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[发明专利]离子分析装置和方法-CN202011202646.X在审
发明人：张小强 -专利权人：岛津分析技术研发（上海）有限公司
申请日： 2020-11-02 - 公布日： 2022-05-24 - 主分类号： G01N27/62 文献下载
摘要：本发明提供一种离子分析装置，包括：第一离子源，用于提供分析物离子；第二离子源，用于提供辅助离子；辅助离子的正负极性与分析物离子相反，辅助离子的离子云与分析物离子的离子云在空间分布上有重合，且至少部分所述分析物离子不与所述辅助离子产生化学反应；离子分析器，用于对分析物离子进行分析；离子传输装置，位于第一离子源和离子分析器之间，用于使分析物离子传输进入离子分析器，并拒绝辅助离子进入离子分析器。本发明可降低或消除大量分析物离子之间的空间电荷效应，进而提高由此条件限制下的离子分析性能，比如灵敏度、分辨率等。
离子分析装置方法

[实用新型]液体辅助敞开式大气压离子化装置-CN201621211026.1有效
发明人：闻路红;黄莉莉;宁录胜;周振宇 -专利权人：宁波华仪宁创智能科技有限公司
申请日： 2016-11-10 - 公布日： 2017-06-06 - 主分类号： H01J49/10 文献下载
摘要：本实用新型提供了一种液体辅助敞开式大气压离子化装置，所述液体辅助敞开式大气压离子化装置包括介质阻挡放电离子源，容器，所述容器容纳辅助液体；输送单元，所述输送单元用于将所述容器内的辅助液体输送到喷头；喷头，从所述喷头出射的辅助液体被从所述介质阻挡放电离子源的喷嘴出射的等离子束离子化；电源，所述电源向所述喷头施加直流电压；进样器，从所述进样器出射的待测样品被离子化的辅助液体离子化。本实用新型具有样品离子化效率高、信噪比高等优点。
液体辅助敞开大气压离子化装置

[发明专利]具有辅助反应室的等离子体室-CN202280019113.9在审
发明人： G·S·莱纳德三世;S·A·麦克勒兰德;J·J·雷哈根;具宰模 -专利权人：雷卡邦股份有限公司
申请日： 2022-03-11 - 公布日： 2023-10-24 - 主分类号： B01J19/12 文献下载
摘要：一种等离子体反应系统，包括等离子体室和辅助反应室。等离子体室包括用于将反应气体引入等离子体室的等离子体室入口、形成内部空间的等离子体室壁、在等离子体室内产生的等离子体、用于将能量导向在等离子体室内产生的等离子体的波导件、以及用于从等离子体室运送第一出口气体的等离子体室出口辅助反应室包括配置成从等离子体室获得第一出口气体的辅助反应室入口、形成辅助反应室的内部空间的辅助反应室壁、以及用于从辅助反应室运送第二出口气体的辅助反应室出口，其中出口气体之间的第二化学反应可以在该内部空间中发生
具有辅助反应等离子体

[发明专利]离子阱装置、量子计算控制方法及存储介质-CN202111490404.X在审
发明人：沈杨超;邵文杰;林毅恒;杜江峰 -专利权人：华为技术有限公司;中国科学技术大学
申请日： 2021-12-08 - 公布日： 2023-06-09 - 主分类号： G06N10/40 文献下载
摘要：本申请提供了一种离子阱装置、量子计算控制方法及存储介质。涉及量子计算领域，该离子阱装置包括离子囚禁模块、光束输出模块、时序控制模块和离子探测模块，其中，离子囚禁模块用于囚禁计算离子和辅助离子，计算离子用于存储和读取量子信息，辅助离子用于协同冷却计算离子，计算离子的跃迁波长和辅助离子的跃迁波长不同；在离子状态读出过程中，控制探测光照射至计算离子以诱发计算离子辐射光子，且通过在离子状态读出过程中，控制冷却光照射至辅助离子以协同冷却计算离子，本申请实施例通过控制离子状态读出过程和离子冷却过程的部分或全部重叠
离子装置量子计算控制方法存储介质

