充,避免了后续对所述沟槽进行填充时产生填充空洞,提高的器件的性能和良率。
  • 金属隔离形成方法

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