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[发明专利]新型空间位阻环胺-CN201480042812.0在审
发明人： C·科罗恩克;A·科赫 -专利权人：科莱恩国际有限公司
申请日： 2014-07-25 - 公布日： 2016-03-30 - 主分类号： C07D405/06 文献下载
摘要：本发明涉及式(1)的化合物，其中R₁和R₂分别为空间位阻环胺，和涉及所述化合物作为添加剂用于增加聚醚酮的缺口耐冲击性的用途。
新型间位阻环胺

[发明专利]空间位阻胺和相关方法-CN201611156244.4在审
发明人：苏维扬;小罗伯特·A·格里格斯比;周井军 -专利权人：亨斯迈石油化学有限责任公司
申请日： 2011-11-21 - 公布日： 2017-05-10 - 主分类号： C07C213/02 文献下载
摘要：提供了包含空间位阻胺的胺组合物和相关方法。本公开的胺组合物可用于自酸性气体料流选择性移除H2S。较高分子量的聚乙二醇可与叔丁基胺反应以制备提供良好性能而无相分离问题的空间位阻胺的混合物。空间位阻胺可无需溶剂地制备，从而简化其制备。本公开方法可被认为是更加“环境友好的”，因为它们制备更高产率的所需胺产物同时最小化至不生产不需要的副产物，这也可降低与制备空间位阻胺相关的成本。
间位相关方法

[发明专利]空间位阻胺和相关方法-CN201180058162.5在审
发明人：苏维扬;小罗伯特·A·格里格斯比;周井军 -专利权人：亨斯迈石油化学有限责任公司
申请日： 2011-11-21 - 公布日： 2013-09-04 - 主分类号： C07C211/03 文献下载
摘要：提供了包含空间位阻胺的胺组合物和相关方法。本公开的胺组合物可用于自酸性气体料流选择性移除H2S。较高分子量的聚乙二醇可与叔丁基胺反应以制备提供良好性能而无相分离问题的空间位阻胺的混合物。空间位阻胺可无需溶剂地制备，从而简化其制备。本公开方法可被认为是更加“环境友好的”，因为它们制备更高产率的所需胺产物同时最小化至不生产不需要的副产物，这也可降低与制备空间位阻胺相关的成本。
间位相关方法

[发明专利]空间位阻的胺醚的制备-CN99103383.3有效
发明人： A·泽达;G·菲里;M·萨拉 -专利权人：西巴特殊化学品控股有限公司
申请日： 1999-02-24 - 公布日： 1999-11-17 - 主分类号： C07D227/08 文献下载
摘要：制备式Ⅰ化合物的新方法,式中R1－R4各自是C1－C8烷基或C1－C5羟烷基,或R1和R2与其连接的碳,或R3和R4与其连接的碳一起是C5－C12环烷基;R5－R9各自是H、C1－C8烷基、C2－C8烯基、C5－C12芳基、C1－C4卤烷基、吸电子基、或C1－C4烷基、C1－C4烷氧基或卤取代的C6－C12芳基;和R7和R8也可一起形成键;和R是有2—500个碳的连接基,其与直接相接的碳和氮一起形成一个取代的5—7员环;本方法包括式Ⅱ化合物被氧化。式Ⅰ化合物和其氢化和/或卤化化合物适合作有机材料抗光、氧和/或热致降解或变黄的稳定剂或作阻燃剂。
间位制备

[发明专利]空间位阻的胺醚的制备-CN200410047361.8有效
发明人： A·泽达;G·菲里;M·萨拉 -专利权人：西巴特殊化学品控股有限公司
申请日： 1999-02-24 - 公布日： 2004-12-08 - 主分类号： C08K5/3492 文献下载
摘要：制备式I化合物的新方法，式中R₁－R₄各自是C₁－C₈烷基或C₁－C₅羟烷基，或R₁和R₂与其连接的碳，或R₃和R₄与其连接的碳一起是C₅－C₁₂环烷基；R₅－R₉各自是H、C₁－C₈烷基、C₂－C₈烯基、C₅－C₁₂芳基、C₁－C₄卤烷基、吸电子基、或C₁－C₄烷基、C₁－C₄烷氧基或卤取代的C₆－C₁₂芳基；和R₇和R₈也可一起形成键；和R是有2－500个碳的连接基，其与直接相接的碳和氮一起形成一个取代的5－7员环；本方法包括式II化合物被氧化。式I化合物和其氢化和/或卤化化合物适合作有机材料抗光、氧和/或热致降解或变黄的稳定剂或作阻燃剂。
间位制备