[发明专利]一种双极膜电辅助去离子装置及其再生出水控制方法-CN202110617656.8在审
发明人：陈小平;吕苏;董红晨;郝楠;黄建波;晏博 -专利权人：广东栗子科技有限公司
申请日： 2021-06-03 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： C02F1/42 文献下载
摘要：一种双极膜电辅助去离子装置再生出水控制方法及一种使用该双极膜电辅助去离子装置再生出水控制方法进行再生的双极膜电辅助去离子装置，双极膜电辅助去离子装置在再生阶段的时间定义为再生时间段，在再生时间段内，双极膜电辅助去离子装置的出水时长大于再生时间段时长的本发明在再生过程中出水的pH值一直保持稳定较低范围内，能有效防止双极膜电辅助去离子装置结垢堵塞。而且通过本发明的再生方法对双极膜电辅助去离子装置进行再生，能使脱盐率维持在较高水平，从而大幅度提高双极膜电辅助去离子装置的使用寿命。
一种双极膜电辅助离子装置及其再生出水控制方法

[发明专利]一种直线等离子体实验装置-CN202011100888.8在审
发明人：桑超峰;孙长江;王奇;叶灏;王越 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2020-10-15 - 公布日： 2020-12-25 - 主分类号： G09B23/06 文献下载
摘要：本发明公开一种直线等离子体实验装置，包括等离子体源、等离子体源室、辅助加热室、靶室、材料分析交换室和送样单元，等离子体源室、辅助加热室、靶室和材料分析交换室均连接有分子泵；等离子体源、等离子体源室、辅助加热室和靶室的外部均设置磁体线圈；辅助加热室内设置天线，天线连接有加热电源，天线为能够允许等离子束穿过的环形，天线固定于辅助加热室的内壁上。本发明的直线等离子体实验装置，具备等离子体实验功能，在等离子体源室与靶室之间设置了辅助加热室，能够对等离子体源产生的等离子体进行二次加热，提供的环境能够充分研究等离子体在整个刮削层和偏滤器中的输运、脱靶
一种直线等离子体实验装置

[发明专利]一种辅助调节电压AC的施加方式-CN201711208700.X有效
发明人：肖育;姚如娇;姜健;顾义畅;丁正知;朱勇勇 -专利权人：上海裕达实业有限公司
申请日： 2017-11-27 - 公布日： 2021-05-07 - 主分类号： H01J37/248 文献下载
摘要：本发明公开了一种辅助调节电压AC的施加方式，在传统线性离子阱电信号施加方式中添加辅助交流信号AC2；所述的辅助信号AC2的波形为频率一定的正弦波或方波，其幅值；所述辅助信号AC2施加的时间段设定为离子冷却阶段或者离子碰撞诱导解离阶段可以通过以下三种方式实现：1)、在非离子出射方向的电极上施加辅助信号AC2；2)、在离子出射方向的电极上施加辅助信号AC2；3)在离子阱的四个电极上施加双路辅助信号AC2和AC3。本发明的方法能有效地提高离子冷却效果和离子碰撞诱导解离的效率，进而提高线性离子阱的分析性能。
一种辅助调节电压 ac 施加方式

[发明专利]辅助电源装置-CN200610115721.2无效
发明人：饭岛刚;小川和也 -专利权人： TDK株式会社
申请日： 2006-08-11 - 公布日： 2007-02-14 - 主分类号： H04M1/02 文献下载
摘要：本发明的辅助电源装置(100)，具备：辅助用锂离子二次电池(20)，与辅助用锂离子二次电池(20)连接并从外部的充电器(200)接收电力的充电用连接器(40)，与辅助用锂离子二次电池(20)连接并将辅助用锂离子二次电池(20)的电力供给外部的便携机器(1)的供给用连接器(50)，辅助用锂离子二次电池(20)的正极活性物质层和负极活性物质层的厚度分别为10～40μm。
辅助电源装置

[实用新型]一种真空镀膜机的离子辅助装置-CN202121160503.7有效
发明人：杨明政 -专利权人：中山市兴盛光学五金有限公司
申请日： 2021-05-27 - 公布日： 2021-11-23 - 主分类号： C23C14/32 文献下载
摘要：本实用新型属于真空镀膜机技术领域，具体涉及一种真空镀膜机的离子辅助装置，包括离子辅助装置保护罩，所述离子辅助装置保护罩的内部设置有离子蒸发装置，所述离子蒸发装置的一侧固定设有安装架，所述安装架的顶部设置有粒子发射源，本实用新型设置了相互配合的粒子发射源、主导链接管、离子蒸发装置和离子辅助装置保护罩，即通过控制器设置需要输出流量，控制系统会依据控制器设置需要输出流量计算离子辅助装置所需要的电流，然后通过控制器自动传送给离子发装置，通过这样的设置让离子辅助装置减少发热小、减少环境影响、无污染，可极大提升膜层的稳定性、附着力、致密度。
一种真空镀膜离子辅助装置

[实用新型]一种直线等离子体实验装置-CN202022290972.2有效
发明人：桑超峰;孙长江;王奇;叶灏;王越 -专利权人：大连理工大学
申请日： 2020-10-15 - 公布日： 2021-04-06 - 主分类号： G09B23/06 文献下载
摘要：本实用新型公开一种直线等离子体实验装置，包括等离子体源、等离子体源室、辅助加热室、靶室、材料分析交换室和送样单元，等离子体源室、辅助加热室、靶室和材料分析交换室均连接有分子泵；等离子体源、等离子体源室、辅助加热室和靶室的外部均设置磁体线圈；辅助加热室内设置天线，天线连接有加热电源，天线为能够允许等离子束穿过的环形，天线固定于辅助加热室的内壁上。本实用新型的直线等离子体实验装置，具备等离子体实验功能，在等离子体源室与靶室之间设置了辅助加热室，能够对等离子体源产生的等离子体进行二次加热，提供的环境能够充分研究等离子体在整个刮削层和偏滤器中的输运、
一种直线等离子体实验装置

[发明专利]双极膜电辅助去离子装置再生方法及双极膜电辅助去离子装置-CN202110617635.6在审
发明人：陈小平;吕苏;董红晨;郝楠;黄建波;晏博 -专利权人：广东栗子科技有限公司
申请日： 2021-06-03 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： C02F1/44 文献下载
摘要：一种双极膜电辅助去离子装置再生方法及一种使用该双极膜电辅助去离子装置再生方法进行再生的双极膜电辅助去离子装置，在双极膜电辅助去离子装置再生时通过控制再生用水的TDS值，使再生时的电流值提高。现有技术的双极膜电辅助去离子装置再生不会对再生用水进行水质检测，为了提高再生质量，一般认为直接使用纯水通入双极膜电辅助去离子装置，能提高双极膜电辅助去离子装置再生的效果。本发明通过控制再生用水的TDS值提高再生时的电流值，本发明能使双极膜电辅助去离子装置保持在较高电流下进行再生，从而大幅提高再生效率并减少再生时间，同时减少废水的产生。
双极膜电辅助离子装置再生方法