[发明专利]空间位阻金属茂、合成和用途-CN201780061376.5在审
发明人： D·J·克劳泽;L·G·麦卡洛;J·A·拉维尔 -专利权人：埃克森美孚化学专利公司
申请日： 2017-09-15 - 公布日： 2019-05-21 - 主分类号： C08F4/6592 文献下载
摘要：在至少一个实施方案中，催化剂化合物由式(I)表示：其中M是第4族金属。R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷、R⁸、R⁹、R¹⁰、R¹¹、R¹²、R¹³和R¹⁴中的每一个独立地是氢、或线性或支化C₁‑C₅₀取代或未取代的烃基、卤代烃基或甲硅烷基烃基。R¹和R³中的至少一个不是氢。每个X独立地是卤基或C₁‑C₅₀取代或未取代的烃基、氢基、氨基、烷氧基、硫基、磷基、卤基、二烯、胺、膦、醚或它们的组合，或两个X接合在一起以形成金属环化物环，或两个X接合以形成螯合配体、二烯配体或烷叉基。
式( I )接合卤基烃基氨基催化剂化合物甲硅烷基烃基第4族金属二烯配体空间位阻卤代烃基螯合配体金属环金属茂烷叉基烷氧基二烯化物磷基硫基氢基支化合成

[发明专利]大空间位阻侧链型聚烯烃基阴离子交换膜的制备方法-CN202111501429.5有效
发明人：张小娟;郭嘉乾;方长青;李南文;刘磊;祝萌;张民 -专利权人：西安理工大学
申请日： 2021-12-09 - 公布日： 2023-02-28 - 主分类号： C08J7/12 文献下载
摘要：本发明公开了大空间位阻侧链型聚烯烃基阴离子交换膜的制备方法，采用格式反应制备出大空间位阻基可聚合单体，再与11‑溴‑1‑十一烯单体进行齐格勒‑纳塔配位聚合，制备了含有大空间位阻的聚烯烃共聚物，之后在非均相条件下将之季铵盐化，得到季铵盐化聚烯烃基阴离子交换膜；具体按照如下步骤进行：步骤1：大空间位阻型叔丁基化合物的制备；步骤2：大空间位阻侧链型聚烯烃化合物的合成；步骤3：大空间位阻侧链型聚烯烃阴离子交换膜的制备；本发明制备方法制备出高机械强度、长寿命的大空间位阻侧链型聚烯烃基阴离子交换膜，在碱性氢气/氧气燃料电池聚电解质膜领域具有广泛的应用前景。
间位阻侧链型聚烯烃阴离子交换制备方法

[发明专利]可固化环氧树脂组合物及其固化产物-CN201080008888.3无效
发明人：加里·亨特;哈·彭;乔治·雅各布;莱耶·图拉基亚 -专利权人：陶氏环球技术有限责任公司
申请日： 2010-02-08 - 公布日： 2012-01-18 - 主分类号： C08G59/50 文献下载
摘要：可固化环氧树脂组合物、固化的环氧树脂组合物及其形成方法、以及所得的由可固化组合物制成的固化产物，所述可固化环氧树脂组合物包含至少一种环氧树脂、至少一种空间位阻胺固化剂和至少一种非空间位阻胺固化剂，所述至少一种空间位阻胺固化剂和至少一种非空间位阻胺对可固化组合物提供韧性
固化环氧树脂组合及其产物

[发明专利]一种空间位阻调控的TADF共轭高分子、其制备方法及应用-CN202011399629.X有效
发明人：丁军桥;饶建成;王淑萌;赵磊 -专利权人：中国科学院长春应用化学研究所
申请日： 2020-12-02 - 公布日： 2022-05-06 - 主分类号： C08G61/12 文献下载
摘要：本发明提供了一种空间位阻调控的TADF共轭高分子，电子给体D和电子受体A交替连接，且电子给体D具有空间位阻基团，位于电子给体D和电子受体A连接位点的邻位；电子受体A也具有空间位阻基团，位于电子给体A和电子受体本发明通过在交替连接的电子给体和电子受体之间增加空间位阻基团，且将所述空间位阻基团设置在D与A连接位点的邻位，能够减弱它们之间的共轭作用，使其形成的电荷转移态的最低单‑三线态能级差(ΔE空间位阻调控的TADF共轭高分子的制备方法及其应用。
一种间位调控 tadf 共轭高分子制备方法应用