[发明专利]一种金属离子源-CN200410026305.6无效
发明人：赵玉清;沈伯礼;赵鑫;朱克志;李冬梅 -专利权人：西安交通大学
申请日： 2004-07-06 - 公布日： 2005-03-16 - 主分类号： C23C14/48 文献下载
摘要：本发明涉及一种金属离子源，能够提高高密度金属元素离子的金属离子源。本发明在装置的阴极上增加辅助阴极，辅助阴极突出在阳极区内，并与阳极构成一个放电室，在辅助阴极下方设置环形磁铁和磁铁，磁铁置在环形磁铁内，两磁铁连接在阴极上。辅助阴极采用需要的金属元素材料制成，当需要某种金属元素时，安装上用该材料制备的辅助阴极和磁铁，构成磁控溅射源，该辅助阴极即增大了金属元素的溅射产额，保护了原有阴极不被损坏，延长离子源的使用寿命，使用非常方便当需要采用气体离子时，将辅助阴极下方设置环形磁铁和磁铁去掉即可。利用该源既可获取气体元素离子又可获取不同高密度金属元素离子，可以利用一个离子源满足多种元素离子的注入需要。
一种金属离子源

[发明专利]掩膜板、掩膜组件及掩膜板制作方法-CN201810457657.9有效
发明人：刘明星;王徐亮;高峰;张玄;甘帅燕 -专利权人：昆山国显光电有限公司
申请日： 2018-05-14 - 公布日： 2019-10-11 - 主分类号： C23C14/04 文献下载
摘要：本发明涉及一种掩膜板、掩膜组件及掩膜板制作方法，该掩膜板用于张紧焊接于支撑框架上，掩膜板为电铸掩膜板，掩膜板包括蒸镀区、非蒸镀区和用于与支撑框架焊接的焊接区，至少在焊接区内掺杂有辅助离子，以提高焊接区的焊接性能，辅助离子的焊接性能优于制作掩膜板用电铸液中的抗腐蚀离子的焊接性能。上述掩膜板中，至少在焊接区内掺杂辅助离子，以提高焊接区的焊接性能，辅助离子的焊接性能优于制作掩膜板用电铸液中抗腐蚀离子的焊接性能。由于辅助离子的焊接性能较好，将辅助离子掺杂到焊接区内后，提高和焊接内焊接性能较好的离子的含量，进而提高了焊接区的焊接性能，保证掩膜板与支撑框架的焊接效果。
掩膜板焊接性能辅助离子焊接焊接区支撑框架离子掺杂掩膜组件抗腐蚀制作蒸镀铸液电铸张紧保证

[发明专利]一种双极膜电辅助去离子装置及其提升再生效率的方法-CN202110617647.9在审
发明人：陈小平;吕苏;董红晨;郝楠;黄建波;晏博 -专利权人：广东栗子科技有限公司
申请日： 2021-06-03 - 公布日： 2022-12-06 - 主分类号： C02F1/42 文献下载
摘要：一种提升双极膜电辅助去离子装置的再生效率的方法及采用该再生方法的双极膜电辅助去离子装置，对双极膜电辅助去离子装置施加大于双极膜电辅助去离子装置的水解离启动电压的再生电压进行再生。本发明的再生电压大于水解离启动电压，从而使双极膜电辅助去离子装置的水进行电解生成大量的氢离子和氢氧根离子，从在再生过程中再生水的内部的离子含量增加，从而保持在较高电流值下进行再生，从而大幅提高再生效率并减少再生时间
一种双极膜电辅助离子装置及其提升再生效率方法

[发明专利]CMP浆料的辅助剂-CN200780012579.1有效
发明人：李基罗;金种珌;洪瑛晙 -专利权人： LG化学株式会社
申请日： 2007-04-12 - 公布日： 2009-04-22 - 主分类号： B24D3/34 文献下载
摘要：本发明公开了一种辅助剂，该辅助剂用于使用磨粒同时抛光阳离子带电材料和阴离子带电材料的工艺中，该辅助剂吸附在所述阳离子带电材料上从而抑制该阳离子带电材料被抛光，致使所述阴离子带电材料的抛光选择性提高，其中，所述辅助剂包含具有芯-壳结构且具有小于所述磨粒粒度的纳米级粒度的聚合物颗粒，该聚合物颗粒的表面为阴离子带电的。本发明还公开了包含上述辅助剂和磨粒的CMP(化学机械抛光)浆料。
cmp 浆料辅助剂

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