[发明专利]一种铜钼合金的蚀刻液组合物及蚀刻方法-CN202110224955.5有效
发明人：邵勇;徐杨;朱永刚;顾维忠;彭聪;胡生望 -专利权人：四川江化微电子材料有限公司
申请日： 2021-03-01 - 公布日： 2022-11-22 - 主分类号： C23F1/18 文献下载
摘要：本发明公开了一种铜钼合金的蚀刻液组合物，按蚀刻液组合物的重量100％计，其主要组成为5～12％的过氧化氢、5～10％的有机酸、5～10％的有机碱和0～0.5％的蚀刻抑制剂；有机碱为空间位阻胺或者其主要组成包含空间位阻胺，空间位阻胺25℃的pKa为10.3～11.1。本发明铜钼合金的蚀刻液组合物采用空间位阻胺作为有机碱，或者有机碱的主要组成包括空间位阻胺，利用有机碱分子结构的空间位阻，在无氟离子和磷组分的蚀刻体系中，改善反应后期有机酸消耗、碱性增强波动导致的钼或钼合金底切问题
一种合金蚀刻组合方法

[发明专利]空间位阻羟苯基羧酸酯的制备-CN201010148181.4有效
发明人：文森特·J.·加托;哈森·Y.·埃尔纳加;郑智洪;J.·罗伯特·亚当斯 -专利权人：雅宝公司
申请日： 2005-02-10 - 公布日： 2010-09-08 - 主分类号： C09K15/08 文献下载
摘要：本发明公开了一种空间位阻羟苯基羧酸酯的制备方法以及由该方法所制备的组合物。该方法在位阻苯酚酯的制备过程中，简化了催化剂中和及除去过程。根据用于制备位阻酚烷基酯化合物的方法所制备的组合物可以用作抗氧化剂，其中所述组合物具有小于200ppm的催化剂以及小于20ppm的磷，该方法包括：甲基丙烯酸酯与空间位阻烷基酚化合物在第一催化剂存在下反应，生成甲基酯中间体化合物；将具有至少2个碳原子的醇与甲基酯中间体化合物在第二催化剂存在下反应生成位阻酚烷基酯化合物；用含水磷酸中和任何的催化剂残留物，以生成沉淀的磷酸盐；以及将沉淀的磷酸盐与位阻酚烷基酯化合物分离
间位苯基羧酸制备

[发明专利]空间位阻化合物的结晶方法-CN98809827.X有效
发明人：简·瑟文卡 -专利权人：耐克麦德英梅金公司
申请日： 1998-10-02 - 公布日： 2003-12-03 - 主分类号： C07B63/00 文献下载
摘要：本发明涉及空间位阻有机化合物从其溶剂的饱和或过饱和溶液中结晶的方法，其特征是结晶是在高压下进行，结晶温度高于所述溶液在大气压下的沸点而低于该溶液在所述高压下的沸点。
间位化合物结晶方法

[发明专利]空间位阻羟苯基羧酸酯的制备-CN200580006152.1有效
发明人：文森特·J.·加托;哈森·Y.·埃尔纳加;郑智洪;J.·罗伯特·亚当斯 -专利权人：雅宝公司
申请日： 2005-02-10 - 公布日： 2007-03-07 - 主分类号： C07C69/732 文献下载
摘要：本发明公开了一种位阻苯酚烷基酯的新制备方法，其可以用作抗氧化剂。该方法在位阻苯酚酯的制备过程中，简化了催化剂中和及除去过程。还公开了含有按照这些方法所制得的位阻苯酚酯的组合物。
间位苯基羧酸制备

[发明专利]一种含高空间位阻基团修饰的Pd-NHC配合物及用途-CN201711179432.3有效
发明人：刘桂艳;韩方外;刘成鑫;徐颖 -专利权人：天津师范大学
申请日： 2017-11-23 - 公布日： 2021-03-23 - 主分类号： C07F15/00 文献下载
摘要：本发明公开了一种含高空间位阻基团修饰的Pd‑NHC配合物（以及的配合物单晶）及用途。本发明所述的Pd‑NHC配合物是以含高空间位阻基团修饰的N‑杂环卡宾为配体，同时还选用三苯甲基咪唑作为辅助配体。本发明所述含高空间位阻基团修饰的Pd‑NHC配合物具有较高的稳定性，它还能作为催化剂很好的催化具有空间位阻的氯代芳烃和芳基硼酸的Suzuki‑Miyaura偶联反应。
一种高空间位基团修饰 pd nhc 配合用途

[发明专利]气体捕集方法-CN201280028544.8有效
发明人：杨琦;苏珊·N·詹姆斯;马修·约翰·巴拉德;马克·鲍恩;P·费隆;格雷姆·道格拉斯·普克斯蒂 -专利权人：联邦科学与工业研究组织
申请日： 2012-04-18 - 公布日： 2014-03-05 - 主分类号： C07D211/58 文献下载
摘要：一种用于从气流中捕集CO₂的方法，该方法包括将含有CO₂的气流与一化合物接触，所述化合物包括：伯胺基或非空间位阻仲胺基和至少一个叔胺基或空间位阻仲胺基；其中所述伯胺基或非空间位阻仲胺基和最近的叔胺基或空间位阻仲胺基被包括
气体方法

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